アルバック株式会社 アルバック6728東証プライム電気機器2026年6月期, 連結, 日本基準
アルバックの売上の約78%は「真空機器事業」から。ほかに「真空応用事業」などで稼いでいます。
売上100円あたり約7円が営業利益として残ります。
前期から売上は+7.1%、営業利益は-26.1%。
数字で見ると
2026年6月期、事業利益の78％を1事業が占める
2026年6月期、現金は総資産の26％
開示された数値から自動で作った要約
2026年6月期の数字（書類の提出日 2026-09-25）
アルバックが100円売ったとき、何にいくら使い、いくら残るか。
年度をそろえて、売上から粗利・本業の利益・純利益が残る割合を比較します。未開示の年度は線をつなぎません。
2021年6月期 → 2026年6月期
売上（銀行・保険は経常収益）は棒、各利益率とFCFマージンは折れ線です。年度をそろえて、事業規模と利益・現金の残り方を比べます。FCFは営業CFと投資支出から計算する場合があります。
同じ事業キーを接続し、キーの異なる事業は新設・再編として表示。帯の太さは売上構成比。
前期比（2025年6月期 → 2026年6月期）
従業員数（連結） -8.5% · 売上（連結） +7.1%
| 指標 | 22/6 | 23/6 | 24/6 | 25/6 | 26/6 |
|---|---|---|---|---|---|
| 従業員数（連結） | 6,235 | 6,264 | 6,234 | 6,132 | 5,613 |
| 平均年間給与（提出会社・単体） | 792万円 | 813万円 | 751万円 | 888万円 | 869万円 |
| 平均年齢（単体） | 43.6歳 | 44.2歳 | 44.5歳 | 44.6歳 | 44.8歳 |
| 平均勤続年数（単体） | 16.9年 | 16.6年 | 17.2年 | 17.5年 | 17.8年 |
1人あたりの値は連結売上・利益を連結従業員数で割ったものです。平均年間給与・年齢・勤続年数は提出会社単体の値で、持株会社では本社の少人数の平均になることがあります。従業員数の定義は会社ごとに異なります。開示値から計算（DERIVED）。
この会社が出てくる業界地図。
2026-06-30 ※「資産管理口」は投資信託や年金などの株をまとめて預かる名義で、実際の持ち主（機関投資家など）ではありません。
直近の公開決算から、同じ主な業界の企業内での位置を示します。
点は各社の主な業界内での順位です。会社ごとに比較対象となる業界が異なる場合があります。値がない軸はデータなしと表示し、総合点は計算しません。業界順位は投資推奨ではありません。
同じ業界プロフィールの会社から、売上規模が近い企業を並べています。数値は各社の最新公開有報です。
| 会社 | 決算期 | 売上高 | 本業利益率 | 純利益率 | 自己資本比率 |
|---|---|---|---|---|---|
| 株式会社 アルバック | 2026 | 2,691億円 | 7.3% | 6.4% | 58.2% |
| 三浦工業株式会社 | 2026 | 2,687億円 | 11.5% | 10.3% | 51.0% |
| 株式会社日本製鋼所 | 2026 | 2,749億円 | 9.2% | 7.0% | 49.4% |
| 株式会社椿本チエイン | 2026 | 2,959億円 | 7.3% | 10.0% | 64.5% |
| ＴＨＫ株式会社 | 2025 | 2,404億円 | 6.0% | -29.1% | 55.3% |
時価総額・PER・株価利回りはEDINETに含まれないため表示していません。会社ごとに決算期や会計基準が異なる場合があるので、期末と出典を確認してください。
アルバックは神奈川県茅ヶ崎市に本社を置く、1962年設立の半導体製造装置の会社です。連結の従業員は5,613人。東証プライムに上場しています。
出典: 有価証券報告書（S100Z3KY、2026年9月25日提出）。提出時点の情報で、その後の変更は反映していません。
会社が提出した有報の記述を、年度と出典を添えて確認できます。
提出日 2026-09-25 · 書類 S100Z3KY
３【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社34社、関連会社９社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分 主要製品 真空機器事業 半導体及び電子部品製造装置 スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理（自然酸化膜除去等）装置、超高真空装置他 ディスプレイ・エネルギー関連製造装置 スパッタリング装置、プラズマCVD装置、真空蒸着装置、巻取式真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他 コンポーネント 真空ポンプ（ドライポンプ、メカニカルブースタポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、油拡散ポンプ）、真空計、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、蒸着用蒸発源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、極低温機器、各種真空部品他 一般産業用装置 真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、リークテスト装置他 真空応用事業 材料 スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属（Ta、Nb、W、Mo）他 その他 Ｘ線光電子分光分析装置、走査型オージェ電子分光分析装置、飛行時間型二次イオン質量分析装置、四重極型二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（セグメント情報等）」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品 概要 スパッタリング装置 真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 ＣＶＤ装置 つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置 真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。 真空蒸着装置 真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。 真空熱処理炉 真空中で各種金属の焼入、ろう付、焼戻、容体化、時効、磁性処理等を行う装置。 以上のような装置により、スマートフォン、PC、タブレット、スマート家電、テレビ、自動車等の最終製品を構成するエレクトロニクス部品等が生み出されております。 また、主な各々の事業区分ごとの事業の流れは以下のとおりです。
