How does V Technology make money?

３【事業の内容】

　当社グループは、当社、子会社計22社及び関連会社４社により構成され、半導体・フォトマスク装置事業、及びＦＰＤ装置事業（液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）等）を主たる業務としております。

　当社グループの事業内容及び当社と関係会社の当該事業に係る位置付けは次のとおりであります。

半導体・フォトマスク装置事業・・・半導体製造工程における製造装置、検査装置及びフォトマスク用装置等の開発、設計、製造、販売、関連サービスの提供を行っております。

ＦＰＤ装置事業・・・・・・・・・・ＦＰＤ製造工程における製造装置、検査装置等の開発、設計、製造、販売、関連サービス及びＯＬＥＤ用蒸着マスクをはじめとする部材等の提供を行っております。

その他事業・・・・・・・・・・・・ＩＴ事業、農業事業等を行っております。

１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】

　当社グループの経営方針、経営環境及び対処すべき課題等は、以下のとおりであります。

　なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。

(1）経営方針・経営戦略等

①経営理念

　大いなる志と溢れる情熱で、世界最高のイノベーションを創造し、社会に貢献します。

② 経営方針及び経営戦略

　当社グループは、電子デバイス製造に関わる様々な生産工程における課題について、トータルで解決する「パッケージ戦略」を成長分野で展開しております。中長期的な企業価値の向上に向け、当社グループの成長ドライバを従来のＦＰＤ分野から半導体分野へと転換し、事業ポートフォリオの変革を推進していくことを基本方針としております。

　具体的には、以下の戦略を軸に事業を推進いたします。

・成長市場への事業ポートフォリオの転換

　成熟化するＦＰＤ市場における安定的な収益基盤を維持しつつ、今後の急成長が見込まれるＡＩ用半導体向けを中心とした「アドバンストパッケージ分野」へ経営資源をダイナミックに集中させます。グループ内の技術・リソースを最適に統合し、次世代半導体製造に向けたトータルソリューションを提供できる体制を構築いたします。

・プロダクトミックスの改善とグループシナジーによる高収益化

　利益率の高い半導体・フォトマスク事業の売上構成比を拡大させることで、全社的な収益構造を改善いたします。また、これまでＦＰＤ事業で培ってきたノウハウや人的資源を半導体事業へ積極的にシフトさせるとともに、Ｍ＆Ａによる成長事業の創出を継続することで、利益率のさらなる向上を目指します。

・最適なキャピタルアロケーションの実行

　投下資本の回転率向上等により営業キャッシュ・フローの創出力を高め、得られた資金を事業拡大に向けた成長投資（Ｍ＆Ａ、最先端技術の研究開発等）へ優先的に配分いたします。また、これら成長投資と経営基盤の強化に必要な内部留保を勘案した上で、安定性・継続性および業績結果に応じた株主還元を実行してまいります。

③ 目標とする経営指標（KPI）

　当社グループは、持続的な企業価値の向上と資本効率を意識した経営を推進するため、「ＲＯＥ（自己資本利益率）」を最重要の数値目標として位置付けております。中期経営計画の最終年度である2029年３月期には20％以上の達成を目標として全社的に邁進してまいります。

(2）経営環境及び対処すべき課題と取組み

＜主な取組み＞

①事業組織の概要

　当社は、連続的かつ迅速なオペレーション及びマーケティング活動を通じて顧客満足度の向上と関係性の深化を図ることを基本方針としております。この方針のもと、当社及びグループ各社間で重要課題を共有し、連携体制を強化することで、顧客に対するソリューションの迅速な提供を実現してまいります。

　製品の性能・品質に加え、コストや納期面でも特定部材や企業への依存を避けた生産体制を構築し、顧客の期待に応えるべく社内体制の最適化を進めています。

　ガバナンス面では、意思決定の迅速化と監督強化に向け、2025年６月に監査等委員会設置会社へ移行しました。権限委譲により経営を加速させる一方、監査等委員の議決権行使により監視の実効性を高めております。また、内部監査部門との連携によりリスク情報の集約を迅速化し、内部統制の高度化を図っております 。

