トリケミカル研究所は何で稼いでいる？

３ 【事業の内容】
当社グループの事業は、半導体等製造用高純度化学化合物事業並びにこれらの付帯業務の単一セグメントであります。
当社グループは、当社、連結子会社（三化電子材料股份有限公司）、持分法適用関連会社（SK Tri Chem Co., Ltd.・㈱エッチ・ビー・アール・安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司）、非連結子会社（上海特李化学科技有限公司）の６社で構成されております。
連結子会社三化電子材料股份有限公司は、台湾での高純度化学化合物の開発・製造・販売を行うことを目的として設立された会社であります。
関連会社SK Tri Chem Co., Ltd.はSK Materials Co., Ltd.(現SK Inc.)との合弁で設立された会社であり、韓国における高純度化学薬品の開発・製造・販売を行っております。
関連会社㈱エッチ・ビー・アールはテイサン㈱（現日本エア・リキード(同)）との合弁で設立された会社であり、当社グループの取り扱い製品であります臭化水素の製造・販売を行っております。
関連会社安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司は合肥安德科銘半導体科技有限公司との合弁で設立された会社であり、中国における高純度化学薬品の開発・製造・販売を行う予定であります。
非連結子会社上海特李化学科技有限公司は、中国での円滑な営業活動推進を目的として設立された会社であります。
当社と連結子会社、非連結子会社、及び関連会社３社は相互に連携を保ちながら、主として半導体メーカー向けの高純度化学薬品の開発・製造・販売を行っております。
半導体デバイス製造においては、シリコンのウェハ(注１)上に複雑な電子回路を構成するため、多様な工程を経て作られております。この工程はウェハプロセスと呼ばれておりますが、その中の様々な場面で、化学反応を利用した加工がなされており、当社グループの製品は主にウェハの表面上に薄膜を化学反応を用いて堆積させる「CVD」、薄膜の不必要な部分を腐食させて削り取る「エッチング」、ウェハ上にトランジスタ(注２)やダイオード(注３)等を作るためにウェハの内部に不純物を注入させる「拡散」といった多岐にわたる工程において用いられております。
また、これらに供される材料は、半導体デバイスの微細化に伴い、製造プロセス変更や材料の持つ特性の限界、化学物質を取り巻く法規制の強化等の要因により、それまで使用されていた材料から新しい材料への変遷が行われることもあります。当社グループは、この材料変更の要求に対し、材料工学・応用化学の観点から常に新しい材料の開発・提案を行い新材料の供給を行っております。
設立当初は光ファイバー製造に供される高純度材料の供給を行うことで成長を遂げてまいりましたが、現在では、それに加えて同様な材料を使用し、ニーズの変化が常に起こる半導体製造用材料や、デバイスの原理的に半導体と共通点の多い太陽電池製造用材料の供給を行っております。また、高純度材料や新規化学材料の試作依頼など開発に供される材料の開発・販売も同様に事業の一部となっております。
(注)１：ICチップの製造に使われる半導体でできた薄い基板。シリコン製のものが多く、これを特に「シリコンウェハ」と呼びます。
２：増幅機能を持った半導体素子であります。
３：片方向にのみ電流を流す性質を持った半導体素子であります。

事業系統図は、次のとおりであります。

製品事業
当社グループが、開発・製造・販売している主な半導体・太陽電池向け製品は、主に以下の３種類であり、また、製品製造・開発の過程において、当社グループの得意とする以下の４つの作業を付加することにより製品の高付加価値化を図り、他社との差別化を図ります。
＜製品種類＞
① CVD材料
② ドライエッチング材料
③ 拡散材料
＜付加作業の種類＞
① 化学薬品用容器の設計販売（化学関連法規等をクリアーした化学薬品輸送用タンクの設計及び販売）
② 化学薬品の受託合成（新規薬品の受託合成）
③ 受託実験（共同開発高純度化学薬品の開発並びに薬品を用いたCVDに関わる受託実験）
④ その他付帯サービス（化学薬品の物性調査や分析等のサービス）

①CVD材料
CVD（Chemical Vapor Deposition:化学気相成長）法とは、化学材料の蒸気を熱等により分解しウェハ上に堆積させる技術であり、CVD材料とはその際に用いられる化学材料を指します。堆積させる薄い膜は絶縁膜や金属・導体膜・半導体膜であり、使用される材料は多岐にわたっております。
また、半導体の微細化・高性能化を進めるために、従来の製法・材料では解決できない電気的な問題を解決するための誘電率の低い膜が得られる(low－k)材料や逆に誘電率の高い膜が得られる(high－k)材料・物理的な問題を解決するための金属窒化膜材料等といった新たなニーズに対応するための材料をいち早く提案し、安定供給するのが当社グループの特長であります。

②ドライエッチング材料
主に腐食による化学反応により、CVD法で堆積させた膜等の不要な部分を削り取り、ウェハ表面を凹凸に加工する技術であります。このプロセスに供される材料は、従前は特定フロン(注)に代表される材料を使用しておりましたが、環境問題や半導体の微細化により変わりつつあります。微細化が進むとCVD法等で使用される薄膜の材料も変更されることから、ドライエッチングに使用される化学材料も変更されます。当社グループの取り扱い製品の１つである臭化水素（化学式：HBr）は環境問題・微細化といった問題をクリアーする材料であります。

