How does SK-Electronics make money?

３ 【事業の内容】
当社グループは、当社のほか、連結子会社である「頂正科技股份有限公司」(本社：台湾南部科學園區)、「SKE KOREA CO., LTD.」(本社：韓国忠淸南道天安市)、「愛史科電子貿易(上海)有限公司」(本社：中国上海市長寧区)及びアサヒテック株式会社（本社：愛知県瀬戸市）の４社により構成されており、大型フォトマスクの設計・製造・販売を主な事業内容としております。当社グループの事業内容は次のとおりであります。

大型フォトマスク事業
大型フォトマスク事業は、主にスマートフォンやパソコン、薄型テレビ等に使用される液晶パネルや有機ＥＬパネルの製造過程で必要な原版であるフォトマスクの設計・製造・販売を行っております。
　なお、フォトマスクとは液晶や有機ＥＬの制御回路及び色を表現するカラーフィルターのパターンを基板に転写するために使われる原版で、液晶パネルや有機ＥＬパネルの量産や新製品の開発、製造ラインの新設の際に必要となるものです。

ソリューション事業
　ソリューション事業は、RFID分野、ヘルスケア分野に取り組んでおり、それぞれの製品の設計・製造・販売を行っております。
　なお、RFID（Radio Frequency Identification）とは、ICタグとRFIDリーダー（読み取り装置）の間で電磁波や電波を送受信し、非接触でICタグの情報を読んだり書き換えたりするシステムの総称です。

スクリーンマスク・メタルマスク事業
　当連結会計年度より「スクリーンマスク・メタルマスク事業」を新たに報告セグメントとして追加しております。アサヒテック株式会社の海外子会社は、当社の連結範囲には含まれておりません。
　当事業における主要製品は、スクリーンマスクおよびメタルマスクです。スクリーンマスクは、車載ガラスや電子部品の印刷工程に、メタルマスクは、半導体パッケージなどの製造におけるはんだペーストの印刷工程などに使用される、高精度な製造用原版です。

事業の系統図は、次のとおりであります。
＜大型フォトマスク事業＞

＜ソリューション事業＞

＜スクリーンマスク・メタルマスク事業＞

１ 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】
文中における将来に関する事項は、当該有価証券報告書提出日現在において、当社グループが判断したものであります。

(1) 会社の経営の基本方針
　当社は「創造と調和」を経営の基本理念としております。社会、自然そして人との調和を大切にしながら、社会の求める良い製品を作り出していくことで、物質的にも精神的にも豊かな社会の実現に寄与できる企業となることを目指しております。
　また、当社は、成長を続けるエレクトロニクス業界においてその事業環境の変化に適時的確に対応し、社内外の経営資源を有効に活用することにより、継続的な成長と収益を実現できる経営体質の確立を目指すとともに、今後もファインテクノロジーをベースにエレクトロニクス産業の一翼を担う社会的存在価値のある技術開発型企業として、社会に貢献してまいる所存であります。

(2) 経営環境及び対処すべき課題
　当社グループは、「エレクトロニクスとテクノロジーの力で社会に貢献する」をパーパスとして掲げ、持続的な「企業価値向上」と「株主価値向上」を目指しております。中長期的な経営指標の目標を「営業利益率 20％以上」「ＲＯＥ 15％以上」「売上高総資産回転率 1.0以上」と定め、その実現に向け、次の４項目の経営課題に取組んでまいります。

① 既存フォトマスク事業における収益力の向上
　フラットパネルディスプレー業界におきましては、有機ＥＬパネル、液晶パネルともに高精細化や高機能化、製品ラインナップの拡充に向けた開発が引き続き行われる見込みです。また、今後もパネル工場の新設が計画されております。このような状況の中、パネルメーカーからの高精度、高精細なフォトマスク技術への期待はさらに高まり、特にスマートフォンやＩＴ製品向けに有機ＥＬパネル用のフォトマスク需要は増加すると想定しております。これらの需要を獲得するため、生産能力の向上と高精細対応を目的とした成長投資を行い、収益力の向上を図ってまいります。

