JX金属は何で稼いでいる？

３ 【事業の内容】
当社グループは、半導体・情報通信分野に欠かせない銅やレアメタルを原料とする先端材料の開発・製造・販売を主な内容としてグローバルな事業活動を行っており、半導体用スパッタリングターゲットや圧延銅箔を主力製品としています。これらに加えて、銅やレアメタルの資源開発や、製錬・リサイクル事業を手掛けており、上流から下流までをつなぐ強固なサプライチェーンを有することにより、安定的に先端材料をマーケットに供給し、持続可能な経済・社会の発展に貢献しています。

当社グループは、半導体材料セグメント、情報通信材料セグメント、基礎材料セグメントの３つの報告セグメントにて構成されています。成長戦略のコアである半導体材料セグメントと情報通信材料セグメントをフォーカス事業と位置づけ、先端材料分野での技術の差別化や市場創造を通じて、市場成長以上の利益成長を目指しています。一方、基礎材料セグメントをベース事業と位置づけ、銅・レアメタルの安定供給を通じてフォーカス事業を支える役割を担っています。各報告セグメントの主要製品、主要会社は以下のとおりです。

区分

セグメント

事業部・
事業会社

主要製品

主要な会社

フォーカス事業

半導体
材料

薄膜材料事業部

半導体用スパッタリングターゲット、高純度金属、表面処理剤、化合物半導体・結晶材料

当社、JX Advanced Metals USA, Inc.、JX Advanced Metals Singapore Pte.Ltd.、JX Advanced Metals Korea Co., Ltd.、ＪＸ金属商事㈱、台湾日鉱金属股份有限公司

タンタル・
ニオブ事業部

タンタル・ニオブ金属粉末、タンタル・ニオブ酸化物粉末、塩化物・化合物

当社、TANIOBIS GmbH、東京電解㈱

情報通信
材料

機能材料事業部

圧延銅箔、チタン銅、コルソン合金

当社、JX METALS PHILIPPINES, Inc.、日鉱金属(蘇州)有限公司、ＪＸ金属商事㈱、台湾日鉱金属股份有限公司

東邦チタニウム

超微粉ニッケル、高純度酸化チタン、触媒製品、スポンジチタン、チタンインゴット

東邦チタニウム㈱

タツタ電線

電磁波シールドフィルム、導電性ペースト、ボンディングワイヤ、漏水検知システム、医療機器部材、インフラ・産業機器用電線

タツタ電線㈱

ベース
事業

基礎
材料

資源事業部

銅精鉱、電気銅、モリブデン精鉱、含金珪酸鉱、タンタル精鉱

当社、SCM Minera Lumina Copper Chile、Minera Los Pelambres、Minera Escondida

金属・リサイクル事業部

電気銅、型銅、貴金属、硫酸

当社、ＪＸ金属製錬㈱、パンパシフィック・カッパー㈱、ＪＸ金属サーキュラーソリューションズ㈱、eCycle Solutions Inc.、台湾日鉱金属股份有限公司

以下の事業区分は「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等 注記７．セグメント情報」に掲げるセグメントの区分と同一であり、各事業を構成する主要な関係会社の状況については、「第１ 企業の概況 ４ 関係会社の状況」に記載しています。

(1) 半導体材料セグメント

(薄膜材料事業部)
高純度化や組成・組織制御などの当社のコア技術を駆使し、半導体や磁性材料向けのスパッタリングターゲットをはじめ、各種高機能デバイス、最先端IT機器、医療機器、電気自動車に用いられる製品をグローバルに展開しています。中でも、ロジックやメモリに用いられる半導体用スパッタリングターゲットが主力製品の一つであり、世界的にも高い評価を得ています。当社は様々な素材の半導体用スパッタリングターゲットを取り扱っており、半導体の主要配線層に用いられる銅や銅合金、そのバリア層に用いられるタンタルに加えて、半導体の回路形成やトランジスタ部分等に用いられるチタン、コバルト及びタングステンの製品でグローバル市場におけるトップクラスの地位を確立しています。
半導体はシリコンウエハ上に数百回以上にわたり回路を形成して製造されますが、半導体用スパッタリングターゲットは回路形成に必要となる素材の層をつくる工程(成膜工程)の材料として用いられます。成膜に当たっては、真空状態の装置内でスパッタリングターゲットにアルゴンイオンを衝突させ、放出したターゲット原子を基板(シリコンウエハ等)上に付着させることによって薄膜を形成します。半導体が目的とする機能を発揮するためには様々な種類の高純度素材による回路形成が必要となりますが、当社の強みである高純度化技術や、多種多様な元素・合金を取り扱う技術により、様々な材料ニーズを満たしたスパッタリングターゲットの製造が可能です。

① 半導体用スパッタリングターゲット製造における当社のコア技術
電解精製にて製造された高純度の電気銅を溶解してインゴットにし、そのインゴットを適切な幅に切断したのち、鍛造・圧延を施して必要な直径を持った円盤状の板(ターゲット材)に加工します。その後、熱処理によって結晶組織を均一化したターゲット材を、スパッタリング装置へ固定する役割を果たすバッキングプレートと接合(ボンディング)し、顧客から求められる特性に応じて表面の粗化から鏡面仕上げ等の加工を行い、品質や機能の分析評価を経て製品化されます。この一連の加工の中で、以下に記載する当社の複数のコア技術が活かされており、多数の金属品種において高品質な製品の安定的な供給を実現しています。

・高純度化技術
電解精製工程において、創業以来培ってきた高純度化技術により９N(99.9999999％)の銅の製造を実現しています。当技術により高純度銅スパッタリングターゲットに要求される６Nの銅を安定的に生産しています。

・組成・組織制御技術
ターゲット材の結晶組織がスパッタリングに適した大きさや向きとなるように制御・管理しています。これにより、成膜時の組成・組織が均一となり半導体の欠陥を引き起こす不純物であるパーティクル(発塵)の発生を抑えることに寄与しています。
・表面制御技術
バッキングプレートとターゲット材との接合状態が不均一な場合、スパッタリング時にターゲット材の表面温度が不均一になり様々な障害が生じます。そこで、ろう材による接合や異種材料間の拡散接合など、それぞれの材料に適した技術により、均一で強固な接合を実現しています。また、異種材料接合技術の応用により、銅箔と樹脂の複合材など、新しい材料の開発を進めています。
また、スパッタリングターゲットなどの材料は、その組成や純度だけでなく、表面状態も顧客のプロセスにおける製造効率に影響します。そのため、出荷前の最終工程において、エッチングによる表面の粗化から鏡面仕上げまで、求められる特性に応じた最終加工を行っています。

・分析評価技術
当社で製造したスパッタリングターゲットは、材料として顧客のスパッタリング装置に組み込まれて使用されます。当社は自前のスパッタリング装置を所有しており、顧客が使用する条件下で評価を行うことによって最終形態で期待される機能や特性の実現、性能改善を図っています。

② 半導体製造装置メーカーとの強固な関係
当社は半導体製造装置メーカーから受ける素材提案を通じて品質技術情報を獲得し、その情報を基に半導体製造装置メーカーに対して材料提案や先行開発を継続して実施してきました。長年にわたるこれらの活動の結果、当社製品の多くが半導体製造装置メーカーから標準材料として指定されており、それにより当半導体製造装置メーカーの製造装置を使用する半導体メーカーからの安定的な受注獲得につながっていると考えています。
事実として、当社は大手半導体メーカーと長年にわたり取引を継続してきた実績を有しています。加えて、高品質な製品の安定的供給が顧客から高く評価されています。

③ 半導体メーカー拠点との地理的優位性を有する生産体制
当社は、半導体の世界的生産地である米国、台湾、韓国において、スパッタリングターゲット製造の下工程(注)である機械加工拠点を有し、一定の在庫を保有することで、安定的かつ素早い製品供給体制を構築しています。
また、米国・台湾においては技術サービス拠点としての役割も担い、顧客への迅速な品質対応も行っています。当社の高い技術レベルと各拠点での速やかな技術対応を組み合わせることにより、高い顧客満足度を実現しています。