１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1）会社の経営の基本方針 当社グループは、下記の基本方針に基づき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進 複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新 製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化（モジュール化、ユニット化）を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発 競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織 経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上 株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 (2）経営環境 当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調が続いたものの、不安定な金融市場や通商政策の動向、地政学リスクの高まりなどにより、景気の先行きに対する不透明感が高まりました。 当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界においては、生成AIの急速な普及を背景として、先端ロジック、広帯域幅メモリ（HBM）及び先端パッケージングなどに向けた投資が市場を牽引しました。また、経済安全保障やサプライチェーン強靭化の観点から、世界各地で半導体工場の新増設が進展しました。エレクトロニクス業界においては、パワーデバイス向け設備投資に調整が見られたものの、AI・データセンター向け需要の拡大などを受け、社会のデジタル化を背景とした各種電子デバイスの技術革新や増産投資は堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、IT製品への有機EL採用拡大に伴うパネル大型化投資が継続しております。加えてレアアース磁石分野において、サプライチェーンの多角化に向けた投資が本格化しております。 (3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題 当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。 また、当社グループは、「真空技術及びその周辺技術の総合利用により、経済価値、社会価値、環境価値を創造する」というサステナビリティ方針に基づき、当社グループの事業活動を通して、幅広いステークホルダーとともに、産業と科学の発展に貢献し、環境負荷の低減や健康と幸せの創造により、気候危機や資源不足等地球の持続可能性を脅かす環境問題の解決に向けての取組みも推進しております。 これらの経営基本理念やサステナビリティ方針を踏まえ、当社グループは、“Vision2032”「未来につながる可能性の場であり続ける」を策定しました。この“Vision2032”は、当社グループの10年後の理想像を、当社創業時から受け継がれてきた企業文化や価値観を未来志向に変換した姿として描いたものであり、当社グループは、その実現に向けて取組むべき重要課題（マテリアリティ）を念頭においた経営に、グループ一丸となって引き続き取組んでおります。 〈当社グループが取組むべき重要課題（マテリアリティ）〉 ・真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進 ・多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり ・バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動 ・持続可能な地球環境への貢献 そして、この重要課題（マテリアリティ）の実現に向けて、2026年６月期から2031年６月期までの６年間を対象とする中長期経営計画「バリューアッププラン」を推進しております。経営資源を最適化し、半導体電子中心の事業ポートフォリオへの転換を加速させるとともに、高成長・高収益体質への変革を通じて、企業価値の向上を目指しております。 2026年６月期においては、半導体及び電子関連市場を中心とした需要拡大を背景に、受注高は過去最高を達成いたしました。一方で、部材供給リスクの顕在化や生産能力の制約等により、獲得した受注を十分に売上及び利益へ転換できておらず、収益性向上が重要な経営課題であると認識しております。 このため、当社グループはバリューアッププランを確実に達成するために2027年６月期を「総点検・変革」の年度と位置づけ、事業改革及び生産改革を最優先課題として取組んでまいります。 １．成長戦略 AI・データセンター関連ビジネスを戦略テーマとして位置づけ、重点分野へ経営資源を集中投入し、先端・高付加価値案件の構成比を上昇させることにより、高成長・高収益性を実現してまいります。また、ロジック・メモリ、先端パッケージング及びレアアース磁石関連分野を中心に、高付加価値案件の獲得と事業間シナジーの創出を通じて持続的な成長を実現してまいります。 ２．事業改革 戦略適合性の低い事業の売却・縮小を進め、本社機能及び固定費構造の見直しを進めるとともに、事業ポートフォリオの最適化を図ります。 ３．生産改革 生産、調達及び物流の各機能を抜本的に見直し、生産能力の増強や物流拠点の最適化、部材調達リードタイムの短縮等を推進することにより、受注を確実に売上及び利益へ転換できる体制の構築を進めてまいります。 ４．財務基盤及びキャッシュ・フローマネジメントの強化 当社グループの更なる成長に向けた開発、生産改革、M＆A等への十分な投資資金を確保し、事業をとりまく外部環境変化への迅速な対応を実現する強固な財務基盤の構築を更に進めるとともに、キャッシュ・フローマネジメントの更なる強化により、資本効率の一層の改善に努めます。 バリューアッププランに加え、重要課題（マテリアリティ）の実現に向けて、以下の取組みを推進します。 （ESG経営の強化） ・地球環境保全の重要性が高まる中、気候変動対策及び水質保全に関する取組みを推進するとともに、事業活動を通じた環境負荷の低減に努めております。また、気候変動等の社会的課題の解決に貢献する環境配慮型製品の更なる開発と拡販を通じて持続可能な社会の実現と企業価値の向上に努めます。 ・当社グループのみならず取引先といったステークホルダーに至るまで、人権に配慮した事業運営についての理解を共有するとともに、労働環境をはじめとする人権尊重の更なる推進に努めます。 ・持続的な成長を実現するために、実効性、透明性の高い経営体制の強化に継続して取組むことにより、コーポレート・ガバナンス体制の更なる維持強化に努めます。 （人財経営の推進） ・事業戦略に応じた人員体制の強化を図るとともに、高度専門人財をはじめとする多様な人財の確保、育成を推進し、当社グループ内での最適配置を通じて人的資本の有効活用に努めます。 ・公正な評価・処遇制度の整備、多様な人財が能力を発揮できる環境整備及び従業員エンゲージメント向上施策の推進により人財の定着を図り、健全な企業風土の醸成を通じて、人財基盤の強化に努めます。 ＜数値目標（連結）＞ バリューアッププランの数値目標は、以下のとおりです。 指 標 2026年６月期 実績（参考） 2028年６月期 中間目標 2031年６月期 目標 売上高 2,691億円 2,600億円以上 3,600億円 営業利益 196億円 390億円以上 790億円 営業利益率 7.3％ 15％ 22％ ROE 7.4％ 10％ 16％