② 新規事業立ち上げによる収益基盤の拡大
　フォトマスク事業に次ぐ新たな事業として、現在、ＲＦＩＤ分野、ヘルスケア分野に挑戦し、早期黒字化を目指しております。ＲＦＩＤ分野では「エクストリームタグ」、ヘルスケア分野では「デジタルコルポスコープＱ－ＣＯ」や「電気刺激装置ＷＩＬＭＯ」の拡販に努め、取扱製品拡充や新たな自社製品の開発などにも取り組んでまいります。また、新たな領域への参入、Ｍ＆Ａについても検討を進めてまいります。

③ 関連子会社によるグループ力の向上
　フォトマスク事業に関して、台湾では製造および販売、中国、韓国では販売を行っており、当社を含めた各社が連携をより深めることで既存顧客に対するシェア向上と新規取引先の開拓に取り組むとともに、ヘルスケア分野の製品販路拡大を推進することにより、当社グループとしての総合力の向上を目指してまいります。また、当連結会計年度はアサヒテック株式会社を当社グループに迎え入れており、今後の更なる総合力の向上を目指してまいります。

④ 持続的成長を支える経営基盤の強化
　当社グループの今後の成長を促し企業価値を向上させるために、コーポレート・ガバナンスの強化とともに、人材育成、環境負荷低減、事業による社会貢献などに取り組んでまいります。特に人材については、持続的な成長の源泉であると考えており、経営を担える人材、専門性を有するプロフェッショナルな人材の獲得や育成に注力してまいります。

３ 【事業等のリスク】
有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。
なお、文中における将来に関する事項は、当該有価証券報告書提出日現在において、当社グループが判断したものであります。