(注) 下工程は、半導体用スパッタリングターゲット製造プロセスにおける加工・ボンディング工程を指します。

(タンタル・ニオブ事業部)
当社グループのTANIOBISは、世界各地に製造・販売拠点を有する世界有数のタンタルとニオブの材料メーカーであり、主要製品は半導体用スパッタリングターゲットやコンデンサ用のタンタル粉・ニオブ粉、SAWデバイスや光学レンズ用のタンタル酸化物・ニオブ酸化物、半導体用のタンタルやニオブ等の塩化物、その他の高機能粉末材料です。半導体用スパッタリングターゲット用のタンタル粉については、当社グループの東京電解株式会社(以下、「東京電解」という。)にてインゴット状に加工のうえ当社薄膜材料事業部に供給し、スパッタリングターゲットの材料として使用されています。
また、当社グループは、ブラジルのMibra鉱山におけるタンタル原料生産事業に出資しており、安全や人権に配慮した倫理的かつ持続可能な「責任ある調達」を推進するとともに、TANIOBISの年間調達量の一定割合のタンタル鉱石を安定的に調達する体制を構築しています。これらの取り組みによって、当社グループとして半導体用タンタルスパッタリングターゲットを上流から下流まで一気通貫で安定的に供給する体制を確立しています。

(2) 情報通信材料セグメント

(機能材料事業部)
機能材料事業部では、主力製品である圧延銅箔に加えて、AIサーバ向け等の高機能コネクタなどに使われるチタン銅、コネクタやリードフレームに使われるコルソン合金などの銅合金を取り扱っています。圧延銅箔は、スマートフォンやウェアラブル端末、モビリティ(xEV／ADAS)の分野で使用されるハイエンドなフレキシブル回路基板(FPC)用途に広く採用されています。屈曲性や耐久性といった性能面での高い要求に応える技術力や、市場開拓を含めた継続的な取り組みを通じて、グローバル市場において当該分野で確固たる地位を築いています。銅合金は、銅に様々な元素を添加して製造した製品で、AIサーバやスマートフォン、パソコンなどの電子機器のコネクタ端子や半導体リードフレームなどに使用されており、近年の情報化社会の進展に伴い、これらの用途における重要性が一層高まっています。当社ではTi(チタン)を主な副成分とするチタン銅や、Ni(ニッケル)・Si(ケイ素)を主な副成分とするコルソン合金を中心に、顧客ニーズに合わせた多様な特性の製品を幅広く取り揃えています。

① 圧延銅箔製造における当社の技術優位性
圧延銅箔は、電気銅やリサイクル原料を溶解・鋳造して製造されたインゴットを熱間圧延・冷間圧延により必要な厚さにまで薄くして製造します。その後、結晶組織を均一にするための焼鈍や、顧客の要求するスペックにするための仕上げ圧延、表面に微細な凹凸を形成してプリント基板の樹脂との密着性を高めるための表面処理、幅分割等の工程を経て最終的に製品化がなされます。
圧延銅箔の主要用途であるFPCは、導電性金属である圧延銅箔と絶縁性を持った薄く柔らかいベースフィルム(ポリイミド等)とを貼り合わせた基材(FCCL)に電気回路を形成した基板です。僅かな隙間や繰り返し屈曲する可動部に用いられることから、圧延銅箔には優れた屈曲性や耐久性が求められます。当社は、FPC向けにHA箔を生産していますが、当該製品は結晶粒・結晶方位を調整することにより屈曲性・耐久性を飛躍的に向上させており、疲労寿命を迎えるまでに類似品である特殊電解銅箔と比較して高い曲げ耐性を有する製品を提供しています。また、当社は独自のノウハウにより高品質な薄箔の製造を実現しており、FPC用途において６μm(髪の毛の約10分の１)の薄さまで製造可能です。

② 市場開発型アプローチ
当社は、FPC向け圧延銅箔のエンドユーザーであるスマートフォンメーカー、ウェアラブル端末メーカー及びモビリティメーカーと長年にわたる取引関係を構築しており、これらのエンドユーザーとの対話を通じて、早期の開発ニーズの把握や、ニーズに基づく材料提案を行ってきました。当社製品がエンドユーザーから材料指定を受けることにより、エンドユーザーに製品供給を行うCCL及びFPCメーカーからの安定的な受注を実現しています。

(東邦チタニウム)
チタンは、軽量・高強度・高耐食という特性を持つ金属であり、航空機や海水淡水化プラント、発電プラントなど幅広い分野で利用されています。当社グループの東邦チタニウム株式会社では、金属チタン事業・触媒事業・化学品事業を軸とした事業展開を行っています。金属・チタン事業では、航空機材料用、医療用、産業設備用と幅広い分野で使用されているスポンジチタンやスポンジチタンを溶解・鋳造したチタンインゴットなどを製造しています。触媒事業では、ポリオレフィン製造用触媒などを製造しています。化学品事業では、積層セラミックコンデンサ等に使用される超微粉ニッケルや高純度酸化チタンなどを製造しています。

(タツタ電線)
電線・ケーブル製造で培った技術を多様な製品や事業に発展させており、電子材料事業、電線・ケーブル事業、その他事業を軸とした事業展開を行っています。電子材料事業では、モバイル端末等に使われる機能性フィルム、半導体分野で需要が高まる機能性ペースト、データセンターやサーバ向けの漏水検知システム、医療機器向け材料や部材などのメディカル関連製品を展開しています。電線・ケーブル事業では、ビルや住宅で使用される電力ケーブルからロボット用ケーブル、鉄道やプラントで使われる産業用ケーブルまで幅広く対応しています。

(3) 基礎材料セグメント

(資源事業部)
資源事業は当社の祖業であり、1905年に日立鉱山を開業して以来、国内外の鉱山を対象として、探鉱から開発、操業、休廃止鉱山の管理に至るまでをステークホルダーと協業しながら行ってきました。長年の現場経験を通じて培った鉱床評価技術、低品位銅鉱石から効率的に銅を分離・回収する技術、低環境負荷技術等を活用し、現在は海外の銅鉱山やレアメタル鉱山への参画や国内の含金珪酸鉱鉱山の操業を行っています。
銅鉱山については、カセロネス銅鉱山(チリ)、ロス・ペランブレス銅鉱山(チリ)及びエスコンディーダ銅鉱山(チリ)の権益を保有しており、当社銅製錬事業の原料となる銅精鉱の安定確保を図るとともに、投資リターンを得ています。このうち、エスコンディーダ銅鉱山及びロス・ペランブレス銅鉱山は、世界有数の生産規模を有しています。カセロネス銅鉱山については、2024年３月期にLundin社を経営パートナーとして迎え、同社の豊富な知見や高い鉱山運営能力を活かして、生産性向上やコスト競争力の強化を進めています。
レアメタルについては、当社グループの半導体材料・情報通信材料事業を支える重要な資源であり、その希少性や地理的遍在性を背景に、長期的な安定確保が重要な経営課題となっています。このため当社は、資源の調達先の多様化及びサプライチェーンの強化を目的として、調査・開発段階からの事業参画を含めた取り組みを進めています。こうした取り組みの一環として、オーストラリアにおけるミネラルサンド鉱床開発プロジェクトに参画しています。当社は、本プロジェクトを通じて、フォーカス事業を支える基盤である基礎材料セグメントとしての役割を一層強化するとともに、将来の事業環境変化に備えた資源ポートフォリオの高度化に取り組んでいます。また、当社グループ会社である鹿児島県の春日鉱山株式会社においては含金珪酸鉱の生産を行っており、銅製錬の副原料(溶剤)としてＪＸ金属製錬株式会社 佐賀関製錬所などに供給しています。