(注)：オゾン層保護のため国際条約により規制の対象となっているフロン。

③拡散材料
ウェハ上等にトランジスタを形成する際、不純物を注入する技術があります。イオン打ち込み法(注１)と熱拡散法(注２)の２種類がありますが、いずれも不純物を注入するということでは同様であります。
ここで使用される材料は、周期律表のⅣ族(注３)元素であるシリコンの持つ性質を変えることが求められるため、性質の異なる不純物である必要があります。具体的にひとつはⅢ族(注３)の元素であるホウ素・ガリウム・インジウム等で、もうひとつはⅤ族(注３)の元素であるリン・ヒ素・アンチモン等であります。
また、光ファイバーでも同様に光の拡散を制御する目的でゲルマニウムに代表される不純物を使用しております。

当社グループでは、これらに関わる材料を多様にラインナップするとともに、材料の性質や顧客の細かな要求に対応した容器に封入し出荷しております。また、既存製品の単なる販売にとどまらず、新規化学薬品の受託合成や、当社グループの製品を顧客が実際に使用する条件下で性質・性能等の評価を行う各種受託実験も行っており、これも当社グループの大きな特長であります。

(注)１：原子をイオン化して加速し、固体中に打ち込む方法。
２：熱的な方法で原子を固体中に注入する方法。
３：元素の周期律表の縦列に並ぶものは概ね性質が類似しており、Ⅰ～Ⅷまでの族に分類されます。

１ 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】
文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。

(1) 経営方針
当社は、1978年12月の設立以来、「科学技術を通じて最先端テクノロジーの発展に貢献し、人々にゆとり創造を実現する」を経営理念として掲げ、以下の内容を役職員一丸となって取り組んでおります。
① 当社は、開発力の向上及び生産技術の改善に取り組み、顧客により良い製品及び技術を提供することで顧客満足の最大化を目指してまいります。
② 当社は、持続した健全性・成長性を兼ね備えた事業に取り組み、企業価値の最大化に努めてまいります。
③ 最先端・高純度化学材料の開発・製造・販売を事業としている当社は、「化学物質が環境に与える影響の大きさ」を正しく認識し、顧客・社員の安全性向上や健康増進を常に念頭に置き、かつ、「環境保全活動への取り組み」を経営の最重要課題の一つと位置づけ、事業活動を行うことといたします。
④ 当社は、従業員一人ひとりが高い誇りと責任感をもって働くことの出来る公正かつ開かれた企業風土を目指してまいります。

(2) 目標とする経営指標
当社グループは、安定した売上成長を図り、規模の拡大を目指しながらも、経営の効率化を推し進めることで確実に利益をあげられる強靭な企業体質の構築に努めてまいりたいと考えております。そのため売上高及び売上高営業利益率を重視すべき経営指標とし、第51期(2029年１月期)を最終年度とする中期経営計画においては、３年間で売上高を約33％増加させるとともに、売上高営業利益率は25％程度を目標としております。

(3) 経営環境及び対処すべき課題
当社グループの主要な販売先であります半導体市場におきましては、大規模データセンター投資の継続に加え、AI機能搭載端末の増加等による裾野の広がりが半導体需要拡大に寄与すると見込んでおり、半導体製造用化学化合物の需要も増加していくと見込んでおります。
当社グループといたしましては、このような環境下、より一層経費削減に取り組み、新規材料の市場投入と既存の材料の生産性向上を併せて図ることで、将来的な収益力を確固たるものにする必要があると考えております。品質管理体制の強化や環境負荷の軽減、作業安全性の向上等サステナビリティの追求に関する取り組みにつきましても引き続き推進してまいります。
当社グループでは第51期(2029年１月期)を最終年度とする中期経営計画において、売上高営業利益率で25％程度を目標とし、計画最終年度の売上高は317億円としながら、営業利益は86.5億円とする目標の達成を目指してまいります。
また、半導体市場の著しい成長が見込まれる中国を含む東アジア市場における中長期的な成長を達成するため、日本においては、南アルプス事業所を基軸とした生産拡大を図ってまいります。台湾においては、子会社三化電子材料股份有限公司の銅鑼工場における生産体制の更なる増強を図ってまいります。中国においては、子会社上海特李化学科技有限公司にて現地での円滑な営業活動の推進並びに関係会社安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司の工場立上げ準備を推進してまいります。韓国においては、関係会社SK Tri Chem Co., Ltd.と中長期的なグループ全体のシナジーを強化し、事業の効率化、新規顧客の獲得を図ることを継続した戦略の柱としてまいります。
今後も継続的な海外進出や設備増強等を可能とすべく、財務体質の健全化を推し進め、強固な経営基盤の構築に努めていくとともに、コーポレートガバナンス体制をより一層整備・強化し、経営の透明性と効率性を高めることと、企業倫理、法令等の遵守にも誠実に取り組んでいくことで企業価値の向上に努めてまいります。