３【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①市場変動による影響 当社グループは、特に半導体及び電子部品、FPD等の製造工程で使用される真空装置分野において独自技術を開発し、市場シェアを拡大してきました。しかしながら、半導体や電子部品、FPD分野等における市況変動に伴う顧客の設備投資の大幅縮小や財政状態の悪化が生じた場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 さらに、当社は中長期経営計画に基づき、事業ポートフォリオを半導体電子分野へ集中させる方針を推進しておりますが、半導体市場は技術革新のスピードが速く、また景気変動や国際情勢の変化の影響を受けやすい特性があります。今後、半導体需要の急激な変動や競争環境の変化が当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、半導体電子分野への集中と並行して、真空関連事業を幅広く展開しております。また、半導体電子分野の急激な市場環境の変動に対しては、技術革新への対応力を高めるための研究開発投資を行い、製品ラインアップの拡充と差別化を図ってまいります。加えて、事業間シナジーを活用した新規ビジネスの創出により、収益基盤の多様化を推進し、市場環境の変動に対する耐性の強化に努めてまいります。 ②研究開発による影響 当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてまいりました。しかしながら、開発の著しい遅延を余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 成長のために必要な開発について、投資の選択と集中によりスピードアップを図るとともに、定期的なモニタリングを実施して著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 ③グローバルな競争環境の影響 当社グループは海外売上高比率が高く、世界各国・各地域の顧客に向けて製品を提供しております。しかし、グローバルに事業を展開している既存の競合他社も数多く、新規参入も増えている中で、製品の性能のみならず価格面での競争も激化しております。このような競争環境により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、顧客ニーズを的確に把握し、それを確実に反映した製品を適時投入することで、競争力を維持し、競争環境に対応してまいります。 ④地政学、国際情勢及び経済安全保障に関する影響 当社グループは、グローバルに事業を展開しており、国際情勢の変化、各国の安全保障政策、輸出入規制、関税、制裁、投資規制、技術移転規制及び経済安全保障上の規制強化等の影響により、当社グループの装置、材料、技術情報及びカスタマーサポート等に関する取引に制約が生じる可能性があります。 また、半導体及び電子部品等の戦略物資化や重要鉱物・レアアース・半導体部品等の供給制約により、顧客の投資判断、当社グループにおける製品の出荷・据付、部品供給、海外拠点の運営等に支障が生じる可能性があります。これらの事象により、当社グループの事業活動、経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、輸出管理体制の整備、顧客・用途の確認、規制情報の収集、サプライチェーンの多元化、事業継続に向けた体制整備及び海外拠点管理等を通じて、これらのリスクの低減に努めております。 ⑤人財の確保に関する影響 当社グループがグローバルな事業環境の中で成長を続けるために、人財の確保、育成及び定着は最も重要なことと位置付けております。採用環境の変化や人財獲得競争の激化により、事業の成長に必要な人財の採用・育成が計画どおり進まない場合、又は離職等により知識・技能の継承が十分に行われない場合には、研究開発、生産、販売及びサービス活動に支障が生じ、競争力の低下により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、人材を「人財」として捉え、多様な人財が挑戦し続ける場の創出に努めております。人財の採用・育成を推進し、多様な人財が心身ともに健康で活気に満ち、個人の能力が最大限に発揮できるように、従業員のエンゲージメントとウェルビーイングを意識した活動で働く環境を整え、必要な人財基盤の維持・強化を図っております。 ⑥サプライチェーンに関する影響 当社グループは、製品を生産するために必要な部品・材料を国内外のサプライヤーから調達しております。部品需給の逼迫、重要部品・材料の供給不足、原材料価格の高騰、物流の停滞、大規模な災害等によるサプライチェーンの障害などにより、必要な部品・材料の確保が困難となった場合には、顧客への納入遅延等により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループでは、仕入先との協力体制構築、需給動向の把握、早期の部品手配、サプライチェーンの多元化、適切な在庫管理等により、必要な部品・材料の確保及び供給リスクの低減に努めております。 ⑦法令、規制に関する影響 当社グループは、グローバルに事業を展開しており、各国・各地域において、輸出入規制、競争法、汚職・贈賄、労働法、環境法、移転価格税制等の様々な分野の法令や規制の適用対象となります。そこで、当社グループは、これらの法令や規制の遵守に努めております。しかしながら、これらの法令や規制への抵触が認められた場合には、当社グループの社会的信用の低下はもちろんのこと、課徴金や損害賠償責任、事業活動の制限等が発生する可能性があります。また、各国の安全保障上の政策に基づく規制、その他、将来において予期せぬ法令や規制の改正や強化が生じた際に、当社グループの対応や対応に不備が認められた場合には、是正措置に関する費用負担や事業活動の制限等が発生する可能性があります。 当社グループは、企業倫理行動基準を定めて各種法規制遵守の重要性を国内外グループ会社に啓蒙するとともに、社内外の内部通報制度を活用して、法令等の違反の早期発見と対策に努めております。また、当社グループ各社に設置するコンプライアンス委員会やリスクマネジメント委員会においても、法令や規制への抵触のおそれがある行為の内容についての報告を実施し、適宜必要な対応がとれる体制をとっております。また、とりわけ重要な法令や規制への対応は当社経営会議で報告の上、当社役員の主導でグループ各社へ展開する体制をとっております。 ⑧品質に関する影響 当社グループは、国際規格であるISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、高レベルの製品・サービスを提供し続けてまいりました。