(金属・リサイクル事業部)
金属・リサイクル事業部は、金属製錬とリサイクルの一体的な事業運営を推進しています。銅精鉱と使用済み家電製品・電子機器などのリサイクル原料から、高効率な製錬プロセスを通じて純度99.99％以上の銅地金を生産するとともに、銅を製錬する過程の副産物として、貴金属やレアメタル、硫酸などの生産を行っています。当社グループの主要な製錬拠点であるＪＸ金属製錬株式会社 佐賀関製錬所は、世界有数の生産能力を持つ製錬所として位置づけられており、原料受入から製錬、回収、精製に至るま

１ 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】
文中における将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものです。

(1) 経営の基本方針
当社グループは、2019年６月にＪＸ金属グループ2040年長期ビジョンを策定し(2023年５月に一部改定)、「装置産業型企業」から「技術立脚型企業」への転身により、激化する国際競争の中にあっても高収益体質を実現し、半導体材料・情報通信材料のグローバルリーダーとして持続可能な社会の実現に貢献することを基本方針といたしました。この方針のもと、半導体材料セグメントと情報通信材料セグメントからなるフォーカス事業を成長戦略のコアとして位置づけ、先端材料分野での技術の差別化や市場創造を通じて、市場成長以上の利益成長を目指しています。基礎材料セグメントからなるベース事業は、最適な規模の事業体制のもとで、銅やレアメタルの安定供給を通じてフォーカス事業を支えるとともに、サステナブルな社会の実現に向けて貢献してまいります。

［ＪＸ金属グループフィロソフィー］

当社は、2025年３月に東京証券取引所プライム市場に上場するとともに、創業120周年という大きな節目を迎えました。これらを契機として、当社グループとしての存在意義(Purpose)及び価値観・行動指針(Way)を明確化し、グループ全体の一体感を高めるとともに、社会に対して提供する価値をより一層高めていくことを目的として、2025年９月に「ＪＸ金属グループフィロソフィー」を策定しました。

本フィロソフィーは、当社グループが事業活動を通じて社会に提供する価値の考え方を示すものであり、世界的に不確実性や複雑性が高まる事業環境の中においても、自由な発想に基づく価値創出を追求し、人々の暮らしをより良いものにしていくという当社グループの姿勢を表しています。
また、当社グループ全体で本フィロソフィーを実践できるよう、推進体制を整え、本フィロソフィーの定着に向けた施策を重点的に進めました。本フィロソフィーを当社グループの活動の軸として、ステークホルダーとの協調を図り、持続的な企業価値の向上に取り組みます。

(2) 経営環境
近年、デジタルトランスフォーメーションの進展、脱炭素社会形成に向けた動きの加速、資源不足・枯渇懸念の深刻化、企業に求められる社会的責任の高まりなど、当社グループを取り巻く社会環境、事業環境は大きな変化に直面しています。
当社グループを取り巻く経営環境について、報告セグメント別の状況は以下のとおりです。

① フォーカス事業：半導体材料セグメント
半導体ロジック・メモリ市場は、生成AIの急速な普及拡大やこれに伴うデータ通信需要の拡大等を背景に、成長基調が継続する事業環境にあります。特に、半導体製造技術の進展に伴い、最先端半導体分野においては需要の拡大が見込まれており、多層化・微細化の進展も継続するものと思われます。
半導体の成膜方法であるPVD(Physical Vapor Deposition：物理気相成長法)に用いられる当社の主力製品である半導体用スパッタリングターゲットはロジック・メモリをはじめとした各種半導体デバイスの製造に用いられていますが、最先端ロジックほど配線層数が多くなり、半導体用スパッタリングターゲットの使用量が増加する傾向にあることから、その販売量は半導体ロジック・メモリ市場の成長を上回ることが期待されます。また、最先端ロジックほど配線が細かくなり、PVDが適さない微細な配線に対するCVD/ALDによる薄膜形成ニーズも高まっています。さらに、データ演算需要の飛躍的な増加及び生成AIの伸長を背景に、生成AIを搭載したサーバを大量に運用できるAIデータセンターの建設も進んでおり、これに伴いAIサーバの出荷台数は大きく増加しています。AIサーバにはチップ内の配線材料としての半導体用スパッタリングターゲットをはじめとして、光通信向け材料としてのInP基板、タンタルキャパシタ向けの高純度タンタル粉、大容量HDD向けの磁性材用ターゲットなど、半導体材料セグメントの当社製品が多く用いられていることから、このような傾向は本セグメントの収益拡大の追い風になることが見込まれます。
加えて、AIサーバには高速の並列演算を担うために多数のGPUが搭載されており、データセンター向けGPUの出荷数量も増加しています。GPUに対して高機能を付与するためには多層化・微細化に加えてパッケージング分野における技術革新が必要であり、パッケージングにおいてはチップ間の配線材(TSV・RDL)やチップレット間をつなぐ配線等の用途における成膜機会の拡大からも、当社の半導体用スパッタリングターゲットの需要の拡大を見込んでいます。

② フォーカス事業：情報通信材料セグメント
電子機器製品等に搭載されるFPCの面積は、電子機器の高機能化・小型化の進展を背景に中長期的な拡大が見込まれており、今後も堅調な需要が期待されています。今後は、AI搭載等によるスマートフォンやパソコン向け部材の更なる小型化・高機能化に加え、スマートウォッチやスマートグラスといったウェアラブル等の周辺機器の市場成長により圧延銅箔の使用拡大が見込まれます。また、世界的なEV販売台数の増加に伴い、配線用や誤作動防止のために用いられるシールド材用の圧延銅箔の採用・使用量の拡大が期待されるとともに、中長期的には産業機械、ロボット等の分野において小型化、軽量化が進み、複雑な動きに対して疲労耐性の強い圧延銅箔の使用量拡大が見込まれています。これらの市場動向を背景に、当社主力製品である圧延銅箔についても、需要の拡大が見込まれます。
積層セラミックコンデンサの内部電極に使用される超微粉ニッケルについては、AIを搭載する高機能通信機器の普及や、EVや自動運転の普及に伴う電装化の進展、データサーバやAIサーバ等の成長が需要を牽引し、市場は次第に成長軌道に回帰していくものと想定しています。
また、半導体材料セグメントが属する市場環境において記載しているAIサーバの導入拡大は本セグメントの収益拡大の追い風になることも見込まれており、特にAIサーバ向けのコネクタにおいては高耐熱・高強度などの特性が求められ、要求ニーズに応えるチタン銅の採用が急速に拡大しているほか、高温となるAIサーバ内における冷却液の漏液を検知するための漏液センサーの需要拡大も見込まれます。

③ ベース事業：基礎材料セグメント
脱炭素社会の実現に向けて、再生可能エネルギーの導入が拡大するとともに、様々な産業や領域において電化が進行しており、中長期的に銅素材の需要拡大が見込まれます。例えば、電気自動車では、モーターコイルやバッテリーなどにガソリン車の約４倍の銅が使用されています。銅需要拡大の一方で、既存鉱山からの銅鉱石の供給量には限界があり、銅の需給はひっ迫することが見込まれており、銅価は堅調に推移していくものと考えられます。技術革新、製品寿命の短期化、人口増加等の要因により電気・電子機器の廃棄物であるE-Wasteの発生量は、今後も世界的に増加していくことが見込まれています。一方で、脱炭素に向けた世界的な環境意識の高まりにより、リサイクル原料確保への動きが加速していることに加えて、環境規制強化の流れもあり、リサイクル原料の調達コストは上昇することが予想されます。また、アジア域内での製錬所建設が進むことにより、銅地金のサプライヤーが増加し、銅地金の販売環境の悪化が見込まれています。