３ 【事業等のリスク】
以下において、当社グループの事業展開上のリスク要因となる可能性があると考えられる事項を記載しております。また、当社グループとしては必ずしも事業上のリスクとは考えていない事項についても、投資判断、あるいは当社グループの事業内容を理解する上で重要と考えられる事項については、投資者に対する積極的な情報開示の観点から記載しております。なお、文中における将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。
当該リスクが顕在化する可能性の程度や時期、当該リスクが顕在化した場合に当社グループの経営成績等に与える定量的な影響について、合理的に予見することが困難であるものについては記載しておりません。

(1) 特定の業界に依存していることについて

① 半導体業界への依存について
当連結会計年度の売上高は半導体市場向けが高い割合を占めており、半導体業界の動向に大きく影響される傾向にあります。当連結会計年度において、日本、中国、台湾、韓国の大手半導体デバイスメーカー向け売上高が過半(ディーラー経由での販売も含む)を占めており、これらのメーカーの生産動向が当社グループの財政状態及び経営成績に影響を及ぼす可能性があります。
また、半導体製造前工程のCVD工程及びエッチング工程を得意とする当社グループは、シリコンウェハの生産動向に特に大きく影響を受ける傾向にあります。
当社グループでは、そうしたリスクを防止あるいは分散するため、半導体市場のうち、刻々と変化する先端開発分野における変化を先取りするとともに、市況サイクルの異なる国内市場と海外市場のバランスを取りつつ、他方、これまでの半導体業界依存の軽減のため、新規分野に向けた材料の開発等にも注力し対処していく所存であります。
しかしながら、今後市況が大きく変化し、縮小傾向に転じた場合、又は業界の技術革新に当社グループが追随出来ない場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

② 特定の製品への依存について
当連結会計年度における当社グループの売上高については、半導体向け材料の中でも、特に高誘電率絶縁膜材料といわれる分野への依存度が高くなっております。当社グループでは高誘電率絶縁膜材料以外の新規材料の開発、拡販にも努めておりますが、当分野の売上が減少した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与えるおそれがあります。

③ 競合の状況について
当社グループは、最先端の半導体に用いられる高純度の化学材料において、技術的な優位性やノウハウを保持していることや、ニッチな市場であることから、現状、競争相手となる企業は少ないものと考えております。
しかしながら、今後、新規に当社グループと競合する分野、製品に他企業が参入した場合、競争の激化によって当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

④ 原材料の市況変動について
当社グループの製品は、その原料に市況変動に左右される化学薬品や特殊な金属材料を多く使用し、他方、金属容器については、同様に市況変動に左右されるステンレス材料を使用しております。
当社グループでは、市況及び顧客の需要に基づいた販売計画に基づいて、安定供給を可能とするための在庫水準を適正な価格で確保すべく原料調達を進めておりますが、世界の経済情勢や政治の動向等により、急激に購入価格が変動するとともに入手が困難になる可能性があります。
今後、販売計画を達成するために必要な主要原料が確保できない場合は、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。
また、購入価格が急激に上昇した際に販売価格への転嫁ができない場合、もしくは時間を要する場合や、逆に購入価格が急激に下降した際に相当量の在庫を有していた場合等においても当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(2) 事業遂行上のリスクについて

① 為替変動リスクについて
当社グループは、製品等の輸出及び原材料等の輸入において外貨建取引を行っております。当連結会計年度における総売上高に占める海外ユーザー向けの売上高は、概ね80％となっており、その一部は外貨建の決済条件となっております。当社では財務部門において為替相場を継続的にモニタリングしており、適宜必要に応じて為替予約等を行っておりますが、急激な為替変動があった場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。
また、海外関係会社の業績、資産及び負債につきましては、現地通貨で発生したものは円換算したうえで連結財務諸表を作成しておりますが、当該現地通貨の為替変動があった場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

② 品質管理について
当社グループは、ISO9001品質マネジメントシステムの採用で、社内生産に関しては当然のこと、主たる協力会社にも同様の体制整備を要請しながら、総合的な品質保証体制と継続的な改良・改善体制の運用に努めてまいりました。そのことにより、不良品発生の低減に注力しておりますが、クレーム発生の可能性は皆無ではありません。また、製造物賠償に関してはＰＬ保険に加入しており、現時点におきましては、企業の存続やユーザーの事業継続を脅かすような甚大なクレームや製造物責任につながる事態は考えられません。しかしながら、万一そうした事態が発生した場合には、クレームに対する補償、対策が製造原価の上昇を招き、当社グループのブランドの評価、財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

③ 人材の確保について
当社グループは刻々変化する市場環境に対応して、常時、高度な研究開発を継続していく必要があり、そのため優秀な人材の確保と維持は事業展開上非常に重要な事項となっております。そのため、当社グループにおいては社内教育の充実、海外派遣やジョブローテーション等による人材育成体制の強化に努めるとともに、役職員全員が安全かつ安心して働ける職場環境の整備に努めておりますが、必要とする人材の獲得に困難が発生したり、あるいは当社グループの人材が社外に流出した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