(1) 需要動向について
当社グループが製造・販売する大型フォトマスクに関する需要は、当社グループの顧客であるパネルメーカーの設備投資動向や生産・開発動向に影響を受けることから、国内外の経済情勢や市況の下降局面、又は顧客の経営方針や経営環境の変化により変動すると考えられ、その変動が大きい場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(2) 競争環境について
当社グループが属する大型フォトマスク市場においては、主要顧客であるパネルメーカー間による技術競争、コストダウン圧力により、当社グループと競合他社との間で日常的に厳しい競争環境が発生しております。当社グループでは、競争優位を確保するため、生産性向上や納期短縮、部材調達コスト低減及び固定費削減などの経営努力を強力に推進しておりますが、今後、当社グループの想定した以上に競争環境が厳しくなった場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(3) 設備投資による影響について
大型フォトマスク事業の成長において設備投資の継続実施は不可欠なものであります。その際には、将来の需要を予測し、これに見合った生産能力を実現できるよう設備投資を実施しておりますが、当社グループの予測した需要の増加が得られないことによって当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(4) 海外での事業展開について
当社グループの当連結会計年度における海外売上高は261億64百万円(間接輸出含む)となっており、連結売上高総額に対する割合は、89.6％となっております。今後も中国、韓国、台湾等の海外市場の拡大が見込まれ、海外企業への売上高は増加することが予想されます。中国、韓国、台湾において政治的、経済的リスクがあり、関係が急速に悪化する可能性があります。また、国際税務に関する考え方の変化により、移転価格税制等に対する見解が変更される可能性もあります。このような現地での社会的あるいは経済的環境の変化が生じた場合には当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(5) 固定資産の減損損失計上について
当社グループが保有する製造装置等の固定資産について、収益性の低下により投資額の回収が見込めなくなる可能性があります。その結果、減損損失を認識するに至った場合には、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(6) 少数取引先への依存について
大型フォトマスク事業においては、当社グループの販売上位数社への販売依存度は高く、また、主要な仕入先は、高品質な主材料を生産するメーカー及び生産設備メーカーが限られております。当社グループとこれらの取引先とは良好な関係を保っておりますが、このような取引関係が困難になった場合、あるいは、良好な関係は維持しつつも、これら主要顧客からの受注が想定以上に減少、もしくは主要な仕入先からの購入が困難になった場合には、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(7) 新規事業や新製品開発について
当社グループでは、フォトマスク事業につづく新規事業を立ち上げて収益基盤を拡大することに取り組んでおります。新規事業が安定して収益を生み出すまでには、一定の期間と投資が必要となりますが、事業環境の急激な変化により当社グループが予想した通りに新規事業が進展しなかった場合には、投資が回収できず当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(8) 生産・開発拠点について
当社グループは、生産・開発拠点を国内（京都府・滋賀県）及び台湾（台南）と、大型フォトマスクの販売先であるパネルメーカーが集中する東アジアに集約することで、効率的な生産・開発体制を構築し、製品の品質、精度、価格競争力等を高めてまいりました。しかしながら、当該地域は地震等の災害発生リスクが高いことにより、主要な生産設備には免震装置を設置するなどの対策を講じております。また、生産設備においては、定期的なメンテナンスやリプレイス等の老朽化対策を行い継続的な生産活動の維持、向上に努めておりますが、当社グループの想定を超えた大規模地震等の災害の発生や予期せぬ重大な装置トラブル、労働災害の発生により、当社グループの生産・開発体制に支障が生じ、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(9) 自然災害、事故等について
当社グループでは、地震、風水害、火災、落雷の他、大規模事故、爆発、紛争、テロ行為、広域疾病その他緊急対応が必要な場合に、人命、会社資産、業務の維持・継続を図り、迅速的確な対応を可能とするための事業継続計画を設定し、自然災害、事故等に備えておりますが、当社グループの想定を超えた災害の発生により、当社グループ及び取引先の事業活動に直接的又は間接的な被害が発生した場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(10) 知的財産について
当社グループは、フラットパネルディスプレー用フォトマスクメーカーの先駆者として、製品競争力強化のために技術・ノウハウ・知的財産権等を蓄積しております。これらの保全には細心の注意を払っておりますが、第三者により侵害される、あるいは当社の認識の範囲外で第三者から知的財産権を侵害したと主張された場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(11) 人材育成及び確保について
当社グループは、持続的成長を支える経営基盤の強化を図るためにも、優秀な人材を確保する必要があります。当社グループでは、幅広い基礎知識と豊富な経験を持つ人材を多数確保しており、また継続的に教育・研修を行い、当社グループを支える次世代の中核人材育成を強化しておりますが、有能な人材の確保及び育成が想定通りに進捗しなかった場合、あるいは当社グループの人材が社外に流出した場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(12) 情報セキュリティについて
当社グループは、顧客との信頼関係、社会的信用、技術競争力の維持・強化を目的として、当社グループが保有する情報資産の保護に努めるため、情報セキュリティポリシーに基づく社内規程の整備、教育・研修の実施並びに内部監査の実施などにより、強固な情報セキュリティ管理体制を構築しておりますが、コンピューターウィルスの感染や不正アクセス、その他の不測の事態により、これらの情報が流出した場合、社会的信用の低下や多額の賠償費用等の負担が生じ、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(13) 戦略的提携、投資及び企業買収について
当社グループでは、企業競争力の強化や収益性の向上のために、先行的な設備投資や他企業との協業、買収を実施する可能性があります。とりわけ企業買収においては、さまざまな角度から十分な検討を行いますが、買収後に事業計画通りに進捗しない場合は、当社グループの財政状況及び業績に影響を及ぼす可能性があります。

(14) 原材料の調達について
当社グループの製品である大型フォトマスクの主要素材は、合成石英を原材料としたマスクブランクスであります。当社グループでは、複数のサプライヤーと契約を締結し、安定的な調達を心がけておりますが、急激な市場変動や取引量あるいは調達価格の変動などにより、材料調達の遅延、数量不足又は調達コストが増加した場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(15) 係争・紛争について
当社グループの事業活動にあたっては、内部統制を強化し、法令遵守、コンプライアンスの強化、各種リスクの低減に努めると共に、必要に応じて弁護士等の外部専門家の助言等を受けております。しかしながら、法令などの違反の有無にかかわらず訴訟を提起される可能性があり、当社グループに不利な判断がなされた場合には、当社グループの業績に影響を与える可能性があります。