(3) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題

① 経営の基本方針－長期ビジョン
当社グループは、長期ビジョンに基づき、「装置産業型企業」から「技術立脚型企業」への転身により、激化する国際競争の中にあっても高収益体質を実現し、半導体材料・情報通信材料のグローバルリーダーとして持続可能な社会の実現に貢献することを基本方針としています。
フォーカス事業を成長戦略のコアとして位置づけ、先端材料分野での技術の差別化や市場創造を通じて、市場成長以上の利益成長を目指します。また、ベース事業は、最適な規模の事業体制のもとで、銅やレアメタルの安定供給を通じてフォーカス事業を支えるとともに、サステナブルな社会の実現に向けて貢献していきます。

② データセンター需要拡大に伴う当社関連製品の生産能力の増強
生成AIの普及やデジタル化の進展を背景に、AIサーバを中心としたデータセンター向け投資は世界的に拡大しています。これに伴い、先端半導体の高性能化や、データ通信の高速・大容量化が進展しており、半導体材料や光通信関連材料の需要は中長期的に拡大していくことが見込まれています。
このような事業環境のもと、当社では、データセンター需要の拡大を重要な成長機会と捉え、半導体用スパッタリングターゲット、磁性材用スパッタリングターゲット、InP(インジウムリン)基板、タンタル粉、チタン銅など、データセンターやAIサーバに使用される製品(以下図)の生産能力の増強や生産性向上を目的とした設備投資を計画的に実施し、市場の成長を確実に捕捉する生産体制の構築を目指します。

③ 次世代のグローバルトップシェア製品の開発
当社は、次世代半導体分野における持続的な成長を見据え、将来のグローバルトップシェア製品の創出を企図した施策を展開しています。特に、半導体の高性能化・高集積化の進展に伴い重要性が高まる先端材料及び先端パッケージ分野に注力し、顧客ニーズを踏まえた材料開発と、量産化を見据えた生産設備や技術基盤の整備を進めています。
具体的には、次世代半導体パッケージ技術に関する国際的な研究開発コンソーシアム「JOINT３」への参画に加え、スタートアップ企業や大学との連携を通じて、最先端の技術動向や外部の知見を取り込み、技術開発の高度化と新規用途の探索に取り組んでいます。
さらに、長年培った高純度化、表面制御、組成、分析評価等の技術を活用し、メディカル・センサー分野での成長が期待されるCdZnTe(カドミウムジンクテルル)基板等の結晶材料分野に加え、次世代半導体材料として期待されているCVD・ALD材料等の薄膜形成材料分野においても、事業拡大を図っています。
以上のように、次世代のグローバルトップシェア製品の創出に向け、今後も着実に事業基盤と技術力の強化を推進していきます。

④ サーキュラーエコノミー実現に向けた取組み
脱炭素化社会の進展に伴い、再生可能エネルギー導入の拡大や、様々な産業・領域における電化が進行しており、銅やレアメタルなどの金属資源の需要は今後さらに拡大していくことが見込まれています。こうした中、自動車業界や家電・電子機器業界を中心に、使用済み製品を回収・再資源化し、同一素材として再利用するクローズドループ・リサイクルへの関心が高まっていますが、その処理は必ずしも容易ではなく、実現にあたっては、製品ライフサイクルに関わるサプライチェーン全体が連携して資源効率性を高める仕組みを整備することが不可欠です。
当社グループは、台湾、米国、カナダ、ドイツ、シンガポールに集荷拠点・営業拠点を有し、世界規模のリサイクル原料集荷体制を整えています。
さらに、金属・リサイクル事業においては、リサイクル原料の増処理に向け、低品位のE-waste等を含む多様なリサイクル原料への対応力強化を目的に、ＪＸ金属製錬株式会社 佐賀関製錬所に前処理プロセスを中心とした設備投資を進めています。これらの設備投資を通じて、リサイクル原料の処理能力及び処理効率の向上を図るとともに、鉱石の酸化反応熱を活用し化石燃料使用量の抑制を図るグリーンハイブリッド製錬の高度化を推進しています。
こうした施策を通じて、資源循環の促進及び金属資源の安定的な確保に貢献し、サーキュラーエコノミーの実現を目指していきます。

３ 【事業等のリスク】
当社グループの経営成績及び財務状況に重大な影響を与える可能性がある主要なリスクを以下に記載しています。当社グループでは、事業活動を取り巻く多様なリスクに対して的確な対応を図ることでＪⅩ金属グループの経営を支えることを目的に、統合的にリスクを管理するERM(Enterprise Risk Management)を導入しています。特に当社グループにおける重要なリスクに関しては、当社の経営会議において議論・決定し、各リスク所管部署が実施しているリスク対応の状況をモニタリングしています。ERMを運用することで、2040年長期ビジョンの実現をより確実にすることを目指してまいります。なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものであり、将来において発生の可能性がある全てのリスクを網羅するものではありません。

１． フォーカス事業における競争優位性の喪失リスク
当社では、特にフォーカス事業である半導体材料／情報通信材料セグメントにおいて、顧客との永続的な強い信頼関係を構築することで、顧客要望や最新の開発動向などをいち早く入手し、的確にそれに応え続けることで競争優位性を確保しています。また、そのために、研究開発と先端技術の知的財産権の権利化・第三者による権利侵害の防止、事業運営に必要な人材の採用・育成、複数購買をはじめとするサプライチェーンの強靭化、品質管理体制の強化及び供給責任を果たすための生産能力の拡大等に積極的に取り組んでいます。しかしながら、当社が顧客要望に十分に応えられないケースが続いた場合には、シェアの喪失や販売マージンの縮小、あるいは代替製品の登場や顧客ニーズの変化等の事業環境の変化によっては、競争優位性を失う可能性があります。
現在の製品群が競争優位性を失った場合の対応として、注力領域を定め、新規製品・事業開発の取り組みを進めており、その実現に向けて、社内リソースは元より、当社グループ間の技術のコラボレーション、大学との共同研究及び外部企業とのパートナーシップ等、様々な外部リソースについても積極的に活用しています。しかしながら、新規製品・事業創出に向けた取り組みが、当社の収益基盤に成長するまでには、相応の時間と経営資源の投入が必要となります。そのため、新規製品・事業が創出できていない状況で、半導体材料／情報通信材料セグメントでの競争優位性を喪失した場合、当社グループの経営成績及び財政状態に重大な影響を及ぼす可能性があります。

２． 中長期事業目標の未達リスク
当社グループは、半導体材料・情報通信材料のグローバルリーダーとして、先端材料で社会の発展と革新に貢献することを目指すべく、2024年５月に中長期の事業戦略及び事業目標を公表いたしました。当該中長期の事業戦略及び事業目標は、半導体市場の成長を中心とする事業環境の見通し、為替動向、金利動向、銅価格の見通し等、策定時点における経済・事業環境の認識を中心とした様々な前提に基づいて策定したものであります。しかしながら、半導体をはじめとする先端材料関連市場の成長鈍化や急激な円高進行による外貨建て取引の収益減等、経済・事業環境認識の前提が想定どおりとならない可能性を常に抱えています。
加えて、当社は、収益性及び資本効率の改善を目的として、構造改革を推進しています。当該施策においては運転資本の改善、設備投資の最適化、拡販・売価見直し及び全社での間接費を含むコストの最適化を進めており、その効果を当該事業目標の中に織込んでいます。施策の件数や各施策がもたらす財務指標の改善効果については実現可能性や進捗に応じて段階的に管理しています。
また、事業環境の変化や経営判断により、中長期事業目標の策定時点では想定していなかった事業戦略を実施する可能性があり、その結果、当該事業目標の達成に影響を及ぼす可能性があります。
このような前提及び施策が想定どおりに実現しない場合には、当該中長期の事業戦略及び事業目標の達成が困難となり、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