②半導体分野での取組み

　半導体・フォトマスク装置事業の分野では、アドバンストパッケージ (注１)事業に引続き注力しております。特に露光技術（Direct Imaging）(注２)や電気検査技術（O/S検査）(注３)の開発を進め、また、フォトマスクの検査・測定技術や、シリコンウェハの検査技術についても開発・販売を推進しております。

　DI露光装置については、株式会社LE-TECHNOLOGYの「LAMBDI」が半導体・オブ・ザ・イヤー2025半導体製造装置部門の「優秀賞」を受賞したほか、「密着配線幅 1um、配線ピッチ 2.5um」のインターポーザ(注４)製造に世界で初めて対応したDI露光装置を市場投入いたしました。

　また、2026年３月にはアドバンストパッケージ事業をより強化するため、新組織として「アドバンストパッケージ事業推進本部」を設置いたしました。従来、株式会社LE-TECHNOLOGY（DI露光）、オー・エイチ・ティー株式会社（O/S検査）、ジャパンクリエイト株式会社（ウェットプロセス）が当社ブイ・テクノロジーと連携をとり事業推進しておりましたが、グループ組織を一元化することで、顧客ニーズへの迅速な対応を推進いたします。

注１．アドバンストパッケージ：複数の半導体チップを1つのパッケージ内に高密度に統合し、性能向上、小型化、省電力化を実現する先進的な後工程技術です。従来の保護目的の封止技術とは異なり、2.5D/3D構造やチップ間接続技術を用いて、AI・高性能計算向け半導体で不可欠な技術となっております。

注２．Direct Imaging（DI露光）：フォトマスク（原版）を使わず、CADなどの設計データから直接レーザーやUV光をプリント基板（PCB）や半導体基板に照射して回路パターンを描画する技術です。従来技術と比較して、高精度なアライメント、多品種少量生産への柔軟な対応、マスクコストの削減が可能となります。

注３．O/S検査：プリント基板や半導体等の配線において、「断線（Open）」と「短絡（Short）」の有無を、実際に電流を流して導通状態を確認する検査です。

注４．インターポーザ：半導体チップとパッケージ基板の間に配置される、微細な配線が施された中継基板です。複数のチップを高度に接続する2.5D/3Dパッケージ技術において、チップ間の高速・大容量通信を可能にする「橋渡し」の役割を果たします。

③ＦＰＤ分野での取組み

　ＦＰＤ装置事業の分野について、市場は一定規模感で推移すると見込む中、高シェア製品のさらなる差別化やコストダウンを進めております。さらに、中国などにおいて、現地拠点を活用した受注・生産体制を強化し、顧客ニーズへの迅速な対応と徹底したコスト競争力の向上を図っております。また、高精細な蒸着マスクの受注・販売に成功し、中小型ＯＬＥＤ分野での部材ビジネスが着実に進展しております。

　一方、ＦＰＤ市場は成熟化が進み、大幅な成長が見込みにくい状況の中、現地顧客による内製化が急速に進んだ中小型ＯＬＥＤのサルベージ（良品化）事業については、整理縮小を進行中であり、事業規模の最適化を図っております。

④研究開発の取組み

　研究開発拠点としてＹＲＰイノベーションセンターを2022年8月に設立し、半導体関係装置の生産拠点の機能だけではなく、これまで分散していた開発機器を集結し、エンジニアが直接装置に触れることで、机上では得られない貴重なノウハウ取得や発想の転換から新製品につながるイノベーションを生み出します。

　また、開発成果を自社生産へ迅速に展開すると同時に、製品設計の共通化等を進めることで製造コストの削減や短納期化、品質の向上を実現させるなど、製品競争力の向上に向けた取り組みを重ねています。