④ 顧客情報の漏洩及び技術ノウハウの流出について
当社グループは、半導体メーカーの最先端の半導体に係る製造工程や材料の特性等の情報を知った上で、高純度の化学材料の開発、提案を行っております。当社グループでは不正アクセス等への物理的、システム的なセキュリティ対策を講じるとともに、営業秘密や情報セキュリティに関する社内規程を整備し、社員教育を徹底するなど、当社グループの情報管理体制の維持・強化に努めております。しかしながら当社グループの従業員が事業上知り得た顧客の技術情報を外部に漏洩した場合、当社グループの信用の失墜による取引関係の悪化や、技術情報の漏洩による損害に対する賠償を請求されること等により、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。
また、当社グループが製造する高純度化学材料は、創業以来蓄積してきた高純度化や安定生産に係るノウハウが重要な要素となっており、当社グループが保有する高純度化のノウハウ等に係る情報が、何らかの形で社外に流出した場合、技術的な優位性を維持できなくなることにより、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を及ぼす可能性があります。

⑤ 仕入先への高い依存度について
当社グループでは高純度化学材料を充填するための容器を外部からの仕入により調達しておりますが、そのうち、当社グループの販売先である半導体メーカー等の半導体製造装置に合わせた特殊仕様の容器については、主に㈱下山工業から仕入れており、同社との取引関係が何らかの理由により解消となった場合、一時的に当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。
また、高誘電率絶縁膜材料を含む、当社グループの販売する複数の主要製品の合成に用いられる有機リチウム化合物の約８割を、アジアリチウム㈱から仕入れております。当社グループは安定的に原材料を調達するため、複数仕入先を確保すること及び適切な在庫を保有することに努めておりますが、供給不足、納入の遅延や仕入額の高騰等の問題が発生した場合、当社グループの生産活動の停止等により、財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

⑥ カントリーリスクについて
当社グループは台湾及び中国に子会社、韓国及び中国に合弁会社を有しており、台湾と韓国の最終ユーザー向け販売の増加及び、中国向け販売の増加も今後の成長要因と考えております。特に台湾子会社は工場の稼働も本格的となり、より重要な生産拠点となり、輸送コストの削減や台湾半導体メーカーの期待に寄り添えることができたと認識しております。
当社グループは、事業展開をしている各国・各地域におけるカントリーリスクに係る情報を収集するとともにモニタリングを実施しており、地政学要素を見極めながら、安定的な事業運営に向けて取り組んでおりますが、上記地域において、法律や規制の変更、テロ・戦争・その他の要因による社会的混乱等が生じた場合、当社グループの事業活動に支障が生じ、財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

⑦ 関係会社の業績変動について
当社グル―プは、当社と連結子会社１社、非連結子会社１社、関連会社３社で構成されております。当社グループではグループ間の人的・物的な連携や情報共有等によりグループ各社の事業リスクの軽減や対応に努めておりますが、グループ各社の事業の遂行が順調に進まない場合や、予期せぬ事象等により、これら関係会社の業績に大きな変動が生じた場合、財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

⑧ 物流リスクについて
当社グループは、事業を営むに当たり、直接及び間接的に原材料・部材等の輸入を行っているとともに、海外顧客への輸出により販売を行っておりますが、現在、輸出入に際しては、燃料費の上昇等を背景とした輸送費の増加が生じております。今後、物流環境がさらに悪化し、輸送費等の関連費用が増加した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(3) 研究開発について
当社グループは、既存製品の改良や新規製品の研究開発等により、研究開発費、それに関連する設備投資が先行して発生しております。そうしたリスクを防止あるいは分散するため、研究開発段階でのマーケティングに注力してリスクを分散するとともに、研究開発プロジェクト管理の徹底を図り、他企業との提携を積極的に推進しております。
しかしながら、多大な研究開発費や設備投資費用を投入したにもかかわらず、製品開発等が軌道に乗らなかった場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(4) 法的規制等について
当社グループの製造する製品には、毒物・劇物が含まれ、またそれらの製品を製造する際に使用する材料にも毒物・劇物が含まれております。また、当社グループは国内での営業取引のみならず、外国企業との輸出入取引を行っている関係上、日本及び諸外国の法令等による諸規制を受けております。それらの製品及び材料取扱を規制する法律・法令等の主なものとしましては、「毒物及び劇物取締法」、「消防法」、「高圧ガス保安法」、「土壌汚染対策法」、「特定化学物質の環境への排出量の把握等及び管理の改善の促進に関する法律」、「化学兵器の禁止及び特定物質の規制等に関する法律」等があります。
当社グループでは、国内外の法令等の遵守並びに運用状況・改訂動向に関する情報収集に努めており、また、当社グループにおきましてはISO14001環境マネジメントシステムにより、周辺環境への配慮を行っていることで、現在のところ主要な事業活動の前提となる事項についてその継続に支障を来す要因は発生しておりませんが、現在又は将来の法律及び諸規制を遵守できなかった場合には、当社グループが債務を負ったり、免許・届出・認可等の取り消しや一定期間の停止を含む罰則の適用を受けたり、事業の中断を含む公的命令を受けたり、その後の事業の継続に障害となる信用の低下を被ったりすること等により、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