しかしながら、常に最先端技術を利用した製品を提供していることから開発的要素も多く、予期せぬ不良の発生等により、追加原価の発生や損害賠償、信頼低下による売上高減少を招いた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、中長期経営計画において、更なるモノづくり力強化を進めており、コストや信頼性、規格仕様を決定する上流工程を強化しております。製品の完成度を高めるバリューエンジニアリング、不適合内容の水平展開など品質向上の仕組みを盛り込むとともに、再発防止策を実施し、徹底を進めております。 ⑨資金調達に関する影響 当社グループは、金融機関からの借入金等により資金調達を行っておりますが、市場環境、金利動向、当社の信用力低下等により、資金調達が困難になることや、調達コストが増大する可能性があります。また、当社グループの借入金に係る金融機関との契約には、財務制限条項が付されているものがあり、現状、当社グループの財政状態は当該条項に照らして問題のない水準にあるものの、当該条項に抵触した場合、資金調達に支障が生じる可能性があります。資金調達が想定どおりに行えない場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、資金調達にあたって年度別の返済額の平準化に努めており、リファイナンスリスクの低減や返済負担の軽減を図っております。また、社会情勢や経済環境の先行きが不透明な中、不測の事態に備え、十分な手元流動性資金を確保するとともに、コミットメントラインを設定し追加資金を確保できる体制を整えております。事業環境の急激な変化にも対応できるよう、引き続き、適時に必要資金を確保できる体制を維持してまいります。 ⑩情報セキュリティに関する影響 当社グループは、事業活動において取扱う技術情報、取引先情報等の重要な情報資産を保有しております。これらの情報資産に対し、サイバー攻撃、不正アクセス、コンピュータウイルス感染、内部不正、盗難・紛失その他不測の事態が発生した場合、競争力・技術的優位性の低下、生産活動を含めた業務の停止、社会的信用の低下や損害賠償責任の発生等により、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、情報資産の保護を経営上の重要課題と位置付け、情報セキュリティ管理体制の強化に取り組んでおります。情報システム及びネットワークに対する定期的なリスクアセスメントを実施するとともに、サイバー攻撃や内部不正等の脅威に対する脆弱性分析を行い、必要な対策を講じております。また、情報管理に関する諸規程を整備するとともに、インシデント発生時の迅速な情報共有及び対応体制を整備しております。さらに、全従業員を対象とした定期的な情報セキュリティ教育を実施し、情報管理の徹底及び情報セキュリティ意識の向上に努めております。 ⑪外国為替変動による影響 当社グループは、海外売上高比率が高いものの、原則として円建取引を行っております。しかしながら、当該円建取引では、円高時に海外メーカーと比較して価格競争力の面で不利になることがあります。また、一部外貨建取引もありますが、外貨建取引においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、為替予約等によりリスクヘッジを行うことで、為替変動による業績への影響を低減するよう努めております。 ⑫知的財産権に関する影響 当社グループは、各種真空装置・機器等に関する多数の特許を保有し、積極的に新規権利獲得にも努めております。しかしながら、第三者から不測の特許侵害訴訟が提起された場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 このようなリスクの低減を図るため、当社グループの製品・技術に関して、定期的に特許調査を行っております。 ⑬安全に関する影響 当社グループの製品に関連する安全性等の問題により、顧客への損害発生や損害賠償責任の発生、売上高の減少、社会的信用の低下等につながる可能性があります。また、国内外の開発・製造・サービス拠点において、生産設備、高圧ガス、化学物質等を取扱っていることから、設備故障、作業上の不安全行動、自然災害等に起因する労働災害や重大事故が発生する可能性があります。これらの要因により、生産活動の停止又は遅延、顧客への製品供給やサービス提供への支障、復旧費用や補償費用の発生等が生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループは、「安全第一」を企業経営の基本とし、顧客に利用していただく様々な製品やサービスの安全と、私たち自身が安全で明るく元気に働くことのできる活気ある職場づくりを、リスクアセスメントを中心とした安全管理システムの運用を通じて目指しております。また、安全教育、訓練、設備安全対策及び化学物質管理等を推進し、事故の未然防止と事業継続性の確保に努めております。 ⑭環境規制、気候変動への対応に関する影響 当社グループは、気候変動、水質汚濁、大気汚染、騒音、土壌汚染、廃棄物、使用する有害化学物質等に関する国内外の環境法令の遵守に努めております。しかしながら、将来の環境規制への適応が困難な事象や不測の事態が発生した場合、環境対応費用の増加や事業活動の停止、社会的信用の低下等、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 気候変動対応に関しては、重要な経営課題の一つと捉え「気候関連財務情報タスクフォース（TCFD）」による提言に賛同するとともに、シナリオ分析に基づくリスクと機会を予測し活動を推進しております。さらに、2030年に温室効果ガス排出量を50％削減（2023年比）、2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロを目標とし、定期的なモニタリングと進捗管理を行っております。 環境関連法令や規制を遵守するための取組み、環境理念や環境方針に基づいた環境負荷の低減、温室効果ガス排出量削減目標達成に向けた施策を継続的に推進し、環境情報の適切な開示を行ってまいります。 ⑮その他リスク 当社グループはグローバルかつ広範な事業展開を行う企業として、各国・各地域における経済環境変動、自然災害、戦争、テロ、感染症等の不可抗力要因が、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。