⑤生産の取組み

　当社は、需要の変動に機動的に対応するため、製品の生産においては「ファブレス」を基本方針としており、国内外の協力会社への製造委託を行っております。特に、装置サイズが大きく、生産に広大なスペースを要するＦＰＤ装置事業においては、すべての製品を協力会社にて製造しております。

　一方、半導体・フォトマスク装置事業においては、市場投入初期の製品や収益性の高い製品について、当社YRPイノベーションセンターにて製造を行い、それ以外の製品については協力会社に製造を委託する体制を採用しております。

　また、顧客からの短納期での納入ニーズに対応するため、部品調達から組み立てに至る工程全体の見直しを進め、リードタイムの短縮に全社を挙げて取り組んでおります。

＜事業ポートフォリオに関する基本的な方針＞

　電子デバイス製造分野を中心に、子会社の事業を含め、多方面で事業を展開しております。当社グループは、保有する事業ポートフォリオを適時・適切に見直し、グループの安定成長に最も適した全社管理に取り組んでいます。

　ポートフォリオの見直しに際しては、事業ごとの業績動向に加え、グループのビジョンへの適合性や、中長期の環境変化を踏まえた上で、判断いたします。

３【事業等のリスク】

　有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりであります。

　なお、文中における将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。

(1）市場環境の変化及び新事業領域への展開に関するリスク

当社グループは、主に電子デバイス製造装置の市場で世界的に事業を展開しており、お客様のニーズを先取りした付加価値の高い製品の提供により事業を成長させてまいりました。

一方で、装置市場は需要動向、技術進化、産業政策や世界経済の変化による影響を受けやすく、市場変化による設備投資計画の延伸や受注キャンセル等が発生した場合には、業績に大きな影響を及ぼす可能性があります。

また、当社グループは中長期的な企業価値の向上に向け、次世代技術を見据えた新たな事業領域への展開や製品開発を推進しておりますが、市場の立ち上がりが想定より遅延した場合や、競争激化等により収益貢献に時間を要した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を及ぼす可能性があります。

(2）生産の外部委託及びサプライチェーンに関するリスク

当社グループは、市場変化への柔軟な対応及び成長原資の最適配分のため、主にＦＰＤ用の大型設備について生産を外部委託（ファブレス化）しております。外部委託リスクを軽減するため、生産委託先と協力会を組織して情報共有を図るとともに、ＹＲＰイノベーションセンターにおける一部重要部材の内製化や、部材調達の多角化を進めております。

しかしながら、委託先の経営状態の急変や不測の事故に加え、昨今の地政学的要因等によるグローバルな物流網の混乱、部材供給の遅滞、あるいは輸送コストの急激な高騰等が生じた場合、製品の安定供給や利益率に重大な支障をきたし、業績に大きな影響を及ぼす可能性があります。

(3）知的財産権等に関するリスク

当社グループは、製品の生産を協力会社に委託しており、当該企業との間では、技術やノウハウ等の知的財産の保護を目的とした契約を締結する等、知財等の社外流出の防止に努めております。また、事業の競争優位性を持続的に維持する為、特許・実用新案の出願を積極的に行っております。

しかしながら、人員の退職や、知的財産権の保護が不十分な地域における模倣行為等が発生した場合には、損害を被る可能性があります。

一方、第三者の知的財産権については、管理体制を整備し、これを侵害しないよう努めておりますが、万が一抵触した場合には、多額の係争費用や損害賠償金などが生じる可能性があります。

(4）研究開発に関するリスク

当社グループは、お客様の将来の要請に先駆ける製品の早期実用化を目指し、先進的な技術の開発に継続的に取組んでいます。また、お客様と技術開発を目的とした合弁会社の設立や、協業による技術開発等、取り組みを重ねています。