（主な許認可の状況）

許認可等の名称

有効期限

規制法令

法令違反の要件及び
主な許認可取消事由

危険物設備の設置許可
(製造所及び貯蔵所)

なし

消防法

許可なく製造所、貯蔵所又は取扱所の位置、構造又は設備を変更した場合、定める技術上の基準を満たしていない場合等には、製造所、貯蔵所又は取扱所の許可を取り消し、又は期間を定めて、その使用を停止させられる。
(消防法第12条第２項)

毒物劇物一般販売業登録

2027年12月20日

毒物及び劇物取締法

登録業者が、その有する設備を法令に定める基準に適合させるために監督官庁等から命じられた措置を取らない場合や、規制法令に違反した場合等には、毒物劇物の販売業、製造業、輸入業の登録を取り消し、又は期間を定めて、業務の全部若しくは一部を停止させられる。
(毒物及び劇物取締法第19条)

毒物劇物製造業登録

2029年12月20日

毒物劇物輸入業登録

2030年７月９日

また、将来において法的規制の強化等がなされ、その対応のための生産コスト等が増大した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(5) 知的財産権等について
当社グループの事業分野に関する知的財産権については、特許権を取得しております。当該知的財産については、製品化に至る種々のノウハウと密接不可分の関係にあり、知的財産権を利用されることにより当社グループの業績が重大な影響を受ける可能性は少ないと考えております。しかしながら、万が一類似製品が登場した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。
他方、当社グループは第三者の知的財産権を侵害しないよう入念な事前調査を行っておりますが、当社グループの認識の範囲外のことで、これを侵害する可能性があり、これにより、当社グループが第三者と知的財産権をめぐって損害賠償、対価の支払あるいは使用差し止め等を請求され、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(6) 災害等について
当社グループの生産拠点である本社工場及び上野原第二工場は、山梨県上野原市の工業団地に集中しております。当社グループでは、山梨県南アルプス市に南アルプス事業所及び台湾子会社である三化電子材料股份有限公司において工場を建設する等、生産拠点の分散化に努めておりますが、地震等の自然災害や火災等の事故によって、本社工場と上野原第二工場が同時に被害を受け、設備が壊滅的な損害を被る可能性があります。この場合は当社グループの操業が中断し、生産及び出荷が遅延することにより売上高が低下し、さらに生産拠点等の修復のために多額の費用を要することとなる場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を与える可能性があります。

(2) 【役員の状況】

① 役員一覧
a　2026年４月24日（有価証券報告書提出日）現在の当社の役員の状況は、以下のとおりです。
 男性9名　女性1名　（役員のうち女性の比率10.0％）

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数(株)

代表取締役
会長

竹中　潤平

1940年９月１日

1966年４月

日東弗素工業㈱(現AGCセイミケミカル㈱)入社

1977年１月

㈱高純度化学研究所入社

1978年12月

当社設立 代表取締役社長

2001年４月

当社代表取締役会長

2003年６月

当社代表取締役社長

2009年４月

当社取締役会長

2010年４月

当社取締役相談役

2016年４月

当社代表取締役会長(現任)

(注)３

4,163,840

代表取締役
社長執行役員

太附 聖

1964年10月21日

1987年４月

当社入社

2002年７月

当社営業部長

2004年５月

当社営業本部長

2007年４月

当社取締役営業本部長

2009年10月

㈱エッチ・ビー・アール監査役(現任)

2012年４月

当社専務取締役

2014年４月

当社代表取締役社長

2016年７月

SK Tri Chem Co., Ltd.取締役(現任)

2017年３月

三化電子材料股份有限公司董事(現任)

2022年４月

当社代表取締役社長執行役員　経営全般担当(現任）

2025年４月

サンフロロシステム㈱取締役(現任）

(注)３

306,100

取締役
執行役員

大杉　宏信

1972年８月13日

1995年４月

当社入社

2006年４月

当社製造部長

2017年２月

当社製造・生産技術統括部長

2017年４月

当社取締役製造・生産技術担当

2019年９月

㈱エッチ・ビー・アール代表取締役社長(現任)

2022年４月

当社執行役員　技術部門担当

2023年４月

当社取締役執行役員　技術部門担当(現任)

(注)３

115,000

取締役
執行役員

鈴木　欣秀

1971年7月31日

1994年４月

当社入社

2007年10月

当社経営企画室長

2014年４月

当社管理部長

2017年２月

当社総務・システム管理部統括部長

2018年４月

当社取締役総務・システム管理・品質管理担当

2021年２月

当社取締役経理・財務・購買担当

2022年３月

SK Tri Chem Co., Ltd.取締役(現任)

2022年４月

当社執行役員　管理部門担当

2022年４月

三化電子材料股份有限公司董事(現任)

2024年４月

当社取締役執行役員　管理部門担当(現任)