（２）【役員の状況】 ①役員一覧 （ⅰ）有価証券報告書提出日（2026年９月25日）現在の当社の役員の状況は、次のとおりであります。 男性 10名 女性 1名 （役員のうち女性の比率 9.09％） 役職名 氏名 生年月日 略歴 任期 所有株式数 （千株） 代表取締役会長 岩下 節生 1953年２月４日生 1984年３月 当社入社 1992年８月 当社海外業務部北京事務所長兼上海事務所長 1995年９月 寧波愛発科真空技術有限公司董事総経理 1998年７月 当社アジア本部中国総部長 2006年３月 愛発科（中国）投資有限公司董事総経理 2006年10月 愛発科商貿（上海）有限公司董事長 愛発科真空技術（蘇州）有限公司董事長 2011年９月 当社取締役 2012年７月 当社取締役執行役員 2013年９月 当社常務執行役員 2015年７月 当社専務執行役員 愛発科（中国）投資有限公司董事長 2016年７月 当社専務執行役員経営企画室長 2016年９月 当社取締役専務執行役員経営企画室長 2017年７月 当社代表取締役執行役員社長 2019年１月 当社代表取締役執行役員社長兼人財センター長 2020年７月 当社代表取締役社長 2025年７月 当社代表取締役社長 CEO 2026年７月 当社代表取締役会長（現任） (注)３ 36 取締役 青木 貞男 1962年９月５日生 1986年４月 株式会社第一勧業銀行（現株式会社みずほ銀行）入行 2002年７月 株式会社みずほコーポレート銀行（現株式会社みずほ銀行）内幸町営業第五部次長 2005年４月 西武鉄道株式会社出向経営企画本部次長 2006年３月 株式会社みずほコーポレート銀行（現株式会社みずほ銀行）企業推進第一部企業考査役 2007年10月 同行営業第十五部チーフリレーションシップマネージャー 2009年４月 株式会社みずほ銀行企業審査第一部審査役 2011年５月 同行新宿新都心支店長 2014年12月 株式会社フォーラムエンジニアリング出向常務執行役員 2015年８月 同社入社常務取締役 2016年５月 当社入社 財務部長付専門部長 2016年７月 当社財務部長 2018年７月 当社執行役員財務部長 2019年１月 当社執行役員財務・経理部長 2019年９月 当社取締役執行役員財務・経理部長 2020年７月 当社上席執行役員財務部長 2021年７月 当社常務執行役員財務部長 2023年７月 当社常務執行役員管理本部長 2024年９月 当社常務取締役管理本部長 2025年７月 当社専務取締役 CFO 管理本部長 2026年７月 当社取締役（現任） (注)３ 0 役職名 氏名 生年月日 略歴 任期 所有株式数 （千株） 取締役 島田 鉄也 1969年４月21日生 1995年１月 当社入社 2009年７月 当社電子機器事業１技術部長 2012年７月 当社電子機器事業部長 2018年７月 当社執行役員電子機器事業部長 2020年１月 当社執行役員電子機器事業部長 愛発科真空技術（沈陽）有限公司董事長 2020年７月 当社常務執行役員電子機器事業部長 愛発科真空技術（沈陽）有限公司董事長 2020年10月 当社常務執行役員電子機器事業部長兼品質技術部長 愛発科真空技術（沈陽）有限公司董事長 2021年１月 当社常務執行役員電子機器事業部長兼品質システム部長 愛発科真空技術（沈陽）有限公司董事長 2021年７月 当社常務執行役員半導体・電子機器事業部長兼品質システム部長 愛発科真空技術（沈陽）有限公司董事長 2022年７月 当社常務執行役員 アルバックテクノ株式会社代表取締役社長 アルバック販売株式会社代表取締役社長 タイゴールド株式会社代表取締役社長 2023年７月 当社常務執行役員CS事業本部長 タイゴールド株式会社代表取締役社長 2025年７月 当社専務執行役員 CSO 生産本部長兼CS事業本部長 2025年９月 当社専務取締役 CSO 生産本部長兼CS事業本部長 2026年７月 当社取締役（現任） (注)３ 1 取締役 西 啓介 1960年９月20日生 1983年４月 日本生命保険相互会社入社 2007年３月 同社国際業務部長兼中国室長 2010年３月 同社執行役員欧州総支配人兼審議役兼ロンドン事務所長 2011年７月 同社取締役執行役員米州総支配人兼欧州総支配人兼審議役兼ニューヨーク事務所長 2014年３月 同社取締役常務執行役員国際業務部長兼米州総支配人兼欧州総支配人兼アジア総支配人 2017年３月 同社取締役専務執行役員兼米州総支配人兼欧州総支配人兼アジア総支配人 2018年３月 同社取締役 2018年３月 ニッセイアセットマネジメント株式会社代表取締役社長 2020年３月 ニッセイ信用保証株式会社顧問 2020年４月 同社代表取締役社長 2020年９月 当社社外取締役（現任） 2026年４月 ニッセイ信用保証株式会社代表取締役会長（現任） (注)３ － 取締役 内田 憲男 1950年10月22日生 1973年４月 東京光学機械株式会社（現株式会社トプコン）入社 1980年６月 トプコンシンガポール社ゼネラルマネジャー 1989年２月 トプコンオーストラリア社社長 1994年10月 トプコンレーザーシステムズ社（現トプコンポジショニングシステムズ社）上級副社長 1999年７月 株式会社トプコンレーザーシステムズジャパン社長 2003年６月 株式会社トプコン執行役員 2003年７月 株式会社トプコン販売（現株式会社トプコンソキアポジショニングジャパン）取締役社長 2005年６月 株式会社トプコン取締役兼執行役員 2007年６月 同社取締役兼常務執行役員 2010年６月 同社取締役兼専務執行役員 2011年６月 同社代表取締役社長 2013年６月 同社相談役 2015年６月 ナブテスコ株式会社社外取締役 2015年９月 当社社外取締役（現任） (注)３ 1 役職名 氏名 生年月日 略歴 任期 所有株式数 （千株） 取締役 石田 耕三 1944年11月４日生 1970年３月 株式会社堀場製作所入社 1982年６月 同社開発・営業本部製品１部長 1985年３月 ホリバ・ヨーロッパ社（ドイツ）取締役社長 1988年６月 株式会社堀場製作所取締役 1991年６月 同社常務取締役 1996年６月 同社専務取締役 2001年７月 ＡＢＸ社（現ホリバＡＢＸ社）（フランス）取締役社長（CEO） 2002年６月 株式会社堀場製作所取締役副社長 2005年６月 同社代表取締役副社長 2011年３月 株式会社堀場エステック取締役相談役 2014年３月 株式会社堀場製作所代表取締役副会長 2016年３月 同社上席顧問 2016年９月 当社社外取締役（現任） 2017年３月 株式会社正興電機製作所社外取締役（現任） 2018年４月 株式会社堀場製作所フェロー (注)３ 0 取締役 中島 好美 1956年12月16日生 1980年４月 安田信託銀行株式会社（現みずほ信託銀行株式会社）入行 1982年２月 エイボン・プロダクツ株式会社（現エフエムジー＆ミッション株式会社）入社 1997年５月 シティバンクＮ.Ａ.入行バイスプレジデント 2000年６月 ソシエテ・ジェネラル証券会社入社シニアジェネラルマネージャー 2002年４月 アメリカン・エキスプレス・インターナショナル,Inc.入社 日本支社グローバル トラベラーズチェック＆プリペイドカードサービス担当副社長 2011年８月 同社シンガポール カントリー・マネジャー（社長） 2014年２月 同社日本支社上席副社長 2014年４月 アメリカン・エキスプレス・ジャパン株式会社代表取締役社長 2017年６月 ヤマハ株式会社社外取締役 イオンフィナンシャルサービス株式会社社外取締役 2018年６月 日本貨物鉄道株式会社社外取締役（現任） 2018年９月 当社社外取締役（現任） 2021年４月 積水ハウス株式会社社外取締役（現任） 事業構想大学院大学特任教授（現任） 2026年６月 東京海上日動火災保険株式会社社外取締役（現任） (注)３ 0 監査役 森尻 裕二 1967年４月10日生 1990年４月 日本生命保険相互会社入社 2012年３月 同社東海総合法人第二部長 2017年３月 同社団体年金部長 2019年３月 同社総合法人第一部長 2023年４月 当社入社 経営企画室付部長 2023年９月 当社常勤監査役（現任） (注)４ － 監査役 齋藤 一也 1960年10月27日生 1983年４月 当社入社 1996年７月 当社筑波超材料研究所真空材料研究室専門室長 