(16) 為替変動の影響について
当社グループにおける海外取引は円建てを基本としておりますが、一部の販売先が外貨建取引につき、今後の取引の拡大及び大幅な為替相場変動により、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(17) 製造物責任について
当社グループが取り扱うすべての製品・商品について製造物責任賠償リスクが内在しております。特に、新規事業として取り組んでおりますヘルスケア分野では、管理医療機器を販売しており、この製品に何らかの問題が発生した場合には、人体への影響、被害を考慮して自主回収を行うことがあり、その場合には回収に時間及び多大な費用を要し、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(18) 環境問題について
当社グループでは、環境問題への取り組みは企業価値向上につながる重要な企業活動の一つであると考え、エネルギー使用量削減や廃棄物削減、社内講演会の開催や環境関連施設の見学等、事業活動における環境負荷を低減するため、さまざまな環境保全活動を行っておりますが、恒久的に環境問題を発生させないとの保証はなく、それが生じた場合、多額の費用負担の発生及び企業イメージの悪化により、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(19) 反社会的勢力との取引について
当社グループは、反社会的勢力との関係が疑われる者との取引を排除すべく、新規の取引に先立ち、反社会的勢力との関係に関する情報の有無の確認や反社会的勢力ではないことの表明及び確約書の締結をするなど、反社会的勢力とのあらゆる取引を排除すべく必要な手続きを行っています。しかしながら、当社グループの厳格なチェックにもかかわらず、反社会的勢力との取引を排除できない可能性があります。このような問題が認められた場合、対策費用の増大、監督官庁等による処分・命令、社会的な評判の低下等により、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。

(2) 【役員の状況】
①役員一覧
a.2025年12月18日（有価証券報告書提出日）現在の当社の役員の状況は、以下のとおりであります。
男性10名　女性2名　(役員のうち女性の比率16.7％)

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株
式数(株)

代表取締役
社長

石　田　昌　德

1969年９月10日

1992年４月

大日本スクリーン製造株式会社(現株式会社SCREENホールディングス)入社

1997年７月

株式会社写真化学入社

2000年６月

同社取締役

2001年10月

当社取締役

2002年５月

頂正科技股份有限公司董事長

2003年10月

当社常務取締役

2005年11月

SKE KOREA CO.,LTD.代表理事

2008年10月

当社専務取締役

2010年９月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長

2011年10月

当社代表取締役社長(現任)

2013年１月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長

(注)４

311,200

取締役相談役

石　田　敬　輔

1945年12月23日

1967年２月

石田旭山印刷株式会社(現株式会社写真化学)取締役

1975年４月

DS.AMERICA INC.副社長

1978年６月

株式会社写真化学代表取締役社長

1996年４月

同社代表取締役会長

2000年４月

同社代表取締役会長兼社長

2001年10月

当社取締役会長

2005年６月

株式会社堀場製作所社外監査役

2016年10月

当社取締役相談役(現任)

2019年４月

株式会社写真化学代表取締役会長

2021年６月

同社取締役会長(現任)

(注)４

300,200

取締役
 フォトマスク
事業本部担当
フォトマスク
事業本部長

上　野　篤　雄

1961年12月20日

1987年４月

株式会社写真化学入社

2007年10月

当社営業本部長

2008年10月

当社執行役員

2010年５月

頂正科技股份有限公司総経理

2013年11月

同社董事長

2013年12月

当社取締役フォトマスク事業本部担当
フォトマスク事業本部長(現任)

2020年12月

SKE KOREA CO.,LTD.代表理事

2021年１月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長(現任)