(注)３

135,700

取締役
(注)１

橋本　利久

1978年２月３日

2006年10月

第二東京弁護士会登録

2006年10月

中外合同法律事務所入所

2016年５月

当社顧問弁護士

2023年４月

当社取締役(現任)

2024年12月

JMP法律事務所参画　パートナー弁護士(現任)

(注)３

―

取締役
(注)１

飯田 仁

1958年３月２日

1981年４月

古河鉱業㈱(現古河機械金属㈱)入社

2003年７月

古河機械金属㈱電子材料本部営業部長

2005年３月

古河電子㈱取締役営業部長

2005年６月

いわき半導体㈱取締役

2014年４月

FD Coil Philippines, Inc. President

2016年６月

古河電子㈱代表取締役社長
いわき半導体㈱代表取締役副社長

2018年６月

古河機械金属㈱執行役員

2023年６月

古河電子㈱取締役会長
古河機械金属㈱監事

2024年４月

当社取締役(現任)

(注)３

―

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数(株)

取締役
(注)１

加藤　京子

1963年４月６日

1986年４月

当社入社

1991年４月

エコラボ㈱(現エコラボ(同))入社　シニアケミスト

1996年５月

シグマアルドリッチジャパン㈱(現シグマアルドリッチジャパン(同))入社　マーケティングコミュニケーショングループリーダー

2005年３月

ライフテクノロジーズジャパン㈱入社　マーケティングコミュニケーションマネージャー

2010年８月

㈱エービー・サイエックス入社
リージョナルマーケティングマネージャー

2013年６月

ヴァーティカルジャパン(同)入社
シニアカスタマーサクセスマネージャー

2014年９月

ピツニーボウズジャパン㈱入社　広報部長

2015年11月

ブルカージャパン㈱入社　マーケティング
コミュニケーションマネージャー(現任)

2024年４月

当社取締役(現任)

(注)３

―

常勤監査役

高松　基晴

1961年５月２日

1984年４月

東海ゴム工業㈱(現住友理工㈱)入社

1988年１月

㈱東日本イノアック入社

1992年１月

富士通カンタムデバイス㈱(現住友電工デバイス・イノベーション㈱)入社

2003年２月

ケル㈱入社

2004年９月

当社入社　品質管理部長

2017年２月

当社開発部長

2018年４月

当社監査役(現任)

(注)４

97,500

監査役
(注)２

坂倉　宏次

1965年３月13日

1992年10月

太田昭和監査法人(現EY新日本有限責任監査法人)入所

1997年４月

公認会計士登録

2005年１月

税理士登録

2012年２月

㈱坂倉経営研究所代表取締役(現任)

2013年１月

公認会計士坂倉事務所所長(現任)

2024年４月

当社監査役(現任)

(注)５

―

監査役
(注)２

鄭 永吉

1962年11月３日

1992年４月

富士通SSL入社

1993年４月

日立ハイテク韓国入社

2013年11月

㈱スマテック代表取締役(現任)

2024年４月

当社監査役(現任)

(注)５

―

計

4,818,140

(注)１ 取締役橋本利久、飯田仁、加藤京子は、社外取締役であります。
２　監査役坂倉宏次、鄭永吉は、社外監査役であります。
３ 2024年１月期に係る定時株主総会終結の時から2026年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
４　2022年１月期に係る定時株主総会終結の時から2026年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
５　2024年１月期に係る定時株主総会終結の時から2028年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
６　本書提出日現在の執行役員は９名であり、取締役兼務者を除く執行役員は以下の記載のとおりであります。
 執行役員 柴田　雅仁 三化電子材料股份有限公司 董事長
 執行役員 宇田川　崇 営業部門（国内・韓国）担当
 執行役員 大平　達也 営業部門（台湾・中国）担当
 執行役員 平木　忠明 安全推進部門担当
 執行役員 田原 彰 品質管理部門担当
 執行役員 三橋 智 開発部門担当
７　上記所有株式数は、2026年１月31日現在の所有株式数を記載しております。

ｂ　2026年４月27日開催予定の定時株主総会の議案（決議事項）として、「取締役７名選任の件」及び「監査役１名選任の件」を上程しており、当該決議が承認可決されますと、当社の役員の状況及びその任期は、以下のとおりとなる予定です。
なお、役員の役職等については、当該定時株主総会の直後に開催が予定される取締役会の決議事項の内容（役職等）を含めて記載しております。
男性9名　女性1名　（役員のうち女性の比率10.0％）

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数(株)

代表取締役
会長

竹中　潤平

1940年９月１日

1966年４月

日東弗素工業㈱(現AGCセイミケミカル㈱)入社

1977年１月

㈱高純度化学研究所入社

1978年12月

当社設立 代表取締役社長

2001年４月

当社代表取締役会長

2003年６月

当社代表取締役社長

2009年４月

当社取締役会長

2010年４月

当社取締役相談役

2016年４月

当社代表取締役会長(現任)

(注)３

4,163,840

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数(株)

代表取締役
社長執行役員

太附 聖

1964年10月21日

1987年４月

当社入社

2002年７月

当社営業部長

2004年５月

当社営業本部長

2007年４月

当社取締役営業本部長

2009年10月

㈱エッチ・ビー・アール監査役(現任)