しかしながら、開発中の技術に対抗する技術が想定を上回る時間軸で登場した場合や、研究開発の大幅な遅延が発生した場合等により、研究開発の成果が必ずしも収益の獲得に繋がらない場合には、当社グループの業績へ大きな影響を及ぼす可能性があります。

(5）品質に関するリスク

当社グループは、高い品質を確保する為に協力会社と仕様情報の共有化、完成品の出荷検査等の取り組みを継続的に実施しております。しかしながら、先端技術あるいは新技術を用いた製品を扱うことも多く、想定が困難な製品不具合等による検収の遅れ等が発生した場合、当社グループの業績へ大きな影響を及ぼす可能性があります。

(6）代金の回収に関するリスク

当社グループは、与信管理を厳格に行うと同時に、検収から代金回収までを計画的に行う為に納品済み装置の状況や課題等についてお客様と共有する等の取り組みを進めています。しかしながら、お客様の財務状況の変化や、新技術を用いた製品の不具合の発生と検収作業の長期化等が発生した場合には、当社グループの代金回収に大きな影響を及ぼす可能性があります。

(7）企業買収に関するリスク

当社グループは、新たな事業領域への進出、新技術・ビジネス基盤の獲得、既存事業の競争力強化などを目的とした企業買収を実施しています。徹底した市場調査やデューデリジェンスに基づき企業買収等を実施しておりますが、予想を超えた事業環境の変化等の結果、期待した収益を獲得できない場合、期待した成果が十分に得られなかった場合には、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(8）重要な訴訟等に関するリスク

当社グループは、現在においてその業績に重要な影響を与えうる訴訟等に関与しておりません。また、法務・知財部による調査や社内チェック体制の整備をしており、必要に応じて取締役会等に報告し管理する体制となっています。しかしながら、当社グループの事業活動等が今後重要な訴訟等の対象となる場合には、その結果によっては当社グループの業績に大きな影響を及ぼす可能性があります。

(9）法令・規制に関するリスク

当社グループは、グローバルに事業を展開する上で、各国・各地域において、輸出入規制、環境規制、移転価格税制といった各種法令、規制の制約を受けており、その遵守に努めています。しかしながら、予期せぬ法令、規制の強化、改正が生じたこと等により、適切な対応ができなかった場合には、当社グループの業績に大きな影響を及ぼす可能性があります。

(10）その他のリスク

当社グループは、新たな高成長・高収益事業の創出、既存事業における更なる高収益の追求、市場規模縮小時においても利益を生み出すことのできる体質への改善に積極的に取組んできましたが、世界及び各地域における経済環境、異常気象や地震等の自然災害、気候関連規制、戦争、テロ、感染症、金融・株式市場、政府等による規制、仕入先の供給体制、商品・不動産市況、国内外での人材確保、標準規格化競争、重要人材の喪失等の影響を受け、業績が大きく変動する可能性があります。