(注)４

8,400

取締役
 経営戦略室担当

向　田　泰　久

1962年５月22日

1986年４月

日本生命保険相互会社入社

2006年３月

同社福井支社支社長

2009年３月

同社東京西支社支社長

2011年３月

同社本店法人営業第一部法人営業部長

2014年４月

当社顧問

2014年10月

当社執行役員

2015年10月

当社執行役員管理本部長

2015年12月

当社取締役管理本部担当管理本部長

2017年10月

当社取締役管理本部担当

2017年12月

当社取締役経営戦略室担当(現任)

(注)４

2,300

取締役
生産本部担当
技術開発本部担当
知財グループ担当

橋　本　昌　典

1962年２月13日

1991年２月

株式会社写真化学入社

2013年４月

当社生産本部長

2013年10月

頂正科技股份有限公司総経理

2016年10月

当社フォトマスク事業本部生産本部長

2019年10月

当社執行役員フォトマスク事業本部生産本部長

2019年12月

当社取締役フォトマスク事業本部生産本部長

2020年10月

当社取締役知財グループ担当
フォトマスク事業本部生産本部長

2022年10月

当社取締役生産本部担当兼技術開発本部担当兼知財グループ担当(現任)

(注)４

6,600

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株
式数(株)

取締役
 新領域創造室担当
 ソリューション
事業部担当

阿　部　和　香

1972年６月15日

2004年３月

当社入社

2013年４月

当社経営戦略室副室長

2014年４月

株式会社写真化学入社

2014年６月

同社取締役

2019年11月

当社顧問

2019年12月

当社取締役事業開発室担当

2021年６月

株式会社アイティフォー社外取締役(現任)

2022年４月

当社取締役新領域創造室担当兼ソリューション事業部担当(現任)

2025年３月

株式会社モニクル社外監査役(現任)

(注)４

103,600

取締役
 管理本部担当

奥　田　正　男

1962年12月16日

1985年４月

株式会社京都銀行入行

2004年10月

同行富野荘支店長

2006年９月

同行八尾支店長

2009年１月

同行寝屋川支店長

2010年12月

同行西院支店長

2014年６月

同行執行役員個人営業部長

2015年６月

同行執行役員営業統轄部長

2017年６月

同行執行役員監査部長

2020年７月

当社顧問

2020年12月

当社取締役管理本部担当(現任)

(注)４

2,300

取締役
(常勤監査等委員)

前　野　隆　一

1959年９月19日

1983年10月

株式会社写真化学入社

2007年10月

頂正科技股份有限公司総経理

2008年10月

当社執行役員

2009年11月

頂正科技股份有限公司董事長兼総経理

2010年４月

当社執行役員生産本部長

2011年12月

当社取締役

2013年11月

当社取締役事業開発室担当事業開発室長

2015年７月

株式会社清原光学代表取締役社長

2015年10月

当社取締役事業開発室担当

2016年10月

当社取締役

2018年12月

当社取締役(常勤監査等委員)(現任)

(注)５

3,400

取締役
(監査等委員)

中　野　雄　介

1969年５月15日

2002年４月

公認会計士登録

2005年７月

清友監査法人代表社員(現任)

2006年４月

立命館大学専門職大学院経営管理研究科客員准教授

2010年１月

中野公認会計士事務所所長(現任)

2011年６月

株式会社フジックス社外監査役

2014年12月

当社監査役

2015年６月

日本写真印刷株式会社(現NISSHA株式会社)社外監査役(現任)

2016年６月

ワタベウェディング株式会社社外監査役

2018年12月

当社取締役(監査等委員)(現任)

2021年６月

三洋化成工業株式会社社外監査役(現任)

2023年11月

清友税理士法人代表社員(現任)

(注)５

1,800

取締役
(監査等委員)

佐々木　真一郎

1971年５月28日

2005年12月

京都弁護士会登録

2005年12月

益川総合法律事務所入所

2012年４月

日東化成株式会社社外監査役(現任)

2012年６月

佐々木総合法律事務所所長(現任)

2016年12月

株式会社エスユーエス社外監査役(現任)

2022年12月

当社取締役(監査等委員)(現任)

(注)５

1,300

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株
式数(株)