1997年７月 当社筑波超材料研究所プロセス材料研究室長 2000年７月 当社千葉超材料研究所第１研究部第４研究室室長 2000年10月 当社千葉超材料研究所第３研究部長 2005年７月 当社千葉超材料研究所長 2009年９月 当社取締役千葉超材料研究所長 2012年７月 当社取締役執行役員技術企画室長 2013年９月 当社執行役員技術企画室長、超材料研究所長 2014年７月 当社執行役員技術企画室長、超材料研究所長、半導体電子技術研究所長 2015年７月 当社執行役員技術企画室長、超材料研究所長 2017年７月 当社執行役員半導体電子技術研究所長 2018年７月 当社上席執行役員半導体電子技術研究所長 2020年７月 当社上席執行役員技術情報担当 2021年７月 当社理事戦略企画室付 2022年９月 当社常勤監査役（現任） (注)５ 2 役職名 氏名 生年月日 略歴 任期 所有株式数 （千株） 監査役 宇都宮 功 1964年５月11日生 1997年４月 税理士登録 1999年７月 宇都宮功税理士事務所開設 2011年６月 東京税理士会京橋支部厚生部長 2012年６月 税理士法人築地会計代表社員（現任） 2013年６月 東京税理士会理事 2015年６月 東京税理士会理事総務部副部長 2017年６月 東京税理士会京橋支部総務部長 2017年９月 当社社外監査役（現任） 2019年６月 東京税理士会京橋支部副支部長 2023年６月 東京税理士会京橋支部支部長（現任） (注)６ 0 監査役 本田 宗哉 1972年９月11日生 2007年12月 弁護士登録 2008年４月 中央大学法科大学院実務講師（現任） 2012年４月 公益財団法人東京都柔道連盟監事（現任） 2016年４月 公益財団法人日弁連法務研究財団認証評価事業部事務局長 2016年９月 株式会社ビーブレイクシステムズ社外監査役 2021年11月 アイデス株式会社社外監査役（現任） 2022年４月 本田宗哉法律事務所開設 所長（現任） 2023年９月 当社社外監査役（現任） 2023年９月 株式会社ビーブレイクシステムズ社外取締役（監査等委員）（現任） (注)４ － 計 44 （注）１．取締役西啓介、内田憲男、石田耕三、中島好美の各氏は、社外取締役であります。 ２．監査役宇都宮功、本田宗哉の両氏は、社外監査役であります。 ３．2025年９月26日開催の定時株主総会の終結の時から１年間 ４．2023年９月28日開催の定時株主総会の終結の時から４年間 ５．2022年９月29日開催の定時株主総会の終結の時から４年間 ６．2025年９月26日開催の定時株主総会の終結の時から４年間 ７．経営の意思決定及び業務監督機能と業務執行機能を分離することで、権限と責任の明確化を図り、事業環境の急激な変化に迅速かつ機動的に対応するため、執行役員制度を導入しております。 業務執行のみを行う執行役員は、以下の11名であります。 社長執行役員 グループ技術統括 兼 イノベーション推進担当 清田 淳也 副社長執行役員 半導体電子事業戦略本部長 グループ戦略統括 近藤 智保 執行役員 経営企画室長 兼 法務室長 コーポレートガバナンス統括 愛発科（中国）投資有限公司 董事長 愛発科自動化科技（上海）有限公司 董事長 髙橋 信次 執行役員 マーケティング・事業戦略・生産戦略（IT）担当 愛発科真空技術（沈陽）有限公司 董事長 磯 佳樹 執行役員 渉外担当 アルバックテクノ株式会社 代表取締役社長 アルバック販売株式会社 代表取締役社長 岩井 隆弥 執行役員 Industry & Academia エンゲージメント担当 申 周勲 執行役員 営業統括 岩井 治憲 執行役員 中国地域統括 愛発科（中国）投資有限公司 董事総経理 愛発科商貿（上海）有限公司 董事長 愛発科真空技術（蘇州）有限公司 董事長 愛発科真空設備（上海）有限公司 董事長 楊 秉君 執行役員 台湾地域統括 優貝克科技股份有限公司 董事総経理 呉 東嶸 執行役員 PHIグループ担当 アルバック・ファイ株式会社 代表取締役社長 愛発科費恩斯（南京）儀器有限公司 董事長 髙橋 明久 執行役員 グロース ＆ デベロップメント・M&A 担当 欧米統括 President of Americas ULVAC Technologies, Inc., Chairman Eric Ries ８．当社は、法令に定める監査役の員数を欠くことになる場合に備え、会社法第329条第３項に定める補欠監査役１名を選任しております。補欠監査役の略歴は次のとおりであります。 氏名 生年月日 略歴 所有株式数 （千株） 吉澤 知志 1968年６月24日生 1991年４月 コベルコシステム株式会社入社 1997年７月 フィリップモリス株式会社（現フィリップモリスジャパン合同会社）入社 2000年３月 本間美邦税理士事務所入所 2005年３月 税理士登録 2005年４月 吉澤知志税理士事務所開設 所長（現任） 2017年４月 藤原鋼材株式会社監査役 2017年５月 太陽通信工業株式会社監査役 2020年６月 一般社団法人国際職業能力育成協会代表理事（現任） 2021年６月 東京税理士会京橋支部副支部長（現任） － （ⅱ）2026年９月29日開催予定の定時株主総会の議案（決議事項）として、「取締役９名選任の件」を提案しており、当該議案が承認可決されますと、当社の役員の状況は、次のとおりとなる予定であります。 なお、当該定時株主総会の直後に開催予定の取締役会の決議事項の内容（役職名等）も含めて記載しております。 男性 12名 女性 1名 （役員のうち女性の比率 7.69％） 役職名 氏名 生年月日 略歴 任期 所有株式数 （千株） 代表取締役社長執行役員 清田 淳也 1967年９月28日生 1985年４月 当社入社 2005年７月 当社千葉超材料研究所第1研究部長 2017年７月 当社超材料研究所長 2020年７月 当社先進技術研究所長 2022年７月 当社執行役員先進技術研究所長 2023年７月 当社上席執行役員開発本部長 2024年７月 当社常務執行役員開発本部長 2025年２月 当社常務執行役員開発本部長 兼コンポーネント事業本部長 2025年４月 アルバック機工株式会社代表取締役社長 2025年７月 アルバック・クライオ株式会社代表取締役社長 2026年７月 当社社長執行役員 2026年９月 当社代表取締役社長執行役員（現任） (注)３ 1 代表取締役副社長執行役員 近藤 智保 1963年11月９日生 1985年４月 当社入社 2003年７月 当社第１半導体装置事業部装置技術部長 2012年７月 当社半導体装置事業部長 ULVAC KO