３． 市場環境の変化に関するリスク

(１) 半導体市場等の変動
持続可能な社会の実現に向けて、IT、モビリティ、ヘルスケア、エネルギー、建築など様々な産業でデジタルデータの活用が進展し、各分野に用いられる先端材料のニーズがさらに拡大しています。なかでも半導体市場は、生成AIの急速な普及拡大やこれに伴うデータ通信需要の拡大等を背景に成長基調が継続する事業環境にあります。当社は、先端材料を通じた社会の発展に貢献することを目指し、半導体メーカーをはじめとする世界各国に存在する顧客に対して製品を製造・販売していますが、世界経済の動向や最終製品の需要増減等の要因により、成長の過程で需給バランスが崩れ市場規模が急激に変動することがあります。例えば、半導体市場が縮小した場合には、需給バランスの崩れから生産過剰や在庫増加等が発生する可能性があります。また一方では、設備投資の実行タイミングの遅れや、市場の成長規模の見誤りなどにより、需要の増加に対応できない場合には、製品の供給において顧客のニーズに応えることができず、機会損失が生じる可能性があります。
かかる状況を想定し、当社では、市場動向や顧客の需要動向の調査・分析結果を基に、生産量・在庫量の適正化を図っています。また、製品ラインナップの多様化や生産体制の増強に向けて時機をとらえた柔軟な設備投資判断に努めています。しかしながら、将来において当社の想定を超える市場環境の著しい変化が起きた場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

(２) 金属価格・為替等の変動
当社グループでは、先端材料の製造・開発を成長戦略のコアとして位置づけ、そこに良質な原料を供給するため、資源開発から製錬・リサイクル事業を一貫して展開しています。製品の販売や原材料及び資材の購入は、その多くを米国ドルや現地通貨建てで行っています。そのため、金属価格や為替変動等のリスクにさらされており、先物ヘッジ取引の活用等によるリスク低減に努めています。しかしながら、金属価格及び為替等の急激かつ大幅な変動が発生した場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

４． M&Aや事業提携に関するリスク
当社は、事業の成長を加速させるうえで有効な手段となる場合や競争優位性に寄与する場合には、必要に応じてM&Aや事業提携(出資、合弁及びスタートアップ投資等を含む)を実施しています。これらの実施に当たっては、相手企業の財務状況や事業内容について可能な限り情報収集と分析を踏まえた事前審査を行っています。しかしながら、事前審査にも関わらず市場環境の将来的な著しい変化等により、事業を計画どおりに展開することができない場合には、投下資金の未回収等、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

５． 地政学リスク
当社グループは世界の各地域に事業拠点を有しており、グローバルなネットワークを構築しています。資源事業においては南米チリのカセロネス鉱山をはじめ銅やレアメタル鉱山への出資、探鉱、開発を行っているほか、金属・リサイクル事業やタンタル・ニオブ事業においても、世界各国から原料を調達し、半導体材料や情報通信材料に不可欠な原料のサプライチェーン強化に向けた取り組みを進めています。また、当社グループではグループ内シンクタンクと連携し、オープンソースだけではなく各分野の専門家とのネットワーキングを駆使して情報を収集し、社内への提供に努めています。
近年、将来における資源枯渇への危機意識や資源需給の不均衡に加え、資源国のロイヤルティ課税や高付加価値化政策の導入といった戦略物資化(いわゆる資源ナショナリズム)や紛争鉱物問題、需要国におけるリサイクル原料などの囲い込みの動きなどが進んでいます。このような動きがさらに進むと、原料の調達がより困難になる可能性があります。こうした原料調達リスクに加え、国際的な政治対立が深まり、当社製品のサプライチェーンが寸断された場合、事業継続に影響を及ぼす可能性があります。
また、当社グループの海外における事業活動が訴訟、紛争、その他の法的手続の対象になることがあります。当社はこのような訴訟における争点及び進捗について定期的にモニタリングを行っており、事業継続にあたって重大な支障をきたす恐れはないものと判断していますが、訴訟には不確実性が伴うことから、複数の訴訟において多額の和解金や損害賠償請求が生じた場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

６． 自然災害リスク
近年の異常気象により自然災害は激甚化する傾向にあります。当社グループは、国内外に多数の事業拠点とグループ会社を有し、グローバルに事業活動を展開しています。地震、津波、洪水、大雪等の規模が極めて大きい自然災害が発生した場合、社会インフラや経済活動の停止によるサプライチェーンの寸断だけではなく、当社資産の甚大な被害により、長期にわたって、顧客への供給遅延や供給停止が発生し、収益を悪化させる可能性があります。また、従業員の被災により、人命に関わる事態となる可能性があります。このような事態に備え、当社グループでは、危機・緊急事態対応規則に基づき人的・物的被害の最小化及び早期復旧を図るための事業継続計画を策定し、定期的な各種訓練と、その結果に基づく改善を継続的に行っています。しかしながら、当社の想定を遥かに超える被災状況に陥り、早期復旧が困難な場合には、当社グループの事業継続に支障をきたす可能性があります。

７． 感染症流行リスク
新型コロナウイルスの発生時には、JＸ金属グループ感染症対策基本規則及び感染症対応マニュアルを定め、政府・官公庁・地方自治体等の公的機関等、適切と考えうる国内外の情報を収集し、さらに、基本方針、実施する対策、出社方針・勤務体制の変更、感染した場合の行動等を適宜従業員に対して周知徹底いたしました。上記のとおり、感染症流行時には、適切な対応を実施し、当社グループの事業運営に大きな影響を発生させないよう努めています。しかしながら、将来において予期せぬ強毒性かつ感染力の高い新たなパンデミックが発生した場合には、拠点地域での人流の抑制や既存のサプライチェーンの寸断が発生する可能性があります。また、当社従業員が当該感染症にり患し、生産拠点での必要な人員を確保できない場合、当社グループの事業継続に支障をきたす可能性があります。

８． サステナビリティに関するリスク
近年、ステークホルダーから企業に対して、脱炭素・循環型社会への貢献、生物多様性や水資源の保全、人権の尊重等、サステナビリティに関する各分野に対する取り組みが求められています。当社グループでは、長期ビジョンにおいて、持続可能な社会の実現に貢献することを打ち出し、経営方針として同分野の取り組みを重点課題に定め、その中でも特に優先的に取り組むべき７つのテーマをマテリアリティとして特定し、各種施策の推進・対応を積極的に進めています。しかしながら、将来においてステークホルダーからの要請の厳格化や諸外国の規制強化に対して、十分な対応が取れない場合、顧客との取引関係の解消、操業の縮小に追い込まれる等、当社グループの経営成績及び財政状態に重大な影響が発生する可能性があります。また、当社グループのブランドに対する社会的信用の低下につながる可能性があります。

９. 人事リスク
少子高齢化により国内労働人口が減少するなか、現役世代、特に10-30代の働き方への価値観は、急激に変化かつ多様化しています。また、海外で主流だったキャリア志向は、国内にて近年急速に広く定着したものと認識しています。当社では、優秀な人材の獲得及び定着に向けて、人事制度の見直しによる処遇改善により、雇用市場における競争力を高める取り組みや、自己申告に基づく柔軟な配置転換の実施及び多様な人材が活躍できる仕組み作り等により、事業環境の変化に対応できる組織風土を醸成する取り組みを進めています。しかしながら、当社が、将来的な労働市場の変化に十分に対応できない場合、従業員が当社で働く魅力は相対的に低下し、離職者が増加する可能性があります。また当社が求めるあらゆる人材の層において、新規採用者の確保が困難となることが想定されます。さらに、人員の不足が長期にわたり継続する場合には、事業運営に支障をきたし、当社グループの経営成績及び財政状態に重大な影響が発生する可能性があります。