取締役
(監査等委員)

立　石　知　雄

1969年２月６日

1993年10月

オムロン コミュニケーションクリエイツ株式会社入社

1998年９月

株式会社サイバード取締役

2002年７月

オムロン株式会社

2004年６月

株式会社サンエイトホールディングス代表取締役

2004年７月

株式会社サンエイトインベストメント代表取締役

2004年８月

株式会社サンエイトマーケティング(現株式会社キョーエン)代表取締役(現任)

2005年１月

株式会社CHINTAI取締役

2017年４月

株式会社ビューケン取締役(現任)

2018年６月

株式会社桑山監査役(現任)

2018年９月

NPO法人キッズアートプロジェクト理事

2018年12月

株式会社エスユーエス社外取締役(現任)

2022年１月

株式会社アートの森(現株式会社clarus)取締役(現任)

2022年10月

株式会社インデン社外取締役(現任)

2022年10月

NPO法人キッズアートプロジェクトアドバイザー(現任)

2022年12月

当社取締役(監査等委員)(現任)

(注)５

1,600

取締役
(監査等委員)

神　服　佐知子

1974年９月29日

1997年４月

全日本空輸株式会社入社

1998年３月

スイス航空株式会社入社

2002年７月

ケイアイ興産株式会社入社

2005年８月

KLMオランダ航空会社入社

2007年２月

フォーシーズインターナショナル株式会社代表取締役(現任)

2024年12月

当社取締役(監査等委員)(現任)

(注)５

300

計

743,000

(注) １　代表取締役社長 石田昌德は、取締役相談役 石田敬輔の実子であります。
２　取締役 阿部和香は、代表取締役社長 石田昌德の妹であります。
３　取締役　中野雄介、佐々木真一郎、立石知雄、神服佐知子は、社外取締役であります。
４　取締役(監査等委員である取締役を除く。)の任期は、2024年９月期に係る定時株主総会終結の時から2025年９月期に係る定時株主総会終結の時までであります。
５　監査等委員である取締役の任期は、2024年９月期に係る定時株主総会終結の時から2026年９月期に係る定時株主総会終結の時までであります。
６　監査等委員会の体制は、次のとおりであります。
委員長　前野隆一、委員　中野雄介、委員　佐々木真一郎、委員　立石知雄、委員　神服佐知子

b.2025年12月19日開催予定の定時株主総会の議案（決議事項）として、「取締役（監査等委員である取締役を除く。）７名選任の件」を提案しており、当該議案が承認可決されますと、当社の役員の状況は以下のとおりとなる予定です。なお、役員の役職等につきましては、当該定時株主総会の直後に開催が予定される取締役会の決議事項の内容（役職等）を含めて記載しております。
男性10名　女性2名　(役員のうち女性の比率16.7％)

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株
式数(株)

代表取締役
社長

石　田　昌　德

1969年９月10日

1992年４月

大日本スクリーン製造株式会社(現株式会社SCREENホールディングス)入社

1997年７月

株式会社写真化学入社

2000年６月

同社取締役

2001年10月

当社取締役

2002年５月

頂正科技股份有限公司董事長

2003年10月

当社常務取締役

2005年11月

SKE KOREA CO.,LTD.代表理事

2008年10月

当社専務取締役

2010年９月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長

2011年10月

当社代表取締役社長(現任)

2013年１月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長

(注)３

311,200

常務取締役
 新領域創造室および
 ソリューション
事業部管掌
フォトマスク
事業本部担当
フォトマスク
事業本部長

上　野　篤　雄

1961年12月20日

1987年４月

株式会社写真化学入社

2007年10月

当社営業本部長

2008年10月

当社執行役員

2010年５月

頂正科技股份有限公司総経理

2013年11月

同社董事長

2013年12月

当社取締役フォトマスク事業本部担当
フォトマスク事業本部長

2020年12月

SKE KOREA CO.,LTD.代表理事

2021年１月

愛史科電子貿易(上海)有限公司董事長(現任)