２【沿革】 当社は、1952年米国NRC Equipment Corporationと技術提携を前提とした総代理店契約を結び各種真空装置の輸入販売を目的として創業いたしました。 創業後の主要事項は次のとおりであります。 年月 主要事項 1952年８月 各種真空装置の輸入販売を目的として、日本真空技術株式会社（資本金６百万円）を創業。 1955年４月 大森工場を新設し、国産装置の製造に着手。 1956年11月 株式会社東洋精機真空研究所を合併し、尼崎工場として真空化学装置及び真空ポンプ等の規格品の製造に着手。 1959年４月 本社及び大森工場を横浜市に移転。 1961年７月 真空技術の基本を応用し、真空冶金事業を開始。 1962年９月 真空材料株式会社（商号変更 アルバックマテリアル㈱）を設立、耐火材料の販売を開始。 1962年10月 熱分析機器の専門メーカーとして真空理工株式会社（現・アドバンス理工㈱）を設立。 1963年10月 新生産業株式会社（1929年９月20日創立）に吸収合併されると共に、同日社名を日本真空技術株式会社と改称し、旧日本真空技術株式会社の事業内容を継続。 1964年１月 外国事業部リライアンス部を分離し、米国Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンス株式会社（現・㈱ＲＥＪ）を設立。 1964年７月 香港万豊有限公司と共同出資で合弁会社Hong Kong ULVAC Co.,Ltd.を設立。 1966年４月 真空冶金事業部を分離し、真空冶金株式会社を設立。 1968年５月 本社及び横浜工場を茅ヶ崎市に移転。 1970年７月 専売特約店の三和アルバック販売株式会社（商号変更 アルバック東日本㈱）を設立。 1971年７月 小型真空ポンプの専門メーカーとして真空機工株式会社（現・アルバック機工㈱）を設立。 1972年７月 超材料研究所を千葉県に新設。 1975年12月 対米輸出の拠点として北米に現地法人ULVAC North America Corp.(現・ULVAC Technologies, Inc.)を設立。 1977年１月 九州地区の営業活動の拡大のために九州アルバック株式会社（商号変更 アルバック九州㈱）を設立。 1979年１月 サービス事業部を分離し、アルバックサービス株式会社を設立。 SI事業部を分離し、アルバック成膜株式会社を設立。 1981年10月 米国Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオ株式会社を設立。 1982年１月 台湾台北市にULVAC TAIWAN Co.,Ltd.（現・ ULVAC TAIWAN INC.）を設立。 1982年11月 米国The Perkin Elmer Corp.と共同出資でアルバック・ファイ株式会社を設立。 1982年12月 茨城県筑波学園都市（現つくば市）市内に筑波超材料研究所を設立。 1983年２月 中国北京市に北京事務所を開設。 1985年３月 核融合臨界プラズマ実験装置「JT-60」の真空排気系を納入。 1985年４月 関西の拠点工場としてアルバック精機株式会社を設立。 1987年１月 大型装置の生産体制強化のため、青森県八戸市に東北真空技術株式会社（商号変更 アルバック東北㈱）を設立。 1987年２月 欧州地区のサービス体制強化のため、西独にULVAC GmbHを設立。 1987年５月 グループ会社支援のため、株式会社アルバック・コーポレートセンターを設立。 1987年９月 英文社名をULVAC JAPAN,Ltd.と変更。 1988年10月 真空ポンプの量産体制確立のため、鹿児島に九州真空技術株式会社を設立。 1990年５月 半導体製造装置の生産体制強化のため静岡県裾野市に富士裾野工場を新設。 1991年12月 九州真空技術㈱がアルバック精機㈱を合併し、アルバック精機㈱に商号変更。 1992年４月 資本金12億10百万円より38億30百万円に増資。 1992年６月 資本金38億50百万円に増資。 1994年10月 アルバックサービス㈱がアルバックマテリアル㈱を合併し、アルバックテクノ㈱に商号変更。 1995年５月 韓国ソウル市に、ULVAC KOREA,Ltd.を設立。 1995年９月 中国に寧波中策動力機電集団有限公司と合弁で寧波愛発科真空技術有限公司を設立。 1996年11月 真空装置の生産能力拡充のため、東北真空技術㈱、アルバック九州㈱鹿児島事業所にクリーン工場を増設。 年月 主要事項 1998年１月 シンガポールCSセンター、台湾新竹R&Dセンターを開設し、アジアのネットワークを拡大。 2000年４月 台北五股サービスセンターを開設。 2000年８月 ULVAC KOREA,Ltd.に生産工場として平澤工場を設置。 2001年５月 寧波愛発科真空技術有限公司に新工場を設置。 2001年７月 株式会社アルバック（英文社名ULVAC,Inc.）に商号変更。 2001年11月 カスタマーサポート強化のためULVAC TAIWAN INC.桃園CIP工場を設置。 2002年１月 カスタマーサポート体制の充実のためULVAC SINGAPORE PTE LTDを設立。 2002年７月 アルバック東日本㈱が高山アルバック㈱を合併し、アルバック イーエス㈱（現・アルバック販売㈱）に商号変更。 2002年12月 米国Physical Electronics USA,Inc.が保有するアルバック・ファイ㈱株式（50％）を取得し、100％子会社化。 2003年３月 米国RELIANCE ELECTRIC COMPANYより日本リライアンス㈱株式（31％）を取得し、持分を81％に引き上げ。 2003年５月 アルバック東北㈱、アルバックテクノ㈱、UMAT㈱による機械加工、表面処理、精密洗浄の一貫工場を東北に設置。 2003年７月 中国における本格的生産工場とCSソリューション工場として愛発科真空技術（蘇州）有限公司を設立。 2003年８月 工業用インクジェット装置を製造・販売しているLitrex Corporationの株式50％を取得。 2004年４月 東京証券取引所市場第１部に株式を上場。 資本金38億50百万円より81億円に増資。 2004年５月 資本金81億円より89億50百万円に増資。 2004年７月 韓国にULVAC KOREA,Ltd.とアルバック東北㈱が共同出資で大型基板真空用部品の製造を目的としたUlvac Korea Precision,Ltd.を設立。 韓国にULVAC KOREA,Ltd.と真空冶金㈱が共同出資で成膜装置用部品の表面処理を目的としたPure Surface Technology,Ltd.を設立。 2004年８月 中国に日本リライアンス㈱、啓電実業股份有限公司と共同出資で制御盤及び自動制御駆動装置の製造、販売を目的とした愛発科啓電科技（上海）有限公司（現・愛発科自動化科技（上海）有限公司）を設立。 2004年12月 資本金89億50百万円より134億68百万円に増資。 2005年１月 中国にアルバック機工㈱と江蘇宝驪集団公司と共同出資で真空ポンプ用部品の製造、販売を目的とした愛発科天馬電機（靖江）有限公司を設立。 中国に沈陽中北真空技術有限公司と共同出資で真空炉の製造、販売を目的とした愛発科中北真空（沈陽）有限公司を設立。 成都東方愛発科真空技術有限公司を子会社化し、愛発科東方真空（成都）有限公司に商号変更。 2005年４月 真空冶金㈱がUMAT㈱を合併し、アルバックマテリアル㈱に商号変更。 フラットパネルディスプレイ事業拡大のため、富士通ヴィエルエスアイ㈱より設備事業譲受。 2005年６月 ULVAC KOREA,Ltd.に生産拡大のため玄谷工場を増設。 アルバック機工㈱宮崎事業所に小型真空ポンプの評価、検証を目的とした信頼性評価センターを設置。 2005年11月 英国Cambridge Display Technology Limitedが保有するLitrex Corporation株式（50％）を取得し100％子会社化。 タイに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC (THAILAND) LTD.