（２）【役員の状況】

①　役員一覧

男性3名　女性2名　（役員のうち女性の比率40.0％）

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

（株）

代表取締役兼

社長執行役員

杉本　重人

1958年７月９日生

1981年４月

㈱測機舎(現㈱トプコン)入社

1996年４月

同社計測営業部部長

1997年12月

当社代表取締役社長

2005年６月

㈱ブイ・イメージング・テクノロジー代表取締役社長

2017年12月

㈱ブイ・イー・ティー取締役（現任）

2019年６月

当社代表取締役兼社長執行役員（現任）

2020年４月

V-Tech Shining Color Technology (Kunshan) Co., Ltd.董事長（現任）

（注）3

1,174,600

取締役兼

専務執行役員

神澤　幸宏

1962年10月17日生

1987年４月

住友信託銀行㈱（現三井住友信託銀行㈱）入社

2005年６月

当社入社

2010年１月

当社財務部長

2014年６月

当社執行役員財務・経理部長

2017年６月

当社取締役管理担当兼財務・経理部長

2019年10月

V Investment China Co.,Ltd. 董事長（現任）

2020年６月

当社取締役兼常務執行役員管理本部長

兼社長室長兼経営企画室長

2023年４月

VETON TECH LIMITED 董事長（現任）

2023年６月

当社取締役兼専務執行役員管理本部長（現任）

2024年５月

Kunshan V Technology Co., Ltd.（現

Shanghai V Technology Co., Ltd.)董事長（現任）

V-Technology (Shanghai) Human Resource Management Co., Ltd.董事長（現任）

2024年10月

当社生産本部上席本部長（現任）

（注）3

7,200

取締役

監査等委員

若林　秀樹

1959年11月26日生

1986年４月

㈱野村総合研究所入社

1997年10月

ドレスナー・クラインオートベンソン証券会社 (現コメルツ銀行㈱) ディレクター・シニアアナリスト

1999年４月

（一社）半導体産業研究所 諮問委員

2000年４月

JPモルガン証券㈱ マネージング・ディレクター

同株式調査部長

同チーフアナリスト

2001年12月

みずほ証券㈱ ヘッドオブリサーチ

主席アナリスト

2005年４月

フィノウェイブインベストメンツ㈱ 社長

同ファンドマネージャー

2017年４月

東京理科大学大学院 イノベーション研究科 教授

2018年４月

東京理科大学大学院 経営学研究科 技術経営専攻教授

東京理科大学大学院 経営学研究科 技術経営専攻長

2020年４月

東京理科大学 総合研究院 技術経営・金融工学社会実装研究部門 部門長

2021年４月

JEITA半導体部会政策提言タスクフォース座長(現任)

NEDO技術委員(現任)

東京理科大学 評議員

2023年１月

(一社)研究・イノベーション学会 副会長・理事

2025年４月

熊本大学 半導体・デジタル研究教育機構 卓越教授(現任)

立命館大学大学院 経営管理研究科 客員教授(現任)

2025年６月

当社社外取締役　監査等委員（現任）

2025年９月

㈱フルヤ金属　社外取締役（現任）

（注）4

0

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

（株）

取締役

監査等委員

立山　純子

1980年10月29日生

2006年10月

弁護士登録

外国法共同事業法律事務所リンクレーターズ入所

2009年４月

外務省国際協力局気候変動課

2012年10月

第一中央法律事務所入所（現任）

2024年６月

ムラキ㈱社外監査役（現任）

当社社外取締役

2025年６月

当社社外取締役　監査等委員（現任）

（注）4

0

取締役

監査等委員

小川　加織

1982年5月11日生

2007年12月

あずさ監査法人（現 有限責任あずさ監査法人）入所

2012年２月

公認会計士登録

2013年３月

MCC PTA Asia Pacific PTE. LTD.

2014年４月

Marubeni ASEAN Pte. Ltd.

2016年２月

コカ・コーライーストジャパン株式会社（現 コカ・コーラボトラーズジャパンホールディングス株式会社）入社

2019年10月

Mazars有限責任監査法人(現Forvis Mazars Japan有限責任監査法人)

2022年２月

小川公認会計士事務所 代表（現任）

2025年６月

当社社外取締役　監査等委員（現任）

2026年２月

株式会社FPパートナー　社外監査役（現任）

（注）4

0

計

1,181,800

（注）１．当社は2025年６月26日開催の第28回定時株主総会の決議により、監査等委員会設置会社に移行しました。

２．取締役若林秀樹氏、立山純子氏及び小川加織氏は、社外取締役であります。

３．2025年６月26日開催の定時株主総会の終結の時から１年間

４．2025年６月26日開催の定時株主総会の終結の時から２年間

②　社外役員の状況

a．社外取締役の員数及び当社との人的関係、資本的関係又は取引関係その他利害関係

　当社の社外取締役は３名（うち監査等委員である社外取締役は３名）であります。

　社外取締役の兼務先である電子情報技術産業協会（JEITA）、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総