10. 労務リスク
当社グループは、グローバルにビジネスを展開しており、国内外に多くの従業員を抱えていることから、各国の関連法令、ルール等の定めにしたがって、各種人事制度と内部通報制度を整備するとともに、役員・従業員向け教育を充実することで、コンプライアンス知識や意識の向上を図っています。しかしながら、それらの制度設計やその運用が、将来において関連法規の予期せぬ変更に追従できない場合、当局から課徴金の支払をはじめとする行政処分を受ける可能性があります。また、不適切な労働時間の管理による長時間労働や、モラルの欠如による各種ハラスメント行為、海外の労働慣習からの逸脱行為等が発生した場合、従業員の心身の健康が損なわれたり、人材の流出や訴訟に発展することにより、当社グループの財政状態に影響を及ぼすだけでなく、社会的信用の低下を招く可能性があります。

11. 内部統制に関するリスク
当社グループは、業務の効率性と適正性を十分に確保するための内部統制システムを、取締役会の監督のもと、「内部統制システム整備・運用の基本方針」に基づき整備し運用するとともに、その状況についてモニタリングを実施しています。しかしながら、当社及びグループ各社において、取り組みの範囲を超える予期せぬ事態により、内部統制システムが有効に機能せず、法令・規則違反、巨額な損失リスクの顕在化(契約違反による損害賠償、役員・従業員等の不正の誘発などを含む)、ディスクロージャーの信頼性の毀損等に発展した場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

12. 情報セキュリティリスク
サイバー攻撃や誤操作、内部不正により、当社や取引先の情報資産が流出・毀損し、生産・事業運営の停止や、顧客・サプライチェーンへの深刻な影響が発生する可能性があります。当社グループでは、ISO/IEC27001に基づく情報セキュリティマネジメントシステムを導入し、その運用状況について情報セキュリティ委員会でレビューを実施するとともに、サプライチェーン全体における情報セキュリティの強化を推進しています。また、役員・従業員等の情報セキュリティ意識向上に向けて研修を実施することで、情報資産を確実に保護する体制を整備し継続的に改善しています。しかしながら、サイバー攻撃や産業スパイ等による機密情報を狙う手口は巧妙化しており、当社グループの取り組みの範囲を超える予期せぬ事態による情報流出事故等が発生した場合、行政処分による課徴金や刑事訴訟による罰金、民事訴訟による損害賠償金等を課せられ、当社グループの財政状態に影響を及ぼすだけでなく、社会的信用の低下を招く可能性があります。

13. 製品品質リスク
当社グループは、国内外生産拠点において、国際品質マネジメント規格や各業界で求められる基準に従い、多様な製品の品質マネジメントを実施しています。また、独自に保有する品質技術や過去から蓄積する品質トラブルデータを活用し、製品の企画、設計、試作、製造の各段階での設計審査、内部監査、サプライヤーとの協力関係構築・品質監査・指導、工程管理等を通じて製品の信頼性や安全性を十分に確保するため、品質管理体制の構築を図っているほか、各拠点における検査自動化、人材育成を継続的に推進しています。
しかしながら、当社グループの取り組みの範囲を超える予期せぬ事態により、品質上の不具合(規制物質含有を含む)や不正が発生した場合、回収コストや賠償費用が発生し、当社グループの財政状態に影響を及ぼすだけでなく、社会的信用の低下を招く可能性があります。

14. 環境問題に関するリスク
当社グループの事業は、国内外で様々な環境関連法令の適用を受けており、それらの法令に基づき、環境保全活動を行っています。
子会社であるグールド・エレクトロニクス社(米国法人、以下、「グールド社」という。)は、過去の事業において生産拠点を展開していた米国内の地域における環境問題に関連して、米国スーパーファンド法等の環境法令に基づき特定のサイトについて潜在的責任当事者として浄化作業を中心とする環境対策等に関する責任の対象とされてい

(2) 【役員の状況】

① 役員一覧

 ア．本書提出日時点において、当社の役員の状況は、次のとおりです。

男性9名 女性2名(役員のうち女性の比率18.2％)

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有
株式数
(株)

代表取締役会長

村山　誠一

1957年９月17日生

1980年４月

日本鉱業株式会社入社

2010年４月

当社執行役員
(経営企画部長(兼)金属事業本部総括室長)

2012年４月

当社執行役員(経営企画部長)

2013年４月

当社常務執行役員

(経営企画部・経理財務部・情報システム部・物流部・監査室 管掌)

2013年６月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・経理財務部・情報システム部・物流部・監査室 管掌)

2016年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・経理財務部・物流部・監査部 管掌)

2018年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・調査部・経理財務部・物流部・監査部 管掌)

2018年５月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・経理財務部・調査部・物流部・監査部 管掌)

2019年４月

当社取締役常務執行役員(経営企画部管掌)

2019年６月

当社代表取締役社長 社長執行役員

ＪＸＴＧホールディングス株式会社(現　ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社) 取締役(非常勤)

2023年４月

当社代表取締役会長(現任)

注３

29,598

代表取締役社長
社長執行役員

林　陽一

1965年２月５日生

1988年４月

日本鉱業株式会社入社

2019年４月

当社執行役員

(経営企画部・調査部担当、経営企画部長)

2020年４月

当社執行役員

(経営企画部・調査部・物流部担当、経営企画部長)

2020年10月

当社執行役員

(経営企画部・調査部・ESG推進部・物流部担当、経営企画部長)

2021年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・ESG推進部・経理部・物流部管掌)

2022年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・ESG推進部・経理部・物流部管掌、プロジェクト推進本部審議役)

2023年４月

当社代表取締役社長 社長執行役員(現任)

注３

24,739

取締役
副社長執行役員

菅原　静郎

1959年11月17日生

1990年10月

日本鉱業株式会社入社

2016年４月

当社執行役員(技術本部企画管理部長)

2018年３月

当社執行役員

(技術本部企画管理部長(兼)統合推進室長)

2018年４月

当社執行役員

(技術本部副本部長(兼)統合推進室長)

2018年６月

当社執行役員

(技術本部副本部長(兼)タンタル・ニオブ事業部長)

2019年４月

当社取締役常務執行役員

(技術本部副本部長(兼)タンタル・ニオブ事業部長)

2020年４月

当社取締役常務執行役員(技術本部長)

2021年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長)

2022年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長、プロジェクト推進本部副本部長)

2024年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長、プロジェクト推進本部長)

2026年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般))(現任)

注３

27,076

取締役
副社長執行役員

太内　義明

1960年11月１日生

1984年４月

共同石油株式会社(現　ＥＮＥＯＳ株式会社)入社

2016年４月

ＪＸホールディングス株式会社
(現 ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社)執行役員(財務ＩＲ部長)

2017年４月

ＪＸＴＧホールディングス株式会社
(現　ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社)執行役員(財務ＩＲ部長)

2018年６月

同社常務執行役員(財務ＩＲ部長)

2019年６月

同社取締役常務執行役員

(内部統制部・経理部・財務ＩＲ部管掌)

2020年６月

同社取締役(常勤監査等委員)

2020年６月

当社監査役(非常勤)

2023年６月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(特命担当))

2024年６月

株式会社丸運社外取締役(現任)

2025年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(特命担当)、物流部管掌)

2026年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(特命担当))(現任)

注３

17,776

社外取締役

所　千晴
(注１)

1975年９月６日生

2009年４月

早稲田大学理工学術院 准教授

2015年４月

同大学理工学術院 教授(現任)

2016年11月

東京大学生産技術研究所 特任教授(現任)

2018年11月

早稲田大学ダイバーシティ推進室長

2021年４月

東京大学大学院工学系研究科 教授(現任)

2021年４月

当社社外取締役(現任)

2022年９月

早稲田大学高等研究所 副所長

2022年９月

同大学カーボンニュートラル社会

研究教育センター 副所長

2023年11月

株式会社トッパンフォトマスク(現　テクセンドフォトマスク株式会社) 社外取締役(現任)

2024年９月

早稲田大学理工学術院　創造理工学部長(現任)

注３

505

社外取締役

伊藤　元重
(注１)