を設立。 2005年12月 台湾にフラットパネルディスプレイ製造装置などの製造を目的としたULVAC Taiwan Manufacturing Corporationと、部品加工や部品洗浄などフィールドサポートを目的とした ULTRA CLEAN PRECISION TECHNOLOGIES CORP.を設立。 2006年３月 中国における子会社の管理統括等を目的とした愛発科（中国）投資有限公司を設立。 2006年４月 台湾に制御盤等の製造を目的としたULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.を設立。 2006年７月 韓国に研究開発を目的としたULVAC Research Center KOREA，Ltd.を設立。 台湾に研究開発を目的としたULVAC Research Center TAIWAN，Inc.を設立。 2006年８月 精密ステージを製造・販売しているシグマテクノス㈱の株式（70％）を取得。 マレーシアに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC MALAYSIA SDN.BHD.を設立。 年月 主要事項 2006年９月 神奈川県茅ヶ崎市に真空装置部品の表面処理を目的とした、アルバックテクノ㈱ケミカルセンターを新設。 宮崎県西都市に小型真空ポンプの生産集約化を目的として、アルバック機工㈱宮崎事業所を増 設。 2006年11月 愛知県春日井市にフラットパネルディスプレイ製造装置の生産能力拡充のため、愛知工場を新設。 2007年６月 インドビジネス拡大のため、ULVAC,Inc.India Branch.を設立。 2007年９月 埼玉県日高市に大型の精密ステージの製造・販売するためシグマテクノス㈱本社工場を新設。 2007年11月 啓電実業股份有限公司の持株譲渡に伴い愛発科啓電科技（上海）有限公司を愛発科自動化科技(上海）有限公司に商号変更。 2008年２月 開発委託設計を目的としたアルバック ワイ・エム・イー㈱（商号変更 アルバックエンジニアリング㈱）を設立。 2008年７月 フィールドサポートを専門とした、アルバックヒューマンリレーションズ㈱を設立。 2008年８月 台湾における経営の合理化などを目的としてULVAC TAIWAN INC.を存続会社とし、ULVAC Taiwan Manufacturing Corporationと合併。 2008年８月 韓国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、ULVAC Materials Korea,Ltd.を設立。 2008年10月 スパッタリングターゲット材の効率的な生産と開発体制の強化を目的として、アルバックマテリアル㈱から当社へ事業を移し、洗浄事業のサポート体制の充実を目的として、アルバックテクノ㈱とアルバック九州㈱へ事業譲渡。 2009年４月 中国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、愛発科電子材料（蘇州）有限公司を設立。 2009年４月 中国にタッチパネルの製造などを目的とした愛発科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司を設立。 2009年６月 ディスプレイ事業を東アジアで機動的に事業展開するため、Litrex Corporationを解散し、当社にて同事業を継続。 2009年12月 中国に研究開発を目的とした愛発科（蘇州）技術研究開発有限公司を設立。 2010年１月 資本金134億68百万円より208億73百万円に増資。 2010年３月 研究開発強化のため、富里工業団地に千葉超材料研究所を新設移設。 2010年10月 当社がアルバックマテリアル㈱を吸収合併、アルバック九州㈱のサービス、洗浄、表面処理事業をアルバックテクノ㈱に事業譲渡。また、アルバック九州㈱がアルバック精機㈱を吸収合併。 2011年７月 韓国の研究開発強化のため、ULVAC Research Center KOREA，Ltd.を解散し、ULVAC KOREA,Ltd.の付属研究所として韓国超材料研究所を設立。 2012年６月 ㈱アルバック・コーポレートセンターを解散し、当社にて同事業を継続。 2012年７月 販売体制強化のため、アルバック イーエス㈱をアルバック販売㈱に商号変更。 2012年９月 2013年10月 2014年５月 2014年６月 2014年12月 2015年１月 2016年12月 シグマテクノス㈱を解散。 日本リライアンス㈱の一部株式（80％相当）を㈱高岳製作所へ譲渡。 ULVAC Research Center TAIWAN，Inc.を解散し、ULVAC TAIWAN INC.にて同事業を継続。 中国に輸入部品の保税扱いでの仕入れ、販売のため、愛発科真空設備（上海）有限公司を設立。 アルバック理工㈱（現・アドバンス理工㈱）の全株式を㈱チノーへ譲渡。 アルバックエンジニアリング㈱を解散。 沈陽中北真空技術有限公司が保有する愛発科中北真空（沈陽）有限公司の株式（25％）を取得し、100％子会社化。 2017年９月 100％子会社化に伴い、愛発科中北真空（沈陽）有限公司を愛発科真空技術（沈陽）有限公司に商号変更。 2018年７月 中国にフラットパネルディスプレイ用マスクブランクス事業の生産、販売を目的とした愛発科成膜技術（合肥）有限公司を設立。 2018年10月 2019年１月 寧波愛発科真空技術有限公司が第三者割当増資を実施。 日本リライアンス㈱を㈱ＲＥＪに商号変更。 2021年２月 2021年５月 愛発科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司を解散。 Pure Surface Technology,Ltd.がULVAC Materials Korea,Ltd.、Ulvac Korea Precision,Ltd.、UF TECH,Ltd.を吸収合併。 年月 主要事項 2021年７月 2021年８月 2022年４月 2022年６月 2022年７月 2023年11月 2024年５月 2025年７月 2026年３月 2026年６月 アルバックヒューマンリレーションズ㈱の全株式を㈱マイスティアへ譲渡。 中国にリークテスト装置の生産、販売を目的とした愛発科東方検測技術（成都）有限公司を設立。 東京証券取引所の市場区分見直しにより、東京証券取引所の市場第一部からプライム市場に移行。 ㈱ＲＥＪの全株式をアイダエンジニアリング㈱へ譲渡。 当社がアルバック東北㈱、アルバック九州㈱を吸収合併。 中国に表面分析装置の販売、カスタマーサポートを目的とした愛発科費恩斯（南京）儀器有限公司を設立。 韓国に製品・技術開発の加速、コラボレーションと技術サポートの強化を目的としたTechnology Center PYEONGTAEKを新設。 アルバックテクノ株式会社が当社の完全子会社であるタイゴールド株式会社を吸収合併。 ULVAC MALAYSIA SDN.BHD.を解散。 愛発科電子材料（蘇州）有限公司の全出資持分を北京豊科晶晟電子材料有限公司へ譲渡。
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