2012年４月

当社専務取締役

2014年４月

当社代表取締役社長

2016年７月

SK Tri Chem Co., Ltd.取締役(現任)

2017年３月

三化電子材料股份有限公司董事(現任)

2022年４月

当社代表取締役社長執行役員　経営全般担当(現任）

2025年４月

サンフロロシステム㈱取締役(現任）

(注)３

306,100

取締役
執行役員

大杉　宏信

1972年８月13日

1995年４月

当社入社

2006年４月

当社製造部長

2017年２月

当社製造・生産技術統括部長

2017年４月

当社取締役製造・生産技術担当

2019年９月

㈱エッチ・ビー・アール代表取締役社長(現任)

2022年４月

当社執行役員　技術部門担当

2023年４月

当社取締役執行役員　技術部門担当(現任)

(注)３

115,000

取締役
執行役員

鈴木　欣秀

1971年7月31日

1994年４月

当社入社

2007年10月

当社経営企画室長

2014年４月

当社管理部長

2017年２月

当社総務・システム管理部統括部長

2018年４月

当社取締役総務・システム管理・品質管理担当

2021年２月

当社取締役経理・財務・購買担当

2022年３月

SK Tri Chem Co., Ltd.取締役(現任)

2022年４月

当社執行役員　管理部門担当

2022年４月

三化電子材料股份有限公司董事(現任)

2024年４月

当社取締役執行役員　管理部門担当(現任)

(注)３

135,700

取締役
(注)１

橋本　利久

1978年２月３日

2006年10月

第二東京弁護士会登録

2006年10月

中外合同法律事務所入所

2016年５月

当社顧問弁護士

2023年４月

当社取締役(現任)

2024年12月

JMP法律事務所参画　パートナー弁護士(現任)

(注)３

―

取締役
(注)１

飯田 仁

1958年３月２日

1981年４月

古河鉱業㈱(現古河機械金属㈱)入社

2003年７月

古河機械金属㈱電子材料本部営業部長

2005年３月

古河電子㈱取締役営業部長

2005年６月

いわき半導体㈱取締役

2014年４月

FD Coil Philippines, Inc. President

2016年６月

古河電子㈱代表取締役社長
いわき半導体㈱代表取締役副社長

2018年６月

古河機械金属㈱執行役員

2023年６月

古河電子㈱取締役会長
古河機械金属㈱監事

2024年４月

当社取締役(現任)

(注)３

―

取締役
(注)１

加藤　京子

1963年４月６日

1986年４月

当社入社

1991年４月

エコラボ㈱(現エコラボ(同))入社　シニアケミスト

1996年５月

シグマアルドリッチジャパン㈱(現シグマアルドリッチジャパン(同))入社　マーケティングコミュニケーショングループリーダー

2005年３月

ライフテクノロジーズジャパン㈱入社　マーケティングコミュニケーションマネージャー

2010年８月

㈱エービー・サイエックス入社
リージョナルマーケティングマネージャー

2013年６月

ヴァーティカルジャパン(同)入社
シニアカスタマーサクセスマネージャー

2014年９月

ピツニーボウズジャパン㈱入社　広報部長

2015年11月

ブルカージャパン㈱入社　マーケティング
コミュニケーションマネージャー(現任)

2024年４月

当社取締役(現任)

(注)３

―

常勤監査役

渋谷 悟

1965年11月15日

1989年４月

当社入社

2006年６月

当社内部監査室室長

2026年４月

当社監査役(現任)

(注)４

53,300

監査役
(注)２

坂倉　宏次

1965年３月13日

1992年10月

太田昭和監査法人(現EY新日本有限責任監査法人)入所

1997年４月

公認会計士登録

2005年１月

税理士登録

2012年２月

㈱坂倉経営研究所代表取締役(現任)

2013年１月

公認会計士坂倉事務所所長(現任)

2024年４月

当社監査役(現任)

(注)５

―

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数(株)

監査役
(注)２

鄭 永吉

1962年11月３日

1992年４月

富士通SSL入社

1993年４月

日立ハイテク韓国入社

2013年11月

㈱スマテック代表取締役(現任)

2024年４月

当社監査役(現任)

(注)５

―

計

4,773,940

(注)１ 取締役橋本利久、飯田仁、加藤京子は、社外取締役であります。
２　監査役坂倉宏次、鄭永吉は、社外監査役であります。
３ 2026年１月期に係る定時株主総会終結の時から2027年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
４　2026年１月期に係る定時株主総会終結の時から2030年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
５　2024年１月期に係る定時株主総会終結の時から2028年１月期に係る定時株主総会終結の時まで。
６　執行役員は９名であり、取締役兼務者を除く執行役員は以下の記載のとおりであります。
 執行役員 柴田　雅仁 三化電子材料股份有限公司 董事長
 執行役員 宇田川　崇 営業部門（国内・韓国）担当
 執行役員 大平　達也 営業部門（台湾・中国）担当
 執行役員 平木　忠明 安全推進部門担当
 執行役員 田原 彰 品質管理部門担当
 執行役員 三橋 智 開発部門担当
７　上記所有株式数は、2026年１月31日現在の所有株式数を記載しております。