1951年12月19日生

1993年12月

東京大学 経済学部 教授

1996年４月

同大学 大学院経済学研究科・経済学部 教授

2006年２月

総合研究開発機構(ＮＩＲＡ) 理事長

2007年10月

東京大学 大学院経済学研究科長・経済学部長

2013年１月

経済財政諮問会議 議員

2015年６月

東日本旅客鉄道株式会社 社外取締役

2016年４月

学習院大学 国際社会科学部 教授

2016年６月

はごろもフーズ株式会社 社外監査役

東京大学 名誉教授(現任)

2018年６月

株式会社静岡銀行 社外取締役

住友化学株式会社 社外取締役(現任)

2022年４月

当社社外取締役(現任)

2022年６月

はごろもフーズ株式会社 社外取締役(現任)

2022年10月

株式会社しずおかフィナンシャルグループ

社外取締役(監査等委員)(現任)

注３

―

取締役
常勤監査等委員

黒岩　源洋

1962年９月25日生

1985年４月

日本鉱業株式会社入社

2017年４月

当社執行役員(経理財務部担当、経理財務部長)

2021年４月

当社常務執行役員(チリ事務所長)

2024年４月

当社社長付

2024年６月

当社取締役(常勤監査等委員)(現任)

注４

23,253

社外取締役
監査等委員

佐久間　総一郎
(注２)

1956年２月15日生

1978年４月

新日本製鐵株式会社

(現　日本製鉄株式会社)入社

2009年４月

同社執行役員

2012年４月

同社常務執行役員

2012年６月

同社常務取締役

2014年４月

同社代表取締役副社長

2018年４月

同社取締役

2018年６月

同社常任顧問

2020年６月

コニカミノルタ株式会社 社外取締役(現任)

2020年７月

日本製鉄株式会社顧問

日鉄ソリューションズ株式会社 顧問(現任)

2022年６月

当社社外取締役

2023年６月

当社社外取締役(監査等委員)(現任)

2026年６月

ニデック株式会社 社外取締役(現任)

注５

757

社外取締役
監査等委員

二宮　雅也
(注２)

1952年２月25日生

1974年４月

日本火災海上保険株式会社(現　損害保険ジ
ャパン株式会社)入社

2003年６月

日本興亜損害保険株式会社(現　損害保険ジ

ャパン株式会社)執行役員

2004年６月

同社 常務執行役員

2005年６月

同社 取締役常務執行役員

2009年６月

同社 代表取締役専務執行役員

2011年６月

同社 代表取締役社長社長執行役員

ＮＫＳＪホールディングス株式会社(現

ＳＯＭＰＯホールディングス株式会社) 取締役

2012年４月

同社 代表取締役会長　会長執行役員

2014年９月

損害保険ジャパン日本興亜株式会社(現　損

害保険ジャパン株式会社)

代表取締役社長　社長執行役員

損保ジャパン日本興亜ホールディングス株式

会社(現ＳＯＭＰＯホールディングス株式会社)

代表取締役会長会長執行役員

2015年４月

同社 代表取締役会長

2015年６月

同社 取締役会長

2016年４月

損害保険ジャパン日本興亜株式会社(現　損
害保険ジャパン株式会社) 代表取締役会長

2018年４月

同社 取締役会長

2018年６月

リコーリース株式会社 社外取締役

2018年７月

一般財団法人日本民間公益活動連携機構 理

事長 (現任)

2022年４月

ＳＯＭＰＯホールディングス株式会社 特別顧問
(現任)

2023年６月

当社社外取締役(監査等委員) (現任)

注５

1,263

社外取締役
監査等委員

川口　里香
(注２)
(注６)

1969年７月23日生

1997年４月

弁護士登録 奥川法律事務所 入所(現任)

2018年４月

第一東京弁護士会 副会長

2018年４月

関東弁護士会連合会 常務理事

2021年３月

第一東京弁護士会 総合法律研究所 会社法研

究部会・会計監査制度研究部会 部会員(現任)

2022年４月

東京家庭裁判所 家事調停委員(現任)

2022年４月

第一東京弁護士会 男女共同参画推進本部

副本部長

2022年６月

日本弁護士連合会 男女共同参画推進本部委

員(現任)

2023年６月

当社社外取締役(監査等委員)(現任)

2024年４月

第一東京弁護士会 男女共同参画推進本部

本部長代行(現任)

注５

―

社外取締役
監査等委員

塩田　智夫
(注２)
(注７)

1965年１月22日生

1988年４月

日本石油株式会社(現　ＥＮＥＯＳ株式会社)

入社

2020年４月

同社執行役員(水素事業推進部長)

2023年４月

同社社長付

2023年６月

ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社

取締役(常勤監査等委員)(現任)

2024年６月

当社取締役(監査等委員)

ＪＸ石油開発株式会社(現　ＥＮＥＯＳ Ｘｐｌｏｒａ株式会社)監査役(現任)

2025年３月

当社社外取締役(監査等委員)(現任)

注４

1,516

計

126,483

(注) １．取締役のうち所　千晴及び伊藤　元重は、監査等委員でない社外取締役です。
２．取締役のうち佐久間　総一郎、二宮　雅也、川口　里香及び塩田　智夫は、監査等委員である社外取締役です。
３．監査等委員でない取締役の任期は、2025年６月27日開催の定時株主総会における選任後１年以内に終了する事業年度のうち、最終のものに関する定時株主総会の終結の時までです。
４．取締役常勤監査等委員である黒岩　源洋及び社外取締役監査等委員である塩田　智夫の任期は、2024年６月27日開催の定時株主総会における選任後２年以内に終了する事業年度のうち、最終のものに関する定時株主総会の終結の時までです。
５．社外取締役監査等委員である佐久間　総一郎、二宮　雅也及び川口　里香の任期は、2025年６月27日開催の定時株主総会における選任後２年以内に終了する事業年度のうち、最終のものに関する定時株主総会の終結の時までです。
６．社外取締役監査等委員である川口　里香の戸籍上の氏名は、能登　里香です。
７．塩田　智夫氏は、当社の親会社であったＥＮＥＯＳホールディングス株式会社の取締役に就任しており、2024年６月27日の2024年３月期定時株主総会において当社の監査等委員である取締役に選任された時点においては、社外取締役に該当しませんでしたが、2025年３月19日に当社株式が東京証券取引所プライム市場に新規上場したことに伴い、同社が当社の親会社に該当しないこととなったため、同日以降、社外取締役に該当することとなりました。
８．取締役の所有株式数は、2026年３月31日時点の情報を記載しています。
９．当社では、執行役員制度を導入しており、本書提出日時点における執行役員は以下のとおりです。

※社長執行役員 林 陽一
※副社長執行役員 菅原　静郎 社長補佐(技術全般)
※副社長執行役員 太内　義明 社長補佐(特命担当)
常務執行役員 安田 豊 基礎材料事業本部長
常務執行役員 中村　祐一郎 技術本部長
常務執行役員 諏訪邉　武史 先端材料事業本部長
常務執行役員 正木　信晴 先端材料事業本部副本部長、
 先端材料事業本部機能材料事業部長
常務執行役員 水口　智司 技術本部副本部長
常務執行役員 小倉 靖 経理部・内部統制部管掌
常務執行役員 戸上　一郎 基礎材料事業本部副本部長、
 基礎材料事業本部金属・リサイクル事業部長、物流部管掌
常務執行役員 川口　義之 経営企画部・コーポレートコミュニケーション部・財務部・
総務部・法務部・人事部・茨城事業所管掌
執行役員 伊藤 孝 技術本部副本部長
執行役員 相場　玲宏 環境安全部担当、茨城事業所長
執行役員 岡部　岳夫 先端材料事業本部薄膜材料事業部長、
 先端材料事業本部データインフラ材料事業推進部長
執行役員 石井　雅史 先端材料事業本部タンタル・ニオブ事業部長
執行役員 曽我　卓 先端材料事業本部機能材料事業部副事業部長、
 先端材料事業本部管理部長
(注) ※印は取締役兼務者です。