合開発機構（NEDO）、熊本大学、立命館大学大学院、㈱フルヤ金属、第一中央法律事務所、ムラキ㈱、小

川公認会計士事務所および㈱FPパートナーと当社との間には特別の関係はありません。

　若林秀樹氏、立山純子氏および小川加織氏は独立役員として指定し、東京証券取引所に届け出ております。

b．社外取締役が企業統治において果たす機能及び役割

社外取締役：職責に応じた知識、経験、能力及び多角的な視点を持ち、客観的な立場から企業価値向上のための適切な助言・提言をしていただくことを役割としております。

c．社外取締役を選任するための独立性に関する基準又は方針の内容

当社は当社社外取締役のうち、下記条件にいずれも該当しないものを独立社外取締役として指定するものとしております。原則東京証券取引所への届出をすることにしており、本人同意の上で同取引所への届出を行います。

[独立性判断基準]

当社社外取締役のうち、下記条件にいずれも該当しないものを独立社外取締役として指定するものとする。

①当社を主要な取引先とする者又はその業務執行者（年間連結総売上高の2％以上の支払い）

②当社の主要な取引先又はその業務執行者（年間連結総売上高の2％以上の支払い）

③当社から役員報酬以外に多額の金銭（過去３事業年度の平均において個人の場合には、1,000万円、法人の場合には年間総売上高、経常収益の2％以上の支払い）その他財産を得ているコンサルタント、会計専門家又は法律専門家。なお、当該財産を得ている者が法人や組合等の団体である場合、当該団体に所属する者とする。

④当社又は当社子会社の会計監査人もしくはその社員

⑤資金調達に必要不可欠な金融機関その他大口債権者又はその親会社もしくは重要な子会社の取締役、監査役、会計参与、執行役、執行役員又は支配人、その他使用人

⑥過去5年間において①から⑤に該当するもの

⑦配偶者又は二親等以内の親族が①から⑥に該当するもの

d．社外取締役の選任状況に関する当社の考え方

氏名

選任の理由

若林　秀樹

JEITA半導体部会政策提言タスクフォース座長や、経済産業省における半導体やデジタルインフラ関連の有識者メンバーを務める等、国の半導体政策にも高い見識を有しており、日本の半導体分野においての第一人者であることから、当社グループの発展に寄与いただけると判断しております。また、セルサイド、バイサイド両側面のアナリスト、さらに、ファンドマネージャーとしての経験により市況動向を的確に見通せる専門性を有し、ファンドの起業経験、大学での専攻長や評議員など多様な組織のマネジメントとしての知見から、さらなる企業価値の向上のために当社の経営全般に対して意見・助言をいただくことを期待しております。同氏のNEDO技術委員としての目利き力など技術的知見に基づき、業務執行に対する適切な監査・監督等の職務を果たしていただけると判断しております。

立山　純子

弁護士として企業法務の実務に精通しており、当該経験及び見識に基づき、当社のコーポレート・ガバナンスの強化のために適切な役割を果たすことができるものと判断いたしました。弁護士としての法律的な専門的見地に基づく経営全般への提言、外務省における執務経験に基づく脱炭素経営の観点からの助言等を通じて、経営の監督機能の強化に寄与していただくことを期待し、選任しております。

なお、同氏は、社外役員となること以外の方法で直接会社経営に関与した経験はありませんが、上記の理由により、社外取締役としての職務を適切に遂行することができるものと判断しております。

小川　加織

有限責任あずさ監査法人で会計監査に従事後、海外法人及び事業会社において業務監査に従事した長年の監査経験があり、また、公認会計士事務所を開設し代表としてガバナンス強化支援のコンサルティング業務も行っております。公認会計士として豊富な経験で培われた財務及び会計に関する見識、及び監査業務に関する高い専門性を有していることから、独立した立場と客観的な視点から適切な監査・監督機能を発揮し、当社のコーポレート・ガバナンスと企業価値の向上に貢献いただけると判断しております。