② 社外役員の状況
提出日現在、当社の社外取締役は３名、社外監査役は２名であります。
社外取締役橋本利久氏は弁護士として企業法務に精通しており、当社の法務、コンプライアンスに対して助言をいただくとともに、独立した客観的な立場から当社の経営全般に対する適切な監督機能を果たしていただけるものと期待しております。なお、橋本利久氏との人的、取引関係はありません。
社外取締役飯田仁氏は複数の企業において要職を歴任しており、経営者として豊富な経験と幅広い見識を有しており、当社の経営全般に対する適切な監督機能を果たしていただけるものと期待しております。なお、飯田仁氏との人的、取引関係はありません。
社外取締役加藤京子氏は複数の企業において要職を歴任しており、外資系企業での豊富な経験と幅広い見識を有しており、当社の経営全般に対する適切な監督機能を果たしていただけるものと期待しております。なお、加藤京子氏との人的、取引関係はありません。
社外監査役坂倉宏次氏、鄭永吉氏との人的、取引関係はありません。
また、各社外取締役及び社外監査役は、当社と資本関係のある会社、大株主、主要な取引先の出身者ではありません。なお、当社は株式会社東京証券取引所に対して上記５名を独立役員とする独立役員届出書を提出しております。
当社は、社外役員候補者が、合理的で可能な範囲内で調査した結果、次の各項目のいずれにも該当しないと判断された場合に独立性を有しているものと判断しております。
１．当社及び当社の子会社、関連会社（以下、「当社グループ」）の業務執行者又は過去10年間において当社グ
 ループの業務執行者であった者
２．当社の現在の主要株主又はその業務執行者
３．当社グループが総議決権の10％以上の議決権を直接又は間接的に保有している者又はその業務執行者
４．当社グループの主要な取引先又はその業務執行者
５．当社又はその連結子会社の会計監査人である監査法人に所属する者
６．当社グループから役員報酬以外に多額の金銭その他の財産を得ているコンサルタント、弁護士、公認会

２ 【沿革】

年 月

概 要

1978年12月

無機化学工業製品の製造・精製・販売を目的として神奈川県相模原市(現神奈川県相模原市中央区)に㈱トリケミカル研究所(資本金2,500千円)を設立

1979年12月

光ファイバー用原材料における水分（OH基）の除去に成功、供給を開始

1982年８月

光ファイバー用硼素原材料としての三塩化硼素の合成に成功、供給を開始

1983年２月

三塩化硼素の量産化に成功、半導体用エッチング材料として半導体業界への供給を開始

1984年３月

本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転

1984年９月

化合物半導体材料としての高純度三塩化砒素の供給を開始

1994年１月

東京都江東区(後に東京都港区に移転)に臭化水素製造の目的でテイサン㈱(現日本エア・リキード(同))との合弁で関連会社㈱エッチ・ビー・アールを設立

1994年11月

本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現山梨県上野原市)に移転

2000年10月

本社工場にて「ISO9001」を取得

2007年８月

㈱大阪証券取引所 ニッポン・ニュー・マーケット―「ヘラクレス」に上場

2008年７月

本社工場にて「ISO14001」を取得

2008年11月

山梨県上野原市に上野原第二工場を建設

2010年10月

大阪証券取引所ヘラクレス市場、同取引所ＪＡＳＤＡＱ市場及び同取引所ＮＥＯ市場の各市場の統合に伴い、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場

2011年６月

上野原第二工場にて「ISO14001」を取得

2011年11月

上野原第二工場にて「ISO9001」を取得

2013年７月

東京証券取引所と大阪証券取引所の現物市場の統合に伴い、東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場

2013年12月

大韓民国城南市(後に水原市に移転)に韓国事務所を開設

2016年７月

大韓民国世宗特別自治市に同国における半導体用次世代材料の開発、製造及び販売の目的で、SK Materials Co., Ltd.(現SK Inc.)との合弁で関連会社SK Tri Chem Co., Ltd.を設立

2017年３月

台湾新竹縣竹北市(後に苗栗縣銅鑼郷に移転)に100％子会社の三化電子材料股份有限公司を設立

2018年１月

東京証券取引所市場第一部へ市場変更

2020年７月

三化電子材料股份有限公司が台湾苗栗縣銅鑼郷に工場を建設

2020年９月

山梨県上野原市にAnnex棟を建設

2022年４月

東京証券取引所の市場区分見直しに伴い、東京証券取引所プライム市場に株式を上場

2022年７月

当社にて「ISO45001」を取得

2024年８月

中華人民共和国上海市に100％子会社の上海特李化学科技有限公司を設立

2025年３月

山梨県南アルプス市に南アルプス事業所を建設

2025年９月

中華人民共和国安徽省合肥市に同国における先端半導体材料等の研究開発、生産及び販売の目的で、合肥安德科銘半導体科技有限公司との合弁で関連会社安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司を設立