 イ．2026年６月26日開催予定の定時株主総会の議案(決議事項)として、「監査等委員でない取締役４名選任の件」及び「監査等委員である取締役２名選任の件」を付議することとしており、当該決議が承認可決されますと、当社の役員の状況及びその任期は、次のとおりとなる予定です。なお、役員の役職等については、当該定時株主総会の直後に開催が予定される取締役会の決議事項の内容(役職等)を含めて記載しています。

男性7名 女性2名(役員のうち女性の比率22.2％)

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有
株式数
(株)

取締役会長

菅原　静郎

1959年11月17日生

1990年10月

日本鉱業株式会社入社

2016年４月

当社執行役員(技術本部企画管理部長)

2018年３月

当社執行役員

(技術本部企画管理部長(兼)統合推進室長)

2018年４月

当社執行役員

(技術本部副本部長(兼)統合推進室長)

2018年６月

当社執行役員

(技術本部副本部長(兼)タンタル・ニオブ事業部長)

2019年４月

当社取締役常務執行役員

(技術本部副本部長(兼)タンタル・ニオブ事業部長)

2020年４月

当社取締役常務執行役員(技術本部長)

2021年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長)

2022年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長、プロジェクト推進本部副本部長)

2024年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般)、技術本部長、プロジェクト推進本部長)

2026年４月

当社取締役副社長執行役員

(社長補佐(技術全般))

2026年６月

当社取締役会長(現任)

注３

27,076

代表取締役社長
社長執行役員

林　陽一

1965年２月５日生

1988年４月

日本鉱業株式会社入社

2019年４月

当社執行役員

(経営企画部・調査部担当、経営企画部長)

2020年４月

当社執行役員

(経営企画部・調査部・物流部担当、経営企画部長)

2020年10月

当社執行役員

(経営企画部・調査部・ESG推進部・物流部担当、経営企画部長)

2021年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・ESG推進部・経理部・物流部管掌)

2022年４月

当社取締役常務執行役員

(経営企画部・ESG推進部・経理部・物流部管掌、プロジェクト推進本部審議役)

2023年４月

当社代表取締役社長 社長執行役員(現任)

注３

24,739

社外取締役

所　千晴
(注１)

1975年９月６日生

2009年４月

早稲田大学理工学術院 准教授

2015年４月

同大学理工学術院

２ 【沿革】

〔前史〕

年月

概要

1905年12月

日立鉱山(茨城県)操業開始

1908年11月

大雄院製錬所(現　茨城事業所日立地区、茨城県)操業開始

1912年９月

久原鉱業株式会社設立

1916年９月

佐賀関製錬所(現　ＪＸ金属製錬株式会社 佐賀関製錬所、大分県)操業開始、金属製錬事業を拡張

1928年12月

久原鉱業株式会社が日本産業株式会社に商号変更

1929年４月

日本産業株式会社の鉱山・製錬部門を分離・独立させ、日本鉱業株式会社を設立

1948年２月

東邦商事株式会社(現　ＪＸ金属商事株式会社)設立

1964年10月

倉見工場(神奈川県)開設、金属加工事業に本格進出

1978年３月

日立事業所にリサイクル炉新設、リサイクル事業を開始

1981年９月

日立鉱山、鉱量枯渇により閉山

1985年５月

磯原工場(茨城県)開設、電子材料事業へ本格進出

1989年10月

ニッポン・マイニング台湾社(現　台湾日鉱金属股份有限公司)設立

1992年５月

(旧)日鉱金属株式会社設立

11月

日本鉱業株式会社が金属資源開発部門、金属事業部門及び金属加工事業部門を(旧)日鉱金属株式会社に譲渡

12月

日本鉱業株式会社が共同石油株式会社を合併し、株式会社日鉱共石に商号変更

1993年12月

株式会社日鉱共石が株式会社ジャパンエナジーに商号変更

1996年５月

GNFフィリピン社(現　JX METALS PHILIPPINES, Inc.)設立

1998年８月

(旧)日鉱金属株式会社、東証第一部上場

1999年４月

株式会社ジャパンエナジーの電子材料事業を分離・独立させ、株式会社日鉱マテリアルズを設立

2000年10月

(旧)日鉱金属株式会社と三井金属鉱業株式会社の合弁により、パンパシフィック・カッパー株式会社設立

〔提出会社設立以降〕

年月

概要

2002年９月

株式会社ジャパンエナジーと(旧)日鉱金属株式会社が株式移転により新日鉱ホールディングス株式会社(現 ＪＸ金属株式会社)を設立し、両社は同社の完全子会社となる

2003年10月

(旧)日鉱金属株式会社の金属加工事業を分離・独立させ、日鉱金属加工株式会社を設立

12月

日鉱宇進精密加工(蘇州)有限公司(現　日鉱金属(蘇州)有限公司)設立

2004年８月

韓国日鉱マテリアルズ社(現　JX Advanced Metals Korea Co., Ltd.)設立

2005年12月

NMU Division, Inc.(現　JX Advanced Metals USA Inc.)設立

2006年４月

株式会社日鉱マテリアルズが(旧)日鉱金属株式会社及び日鉱金属加工株式会社を合併し、(新)日鉱金属株式会社に商号変更

2010年４月

新日鉱ホールディングス株式会社及び新日本石油株式会社が株式移転によりＪＸホールディングス株式会社(現　ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社)を設立し、両社は同社の完全子会社となる

７月

新日鉱ホールディングス株式会社が(新)日鉱金属株式会社を合併し、ＪＸ日鉱日石金属株式会社に商号変更

2014年７月

チリ・カセロネス銅鉱山・開山式を挙行

2016年１月

ＪＸ日鉱日石金属株式会社がＪＸ金属株式会社に商号変更

2018年６月

東邦チタニウム株式会社の株式50.38％を取得し、同社を子会社とする

７月

ドイツ・H. C. Starck Tantalum & Niobium社(現　TANIOBIS GmbH)の株式取得により同社を子会社化することで、レアメタル事業を強化

2019年６月

ＪＸ金属グループ2040年長期ビジョン策定

2022年８月

カナダ・eCycle Solutions Inc.の株式を取得し、同社を子会社とする

９月

韓国・LS-Nikko Copper Inc.の当社グループ保有株式全て(49.9％)を譲渡

2023年５月

ＪＸ金属グループ2040年長期ビジョン改定

６月

監査等委員会設置会社へ移行

７月

チリ・カセロネス銅鉱山権益の51％を、カナダ・Lundin Mining Corporation社(Lundin社)に譲渡(2024年７月に追加で権益19％を譲渡)

12月

ＪＸ金属プレシジョンテクノロジー株式会社の株式の過半を譲渡(譲渡後の当社持分比率15％)

2024年３月

パンパシフィック・カッパー株式会社の株式の20％及びロス・ペランブレス銅鉱山権益を保有するオランダ子会社の株式13.06％(権益3.27％相当)を、丸紅株式会社に譲渡

５月

英文商号をJX Advanced Metals Corporationに変更

７月

三菱商事株式会社との合弁により設立したＪＸ金属サーキュラーソリューションズ株式会社(当社持分比率80％)が事業開始

８月

タツタ電線株式会社の公開買付が成立し、同社を子会社とする(同年11月に同社を完全子会社化)

2025年３月

東京証券取引所プライム市場に株式を上場
これに伴い、ＥＮＥＯＳホールディングス株式会社が当社の親会社からその他の関係会社に異動(同社の当社に対する持分比率42.38％)

９月

ＪＸ金属グループフィロソフィー策定

2026年２月

東邦チタニウム株式会社と株式交換契約及び経営統合契約を締結(同年６月同社を完全子会社化)

３月

チリ・カセロネス銅鉱山権益５％及びフロンテラプロジェクト権益全ての譲渡を決定(同年４月Lundin社へ譲渡)