③　社外取締役による監督又は監査と内部監査、監査等委員会監査及び会計監査との相互連携並びに内部統制部門との関係

a．内部監査、監査等委員会による監査、会計監査との相互連携

　社外取締役は、取締役会において社外からの独立した視点による意見、助言を述べるとともに、他の取締役、監査等委員会、内部監査及び会計監査との相互連携並びに内部統制主幹部門との関係については、共有すべき事項について、相互に連携し把握できるような関係にあります。

b．内部統制部門との関係

　監査等委員会は、独立性を持って監査を実施すると共に、定期的に会計監査人及び内部監査部門から会計監査結果、業務監査結果の報告を受け、その内容を検証することにより監査の効率化及び質的向上を図っております。

２【沿革】

年月

沿革

1997年10月

株式会社ブイ・テクノロジーとして神奈川県厚木市に設立（資本金30百万円）

2000年４月

当社製品の販売を目的として韓国にV Technology Korea Co.,Ltd.設立（現・連結子会社）

2000年12月

東京証券取引所マザーズに株式を上場（資本金2,009百万円）

2001年５月

北米における研究開発及び製造拠点としてV Technology North America Inc.及びV Technology USA Inc.を設立（連結子会社）

2001年11月

台湾に営業拠点としてV-TEC Co.,Ltd.（2023年11月、VN Systems Taiwan Co.,Ltd.を存続会社とする吸収合併を行い、V Technology Taiwan Co.,Ltd.に社名変更）を設立（現・連結子会社）

2002年２月

北米における連結子会社２社を売却

2004年10月

本社を現在地（横浜市保土ヶ谷区）に移転

2005年６月

液晶ディスプレイの基板製造装置ビジネスへの参入を目的として株式会社ブイ・イメージング・テクノロジーを横浜市保土ヶ谷区に設立

2010年１月

株式会社ブイ・イメージング・テクノロジーを吸収合併

2011年２月

2011年６月

東京証券取引所市場第一部に指定

中国に営業拠点としてShanghai V Technology Co., Ltd.（2015年12月、Shanghai VN Systems Co., Ltd.に商号変更）を設立

2013年10月

オムロンレーザーフロント株式会社及び連結子会社よりＦＰＤ・半導体業界向リペア装置事業の事業譲受

2014年12月

中国に営業拠点としてKunshan V Technology Co., Ltd.を設立（現・連結子会社）

2015年６月

株式会社ＶＮシステムズの株式取得

2015年12月

VETON TECH LIMITEDの株式取得（現・連結子会社）

2016年４月

オー・エイチ・ティー株式会社の株式取得（現・連結子会社）

2017年２月

株式会社ＶＮシステムズを吸収合併

2017年12月

株式会社ブイ・イー・ティーを設立（現・連結子会社）

2018年４月

Lumiotec株式会社の株式取得

2019年８月

株式会社ナノシステムソリューションズの株式取得（現・連結子会社）

2020年４月

V-Tech Shining Color Technology (Kunshan) Co.,Ltd.を設立（現・連結子会社）

2021年１月

Kunshan V Technology Co.,Ltd.（2025年８月、Shanghai V Technology Co., Ltd.に商号変更）がShanghai VN Systems Co., Ltd.を吸収合併

2021年１月

リソテックジャパン株式会社の株式取得（現・連結子会社）

2021年６月

Imec Agricultural Technology (Suzhou) Co., Ltd.を設立（現・連結子会社）

2022年２月

株式会社アイテックの株式取得（現・連結子会社）

2022年４月

東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所の市場第一部からプライム市場に移行

2022年８月

YRPイノベーションセンター（神奈川県横須賀市）を開設

2023年１月

ジャパンクリエイト株式会社の株式取得（現・連結子会社）

2023年４月

株式会社LE-TECHNOLOGYを設立（現・連結子会社）

2025年６月

監査役会設置会社から監査等委員会設置会社に移行