2025年12月

当社常務取締役新領域創造室およびソリューション事業部管掌フォトマスク事業本部担当フォトマスク事業本部長(現任)

(注)３

8,400

取締役
 経営戦略室担当

向　田　泰　久

1962年５月22日

1986年４月

日本生命保険相互会社入社

2006年３月

同社福井支社支社長

2009年３月

同社東京西支社支社長

2011年３月

同社本店法人営業第一部法人営業部長

2014年４月

当社顧問

2014年10月

当社執行役員

2015年10月

当社執行役員管理本部長

2015年12月

当社取締役管理本部担当管理本部長

2017年10月

当社取締役管理本部担当

2017年12月

当社取締役経営戦略室担当(現任)

(注)３

2,300

取締役
生産本部担当
知財グループ担当

橋　本　昌　典

1962年２月13日

1991年２月

株式会社写真化学入社

2013年４月

当社生産本部長

2013年10月

頂正科技股份有限公司総経理

2016年10月

当社フォトマスク事業本部生産本部長

2019年10月

当社執行役員フォトマスク事業本部生産本部長

2019年12月

当社取締役フォトマスク事業本部生産本部長

2020年10月

当社取締役知財グループ担当
フォトマスク事業本部生産本部長

2022年10月

当社取締役生産本部担当兼技術開発本部担当兼知財グループ担当

2025年12月

当社取締役生産本部担当兼知財グループ担当(現任)

(注)３

6,600

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株
式数(株)

取締役
 新領域創造室担当
 ソリューション
事業部担当

阿　部　和　香

1972年６月15日

2004年３月

当社入社

2013年４月

当社経営戦略室副室長

2014年４月

株式会社写真化学入社

2014年６月

同社取締役

2019年11月

当社顧問

2019年12月

当社取締役事業開発室担当

2021年６月

株式会社アイティフォー社外取締役(現任)

2022年４月

当社取締役新領域創造室担当兼ソリューション事業部担当(現任)

2025年３月

株式会社モニクル社外監査役(現任)

(注)３

103,600

取締役
 管理本部担当

奥　田　正　男

1962年12月16日

1985年４月

株式会社京都銀行入行

2004年10月

同行富野荘支店長

2006年９月

同行八尾支店長

2009年１月

同行寝屋川支店長

2010年12月

同行西院支店長

2014年６月

同行執行役員個人営業部長

2015年６月

同行執行役員営業統轄部長

2017年６月

同行執行役員監査部長

2020年７月

当社顧問

2020年12月

当社取締役管理本部担当(現任)

(注)３

2,300

取締役
 技術開発本部担当
 フォトマスク事業本部
 技術開発本部長

小　西　芳　広

1966年１月２日

1992年４月

松下電器産業株式会社（現パナソニックホールディングス株式会社）入社

2003年９月

シャープ株式会社入社

2016年10月

当社入社

2018年10月

当社フォトマスク事業本部技術開発本部長

2022年10月

当社執行役員フォトマスク事業本部技術開発本部長

2025年12月

当社取締役技術開発本部担当
フォトマスク事業本部技術開発本部長(現任)

(注)３

―

取締役
(常勤監査等委員)

前　野　隆　一

1959年９月19日

1983年10月

株式会社写真化学入社

2007年10月

頂正科技股份有限公司総経理

2008年10月

当社執行役員

2009年11月

頂正科技股份有限公司董事長兼総経理

2010年４月

当社執行役員生産本部長

2011年12月

当社取締役

2013年11月

当社取締役事業開発室担当事業開発室長

2015年７月

株式会社清原光学代表取締役社長

2015年10月

当社取締役事業開発室担当

2016年10月

当社取締役

2018年12月

当社取締役(常勤監査等委員)(現任)

(注)４

3,400

取締役
(監査等委員)

中　野　雄　介

1969年５月15日

2002年４月

公認会計士登録

2005年７月

清友監査法人代表社員(現任)

2006年４月

立命館大学専門職大学院経営管理研究科客員准教授

2010年１月

中野公認会計士事務所所長(現任)

2011年６月

株式会社フジックス社外監査役

2014年12月

当社監

２ 【沿革】
当社は、2001年10月１日に株式会社写真化学のエレクトロニクス事業部門に属する権利義務を承継し、会社分割により設立いたしました。
この会社分割は、これまで多角的な事業展開を行ってきた株式会社写真化学が、各々の業界に対し機動的な事業運営を行い、かつ事業特性を生かした経営に特化することで、各会社の企業価値を高めることを目的としたものであります。

当社の設立以後の企業集団に係る経緯は、以下のとおりであります。

年月

概要

2001年10月

㈱写真化学のエレクトロニクス事業部門を会社分割により独立させ、京都市上京区に当社を設立。

2002年５月

台湾に大型フォトマスクの製造・販売会社として、連結子会社「頂正科技股份有限公司」を設立。

2002年９月

久御山事業所(現：京都工場)において「ISO14001」認証取得。

2003年９月

日本証券業協会(現：東京証券取引所)に店頭登録銘柄として登録。

2004年７月

頂正科技股份有限公司において「ISO9001」認証取得。

2004年12月

日本証券業協会への店頭登録を取り消し、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ(現：東京証券取引所スタンダード市場)に株式を上場。

2005年１月

久御山事業所（現：京都工場）に世界初の第８世代対応の新工場竣工。

2005年11月

韓国に大型フォトマスクの販売会社として、連結子会社「SKE KOREA CO.,LTD.」を設立。

2008年11月

世界初の第10世代、第11世代対応の滋賀工場竣工。

2008年12月

頂正科技股份有限公司において「ISO14001」認証取得。

2009年３月

世界初の第10世代用フォトマスクの生産、出荷開始。

2010年９月

中国に販売会社として、連結子会社「愛史科電子貿易(上海)有限公司」を設立。

2011年９月

滋賀工場において、「ISO14001」拡張認証取得。

2012年11月

京都工場において「OHSAS18001」認証取得。

2013年12月

台湾に頂正科技股份有限公司の営業拠点として、台北支社を開設。

2014年７月

各種オフセット印刷向けガラスドライエッチング版の販売を開始。

2014年10月

京都府から「第二種医療機器製造販売業」の業許可を取得。

2016年６月

高度管理医療機器等販売業・貸与許可証取得（医療機関QMS）

2017年６月

「電気刺激装置 ＷＩＬＭＯ」の販売開始。

2018年６月

「ピッキングタグ」の販売開始。

2019年３月

本社、京都工場において「ISO13485」認証取得。

2020年８月

京都工場において「ISO45001」認証取得。

2020年９月

「デジタルコルポスコープＱ-ＣＯ」の販売開始。

2022年５月

「エクストリームタグ」の販売開始。

2025年５月

「アサヒテック株式会社」を子会社化。

(参考)
㈱写真化学における概要について記載いたします。

年月

概要

明治初頭

石田才次郎(当社取締役相談役石田敬輔の曾祖父)が銅版彫刻印刷を手掛け、石田旭山印刷所として事業開始。

1934年３月

石田旭山印刷㈱(現：㈱写真化学)を設立。

1937年５月

ガラススクリーン研究部門を分離(1943年10月、法人化により大日本スクリーン製造㈱(現㈱SCREENホールディングス)として設立)。

1964年３月

本店を移転(京都市上京区)。

1970年５月

商号を㈱写真化学に変更。

1971年９月

エレクトロニクス事業部門(現：当社事業)を新設。

1981年12月

久御山事業所(現：京都工場)を開設。

1988年３月

久御山事業所(現：京都工場)に新工場(現：当社大型フォトマスク事業)を増設。
世界初の大型ＥＢ描画装置を導入。

1995年９月

工場・設備を一新し、業界に先駆けて、800mmサイズの大型フォトマスク製造を実現。

1999年４月

電子事業部(現：当社大型フォトマスク事業)において「ISO9002(現・ISO9001)」認証取得。